JPH034819Y2 - - Google Patents
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- JPH034819Y2 JPH034819Y2 JP13581286U JP13581286U JPH034819Y2 JP H034819 Y2 JPH034819 Y2 JP H034819Y2 JP 13581286 U JP13581286 U JP 13581286U JP 13581286 U JP13581286 U JP 13581286U JP H034819 Y2 JPH034819 Y2 JP H034819Y2
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- Japan
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- corrosion
- ductile
- nut
- oxide film
- bolt
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- Expired
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
この考案は、耐蝕性ボルトナツトに関し、詳し
くは地中埋設されるダクタイル管の接続に使用さ
れる耐蝕性ボルトナツトに関する。 〔従来の技術〕 地中埋設管は、地下水、及び地中迷走電流等の
影響により比較的腐蝕されやすく、従つてこれら
影響を無くすため、頑丈な防蝕皮膜が設けられる
のが通常である。 しかしながら、管接続を行う場合、ボルトナツ
トにより接続部を強く締め付けた場合、この締付
力により防蝕皮膜が破壊され、ここから腐蝕が進
行することが有る。 この場合の腐蝕はダクタイル管とボルトナツト
の有する電位差に起因して生じる、いわゆる電蝕
によるものであるため、一般にかかる部分に使用
するボルトナツトをダクタイル管より電位の高い
金属製とすることが行なわれる。 〔従来技術の問題点〕 しかしながら、上記手段は、腐蝕の進行速度を
遅延させ得ても、腐蝕そのものの防止は行なえず
いずれこれらの耐用寿命が尽きるのは防止するこ
とが出来ないといつた問題が有る。 また、かかる問題を解消するため、ボルトナツ
ト表面にきわめて耐蝕性に富む酸化皮膜を形成
し、ボルトナツト自身の耐蝕性を向上することも
提案されているが、衝撃等により上記酸化皮膜が
破壊されてしまえば、既述の従来例と同様腐蝕進
行は防止出来なくなる問題が有つた。 〔考案が解決する問題点〕 この考案は、上記問題点に鑑み、きわめて耐蝕
性に富み、長期にわたつて使用し得る耐蝕性ボル
トナツトを提供することを目的としてなされたも
のである。 〔問題点を解決する技術〕 即ち、この考案の耐蝕性ボルトナツトは、低合
金ダクタイルより成るボルトナツト表面にポーラ
スな構造を有する酸化皮膜が形成され、該酸化皮
膜に含浸させたプライマー層上に合成樹脂塗膜が
形成されて成ることを特徴とするものである。 〔作用〕 この考案において、低合金ダクタイルとは、ダ
クタイルに銅0.5％ニツケル１％を添加して成る
合金を言う。 従つて、該低合金ダクタイルは、ダクタイル管
に比し電位が高くなり、素材自体が防蝕性を有す
る。 この素材表面にポーラスな構造の酸化皮膜を形
成し、これにプライマーを含浸させた上で合成樹
脂塗膜を形成するため、合成樹脂塗膜の密着性が
非常に良くなり、界面剥離が無くなると共に酸化
皮膜、及び合成樹脂塗膜との協働により、二重、
三重に素地が保護され、またもし、これら皮膜に
破壊が生じても低合金ダクタイルの電位差により
ダクタイル管の腐蝕の進行が防止される。 〔実施例〕 次に、この考案の実施例を説明する。 第１図は、この考案の実施例の要部拡大断面図
である。 この考案の耐蝕性ボルトナツト１は、ダクタイ
ルに銅0.5％、ニツケル１％を添加して成る低合
金ダクタイルより成るボルトナツト１Ａ表面にポ
ーラスな構造を有する酸化皮膜２が形成され、こ
くは地中埋設されるダクタイル管の接続に使用さ
れる耐蝕性ボルトナツトに関する。 〔従来の技術〕 地中埋設管は、地下水、及び地中迷走電流等の
影響により比較的腐蝕されやすく、従つてこれら
影響を無くすため、頑丈な防蝕皮膜が設けられる
のが通常である。 しかしながら、管接続を行う場合、ボルトナツ
トにより接続部を強く締め付けた場合、この締付
力により防蝕皮膜が破壊され、ここから腐蝕が進
行することが有る。 この場合の腐蝕はダクタイル管とボルトナツト
の有する電位差に起因して生じる、いわゆる電蝕
によるものであるため、一般にかかる部分に使用
するボルトナツトをダクタイル管より電位の高い
金属製とすることが行なわれる。 〔従来技術の問題点〕 しかしながら、上記手段は、腐蝕の進行速度を
遅延させ得ても、腐蝕そのものの防止は行なえず
いずれこれらの耐用寿命が尽きるのは防止するこ
とが出来ないといつた問題が有る。 また、かかる問題を解消するため、ボルトナツ
ト表面にきわめて耐蝕性に富む酸化皮膜を形成
し、ボルトナツト自身の耐蝕性を向上することも
提案されているが、衝撃等により上記酸化皮膜が
破壊されてしまえば、既述の従来例と同様腐蝕進
行は防止出来なくなる問題が有つた。 〔考案が解決する問題点〕 この考案は、上記問題点に鑑み、きわめて耐蝕
性に富み、長期にわたつて使用し得る耐蝕性ボル
トナツトを提供することを目的としてなされたも
のである。 〔問題点を解決する技術〕 即ち、この考案の耐蝕性ボルトナツトは、低合
金ダクタイルより成るボルトナツト表面にポーラ
スな構造を有する酸化皮膜が形成され、該酸化皮
膜に含浸させたプライマー層上に合成樹脂塗膜が
形成されて成ることを特徴とするものである。 〔作用〕 この考案において、低合金ダクタイルとは、ダ
クタイルに銅0.5％ニツケル１％を添加して成る
合金を言う。 従つて、該低合金ダクタイルは、ダクタイル管
に比し電位が高くなり、素材自体が防蝕性を有す
る。 この素材表面にポーラスな構造の酸化皮膜を形
成し、これにプライマーを含浸させた上で合成樹
脂塗膜を形成するため、合成樹脂塗膜の密着性が
非常に良くなり、界面剥離が無くなると共に酸化
皮膜、及び合成樹脂塗膜との協働により、二重、
三重に素地が保護され、またもし、これら皮膜に
破壊が生じても低合金ダクタイルの電位差により
ダクタイル管の腐蝕の進行が防止される。 〔実施例〕 次に、この考案の実施例を説明する。 第１図は、この考案の実施例の要部拡大断面図
である。 この考案の耐蝕性ボルトナツト１は、ダクタイ
ルに銅0.5％、ニツケル１％を添加して成る低合
金ダクタイルより成るボルトナツト１Ａ表面にポ
ーラスな構造を有する酸化皮膜２が形成され、こ
この考案は、以上説明したように、ボルトナツ
トは、合成樹脂塗膜、酸化皮膜により二重に被覆
されている上、合成樹脂塗膜はポーラスな構造の
酸化皮膜に含浸させたプライマーにより強固に接
着されるので剥離が殆ど生じることが無く、長期
にわたり安定した防蝕機能を営むと共に、もし仮
に塗膜等が破壊されてもボルトナツトの素地が電
位の高い低合金ダクタイルとされているので、腐
蝕がダクタイル管に進行するのが喰い止められる
等、種々の実用的効果を有する。
トは、合成樹脂塗膜、酸化皮膜により二重に被覆
されている上、合成樹脂塗膜はポーラスな構造の
酸化皮膜に含浸させたプライマーにより強固に接
着されるので剥離が殆ど生じることが無く、長期
にわたり安定した防蝕機能を営むと共に、もし仮
に塗膜等が破壊されてもボルトナツトの素地が電
位の高い低合金ダクタイルとされているので、腐
蝕がダクタイル管に進行するのが喰い止められる
等、種々の実用的効果を有する。
第１図はこの考案の実施例の要部拡大断面図で
ある。
ある。
Claims (1)
- 低合金ダクタイルより成るボルトナツト表面に
ポーラスな構造を有する酸化皮膜が形成され、該
酸化皮膜に含浸させたプライマー層上に合成樹脂
塗膜が形成されて成ることを特徴とする耐蝕性ボ
ルトナツト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13581286U JPH034819Y2 (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13581286U JPH034819Y2 (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6345209U JPS6345209U (ja) | 1988-03-26 |
| JPH034819Y2 true JPH034819Y2 (ja) | 1991-02-07 |
Family
ID=31038352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13581286U Expired JPH034819Y2 (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH034819Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9175876B2 (en) | 2009-03-09 | 2015-11-03 | Heat Wave Technologies, Llc | Self-heating systems and methods for rapidly heating a comestible substance |
| US9598186B2 (en) | 2009-03-09 | 2017-03-21 | Heat Wave Technologies, Llc | Self-heating systems and methods for rapidly heating a comestible substance |
-
1986
- 1986-09-03 JP JP13581286U patent/JPH034819Y2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9175876B2 (en) | 2009-03-09 | 2015-11-03 | Heat Wave Technologies, Llc | Self-heating systems and methods for rapidly heating a comestible substance |
| US9598186B2 (en) | 2009-03-09 | 2017-03-21 | Heat Wave Technologies, Llc | Self-heating systems and methods for rapidly heating a comestible substance |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6345209U (ja) | 1988-03-26 |
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