JPH0351802A - 多層反射防止フイルムの製造法 - Google Patents

多層反射防止フイルムの製造法

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JPH0351802A
JPH0351802A JP1188096A JP18809689A JPH0351802A JP H0351802 A JPH0351802 A JP H0351802A JP 1188096 A JP1188096 A JP 1188096A JP 18809689 A JP18809689 A JP 18809689A JP H0351802 A JPH0351802 A JP H0351802A
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JP
Japan
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film
deposited film
vapor
refractive index
roll
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Application number
JP1188096A
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English (en)
Inventor
Tsukasa Miyazaki
司 宮崎
Yasuhito Owaki
泰人 大脇
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は巻取式真空蒸着装置を用いた多層反射防止フィ
ルムの製造法に関する。
〔従来の技術〕
各種コンピュータのデイスプレィやテレビのブラウン管
などに用いる反射防止フィルムとして、基材フィルム上
に高屈折率誘電体からなる第1層と低屈折率誘電体から
なる第2層との2層構成の反射防止層を設けたものが知
られている。
このような反射防止層の形成を真空蒸着法で行うときに
は、第1層と第2Nとの形成に別種の誘電体材料が必要
であるうえに、両層を順番に形成しなければならず、こ
の場合第1層の形成後に蒸着装置をリークし、蒸発源の
変更、蒸着装置の清掃、真空引きなどの面倒な手続きを
必要とするため、作業性に著しく劣るという難点がある
このため、生産設備としては、従来より、−度に大面積
の誘電体層を形成しうる巻取式真空蒸着装置、すなわち
、真空チャンバー内の供給ロールと巻取ロールとの間に
導通されて蒸着ロール面に沿って流れるフィルム基材に
対し上記の蒸着ロール上で蒸発源の真空蒸着を連続的に
行うようにした蒸着装置が開発されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかるに、このような巻取式真空蒸着装置によって、生
産性のある程度の向上を図ることはできても、第1層と
第2層とを別々に形成しなければならないことに変わり
はないため、蒸発源の変更やそれに伴う蒸着装置の清掃
などはやはり必要で、むしろこれらの手続きはバッチ式
装置に較べてさらに繁雑になるきらいがある。
ところで、この発明者らは、先に1.ZrO,の如き高
屈折率の誘電体材料をフィルム基材に対して斜めに蒸着
したとき、通常の垂直蒸着を行ったときよりもその屈折
率が低くなることに気付き、これを利用して、ひとつの
誘電体材料から、垂直蒸着膜からなる高屈折率誘電体層
と斜め蒸着膜からなる低屈折率誘電体層との2層構成の
反射防止層を形成する方法を見い出している。
この発明は、この先行発明に係る方法を前記した巻取式
真空蒸着装置に応用することにより、多層反射防止フィ
ルムの生産性と作業性とをより一段と改善することを目
的としている。
〔課題を解決するための手段〕
この発明者らは、上記の応用に際し、巻取式真空蒸着装
置の蒸着ロールと蒸発源との間に、フィルム基材の流れ
方向に垂直蒸着膜と斜め蒸着膜とを順次連続的に形成す
るための特定の防着板を介在させることにより、上記の
目的をみごと達成できることを知り、この発明を完成し
た。
すなわち、この発明は、蒸着ロール面に沿って流れるフ
ィルム基材に対し上記ロール上で蒸発源の真空蒸着を行
う巻取式真空蒸着装置を用いて、フィルム基材上に高屈
折率誘電体層と低屈折率誘電体層との2N構成の反射防
止層を形成するにあたり、上記の蒸着ロールと蒸発源と
の間に、垂直蒸着膜形成用の透孔と斜め蒸着膜形成用の
透孔とを有する防着板を介在させることにより、ひとつ
の蒸発源を使って、フィルム基材上に垂直蒸着膜からな
る高屈折率誘電体層と斜め蒸着膜からなる低屈折率誘電
体層とをこの順に連続的に積層形成することを特徴とす
る多層反射防止フィルムの製造法に係るものである。
〔発明の構成・作用〕
以下、この発明の多層反射防止フィルムの製造法を図面
を参考にして説明する。
第1図はこの発明に用いる巻取式真空蒸着装置の一例を
示したもので、この装置は、真空チャンバー1内の供給
ロール2と巻取ロール3との間に導通されて蒸着ロール
4面に沿って流れるフィルム基材5に、上記蒸着ロール
4上で蒸発源6の真空蒸着を行う構成とされ、かつ上記
の蒸着ロール4と蒸発源6との間に、垂直蒸着膜形成用
の透孔7aと斜め蒸着膜形成用の透孔7bとを有する防
着板7が介在されている。
この装置を用いて、フィルム基材5を一定速度で走行さ
せながら、この基材5への蒸発源6の真空蒸着を適宜の
加熱手段で行うと、まず最初に、防着板7の透孔7aを
介して蒸着ロール4上の4A部分で垂直の蒸着膜が形成
され、ついでこの垂直の蒸着膜上に、それ自身の走行に
伴い、防着板7の透孔7bを介して蒸着ロール4上の4
B部分でさらに斜めの蒸着膜が形成される。
ここで、蒸発源6として高屈折率の誘電体材料を選択す
ると、第2図に示すように、フィルム基材5上に、垂直
蒸着膜である高屈折率の誘電体層60Aからなる第1層
と、斜め蒸着膜である低屈折率の誘電体層60Bからな
る第2層とが、この順に連続的に積層形成されることに
なる。つまり、この方法によれば、ひとつの誘電体材料
を使用して、フィルム基材5上に上記の両層60A、6
0Bからなる2層構成の反射防止層60を有する多層反
射防止フィルムを、生産性および作業性良好に形成でき
るのである。
この発明において、上記のフィルム基材5としては、透
明性を有するプラスチックフィルムが用いられ、具体的
にはポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポ
リエチレン、ポリカーボネート、ポリアクリル樹脂、ポ
リプロピレン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイ
ドなどのフィルムが挙げられる。これらフィルムの厚み
としては、通常10〜200μm程度の範囲にされてい
るのが望ましい。
蒸発源6には、ZrO□のほか、ZrO□とAI□03
との混合物、Y z Os 、T 10 zなどの高屈
折率の誘電体材料が用いられる。この材料から形成され
る垂直蒸着膜よりなる第1の誘電体層60Aは、その屈
折率が1.8〜2.1の範囲にあり、また斜め蒸着膜よ
りなる第2の誘電体層60Bは、その屈折率力月、4〜
1.6の範囲にあるのがよい。
両層の屈折率の差は少なくとも0.4以上であるのが望
ましい。上記第1層と第2層のそれぞれの厚みは、外光
の反射を有効に防止しうる光学的膜厚が適宜設定される
が、一般には800〜1,500人程度の範囲にされて
いるのがよい。
防着板7の材質は、蒸着ロール4上の4A部分および4
B部分以外の部分での蒸着を妨げうるちのであればよく
、一般にはアルミニウムやステンレスなどが用いられる
。また、その透孔7aと透孔7bの大きさおよび間隔は
、上記4Aおよび4B部分での蒸着量を計算にいれ、各
層の膜厚が外光の反射を有効に防止しうる光学的膜厚に
なるように設計されておればよい。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明においては、巻取式真空蒸着装
置により、ひとつの誘電体材料を使用して、垂直蒸着膜
からなる高屈折率誘電体層と斜め蒸着膜からなる低屈折
率誘電体層との2層構成の反射防止層を連続的に形成で
きるため、多層反射防止フィルムの生産性と作業性との
大幅な改善を図ることができる。
〔実施例〕
つぎに、この発明の実施例を記載して、より具体的に説
明する。
実施例1 第1図に示す巻取式真空蒸着装置において、互いに70
cmの距離を隔てて配設された蒸着ロール4と蒸発源6
との間に、蒸発源6より50cm上方の位置に、垂直断
面の水平長さ5C1lの垂直蒸着膜形成用の透孔7aと
同水平長さ7■の斜め蒸着膜形成用の透孔7bとを有し
、かつ上記両孔7a。
7bとの間の水平長さが50ffiであるアルミニウム
製の防着板7を設置した。
この蒸着装置を用い、真空チャンバー1内の真空度を2
X10−’Torr以上に設定し、フィルム基材5とし
て厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィル
ムを、蒸発源6としてZrO2を使用して、巻取速度7
0cm/分の条件で真空蒸着を行って、フィルム基材5
上に厚さが1,250人の垂直蒸着膜からなる屈折率が
2.05の第1層60Aと厚さが860人の斜め蒸着膜
からなる屈折率が1.48の第2層60Bとからなる反
射防止層60を有する第2図に示す構造の多層反射防止
フィルムを連続的に作製した。
このようにして作製した多層反射防止フィルムは、入射
光(波長400〜700nm)に対する平均反射率が0
.8%と小さく、非常に良好な反射特性を有していた。
実施例2 防着板7として、垂直断面の水平長さ8cmの垂直蒸着
膜形成用の透孔7aと同水平長さ15cmの斜め蒸着膜
形成用の透孔7bとを有し、かつ上記両孔7a、7bと
の間の水平長さが5 cmであるアルミニウム製のもの
を使用するとともに、蒸発源6としてT i O,を使
用し、巻取速度を15cm/分に変更した以外は、実施
例1と同様にして真空蒸着を行った。
これにより、フィルム基材5上に厚さが1,100人の
垂直蒸着膜からなる屈折率が2.3の第1層60Aと厚
さが850人の斜め蒸着膜からなる屈折率力月、5の第
2層60Bとからなる反射防止層60を有する第2図に
示す構造の多層反射防止フィルムを連続的に作製できた
このようにして得られた多層反射防止フィルムは、実施
例1の場合と同様に、入射光(波長400〜700nm
)に対する平均反射率が0.9%と小さく、良好な反射
特性を有していた。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の方法に用いる巻取式真空蒸着装置の
一例を示す概略図、第2図はこの発明の方法にて得られ
る多層反射防止フィルムの一例を示す断面図である。 4・・・蒸着ロール、5・・・フィルム基材、6・・・
蒸発源、 7・・・防着板、 7a・・・垂直膜形成用の透孔、 7b・・・斜め蒸着膜形成用の透孔、 0・・・反射防 止層、 OA・・・高屈折率誘電体層、 60B・・・低 屈折率誘電体層

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)蒸着ロール面に沿つて流れるフィルム基材に対し
    上記ロール上で蒸発源の真空蒸着を行う巻取式真空蒸着
    装置を用いて、フィルム基材上に高屈折率誘電体層と低
    屈折率誘電体層との2層構成の反射防止層を形成するに
    あたり、上記の蒸着ロールと蒸発源との間に、垂直蒸着
    膜形成用の透孔と斜め蒸着膜形成用の透孔とを有する防
    着板を介在させることにより、ひとつの蒸発源を使つて
    、フィルム基材上に垂直蒸着膜からなる高屈折率誘電体
    層と斜め蒸着膜からなる低屈折率誘電体層とをこの順に
    連続的に積層形成することを特徴とする多層反射防止フ
    ィルムの製造法。
JP1188096A 1989-07-20 1989-07-20 多層反射防止フイルムの製造法 Pending JPH0351802A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5392156A (en) * 1992-03-31 1995-02-21 Canon Kabushiki Kaisha Optical device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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