JPH0353246B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0353246B2 JPH0353246B2 JP58239011A JP23901183A JPH0353246B2 JP H0353246 B2 JPH0353246 B2 JP H0353246B2 JP 58239011 A JP58239011 A JP 58239011A JP 23901183 A JP23901183 A JP 23901183A JP H0353246 B2 JPH0353246 B2 JP H0353246B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chlorosilane
- hydrochloric acid
- hydrogen
- hydrogen chloride
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
- C01B33/03—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition of silicon halides or halosilanes or reduction thereof with hydrogen as the only reducing agent
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の対象は、塩化水素、水素およびクロル
シランから成るガス混合物からクロルシランを分
離する方法である。分離は洗浄液を用いて行なわ
れ、その際、塩化水素および水素から成り、ほぼ
完全にクロルシランを含まずかつ容易にその両成
分に分離しうる混合物が得られる。
シランから成るガス混合物からクロルシランを分
離する方法である。分離は洗浄液を用いて行なわ
れ、その際、塩化水素および水素から成り、ほぼ
完全にクロルシランを含まずかつ容易にその両成
分に分離しうる混合物が得られる。
クロルシラン、塩化水素および水素から成るガ
ス混合物は、大工業的に多結晶質ケイ素の製造の
際に廃ガスとして生じる。この廃ガスから塩化水
素ならびに水素を回収し、水素を再び多結晶質ケ
イ素の製造に使用しようとする努力が存在する。
しかし、この水素は不純物を有していてはなら
ず、そこでこの精製プロセスにおける最初の最も
重要な工程はガス混合物からのクロルシランの分
離である。
ス混合物は、大工業的に多結晶質ケイ素の製造の
際に廃ガスとして生じる。この廃ガスから塩化水
素ならびに水素を回収し、水素を再び多結晶質ケ
イ素の製造に使用しようとする努力が存在する。
しかし、この水素は不純物を有していてはなら
ず、そこでこの精製プロセスにおける最初の最も
重要な工程はガス混合物からのクロルシランの分
離である。
主に上記の３つの化合物を含有する、多結晶質
ケイ素の製造から出る廃ガスを水で処理すること
は、西ドイツ国特許第1185593号明細書から既に
公知である。その際、クロルシランは反応して加
水分解生成物となり、塩化水素は洗浄水によりガ
ス混合物から洗浄除去される。この方法で不利な
のは、その際塩化水素から非常に薄い塩酸が生じ
るという事情である。さらに加水分解生成物は機
械中で容易に皮殼形成する傾向がある。懸濁して
いる加水分解生成物からこの塩酸をほぼ完全に除
去するための技術的費用は非常に高い。この希塩
酸は、同様に高い技術的費用をかけ、高い消費エ
ネルギーを用いた場合にしか濃縮できない。従つ
て、この方法は一般に採用されず、このため希塩
酸は、カ性ソーダ溶液での中和により除去され
る。従つて、水素、塩化水素およびクロルシラン
から成るガス混合物から、洗浄の際に生じる加水
分解生成物が良好に濾過可能な形で生じ、塩化水
素は同様に洗浄液中に残留しないで、水素とのガ
ス混合物としてガス状で得られるようにして洗浄
することによつてクロルシランを除去するという
課題が生じた。
ケイ素の製造から出る廃ガスを水で処理すること
は、西ドイツ国特許第1185593号明細書から既に
公知である。その際、クロルシランは反応して加
水分解生成物となり、塩化水素は洗浄水によりガ
ス混合物から洗浄除去される。この方法で不利な
のは、その際塩化水素から非常に薄い塩酸が生じ
るという事情である。さらに加水分解生成物は機
械中で容易に皮殼形成する傾向がある。懸濁して
いる加水分解生成物からこの塩酸をほぼ完全に除
去するための技術的費用は非常に高い。この希塩
酸は、同様に高い技術的費用をかけ、高い消費エ
ネルギーを用いた場合にしか濃縮できない。従つ
て、この方法は一般に採用されず、このため希塩
酸は、カ性ソーダ溶液での中和により除去され
る。従つて、水素、塩化水素およびクロルシラン
から成るガス混合物から、洗浄の際に生じる加水
分解生成物が良好に濾過可能な形で生じ、塩化水
素は同様に洗浄液中に残留しないで、水素とのガ
ス混合物としてガス状で得られるようにして洗浄
することによつてクロルシランを除去するという
課題が生じた。
この課題の達成において、塩化水素、水素およ
びクロルシランから成るガス混合物を水で加水分
解生成物の形成下に洗浄する、該ガス混合物から
クロルシランを分離する方法を見出したが、該方
法は洗浄を、洗浄の際に生じるクロルシランの加
水分解生成物が懸濁したままである飽和の塩酸を
用いて実施することを特徴とする。
びクロルシランから成るガス混合物を水で加水分
解生成物の形成下に洗浄する、該ガス混合物から
クロルシランを分離する方法を見出したが、該方
法は洗浄を、洗浄の際に生じるクロルシランの加
水分解生成物が懸濁したままである飽和の塩酸を
用いて実施することを特徴とする。
この本発明による方法の実施の際、ほぼ完全に
クロルシランが除去されていて、わずかに成分塩
化水素および水素を含有するだけのガス混合物が
生じる。付加的に、ガスはなお少量の、水の分圧
に相当する量の水蒸気を同伴する。生じるクロル
シランの加水分解生成物は皮殼やかたまりを形成
する傾向がなく、公知の濾過法を用いて容易に分
離できる。
クロルシランが除去されていて、わずかに成分塩
化水素および水素を含有するだけのガス混合物が
生じる。付加的に、ガスはなお少量の、水の分圧
に相当する量の水蒸気を同伴する。生じるクロル
シランの加水分解生成物は皮殼やかたまりを形成
する傾向がなく、公知の濾過法を用いて容易に分
離できる。
洗浄液として使用される塩酸中の塩化水素含量
は、選択された作業温度での塩化水素の分圧に左
右される。これは一般に25重量％以上であり、45
重量％まで、またはそれ以上であつてもよい。こ
のような飽和塩酸は発煙塩酸とも呼ばれる。塩酸
は既に可能なかぎり飽和塩酸として使用すべきで
あり、従つて該塩酸は洗浄の間ほんのわずかな量
の塩化水素を吸収しうるにすぎない。この量はな
るべく５重量％を越えてはならない。これは全系
中の塩化水素の分圧に左右される。従つて、本発
明による飽和塩酸とは、生じる作業温度において
なお上述したわずかな量の塩化水素を吸収するこ
とが出来、その場合同様になお本発明による作用
が生じるような塩酸をも意味する。
は、選択された作業温度での塩化水素の分圧に左
右される。これは一般に25重量％以上であり、45
重量％まで、またはそれ以上であつてもよい。こ
のような飽和塩酸は発煙塩酸とも呼ばれる。塩酸
は既に可能なかぎり飽和塩酸として使用すべきで
あり、従つて該塩酸は洗浄の間ほんのわずかな量
の塩化水素を吸収しうるにすぎない。この量はな
るべく５重量％を越えてはならない。これは全系
中の塩化水素の分圧に左右される。従つて、本発
明による飽和塩酸とは、生じる作業温度において
なお上述したわずかな量の塩化水素を吸収するこ
とが出来、その場合同様になお本発明による作用
が生じるような塩酸をも意味する。
作業温度は、環境温度ならびにガス混合物に含
有されるクロルシランの量にも左右される。この
温度は特に20〜40℃の間にある；しかし、この値
より下であつても、上であつてもよい。洗浄の際
に生じる加水分解生成物の形成は発熱反応である
ので、クロルシランの含量が高い場合には、塩酸
を系に導入する前に冷却するのが有利であること
もある。
有されるクロルシランの量にも左右される。この
温度は特に20〜40℃の間にある；しかし、この値
より下であつても、上であつてもよい。洗浄の際
に生じる加水分解生成物の形成は発熱反応である
ので、クロルシランの含量が高い場合には、塩酸
を系に導入する前に冷却するのが有利であること
もある。
塩化水素、水素およびクロルシランから成るガ
ス混合物を飽和塩酸で洗浄するのは、ガス混合物
と洗浄液との出来るかぎり長くかつ激しい接触を
可能にする任意の自体公知の方法で実施すること
が出来る。ガス気流中へ洗浄液をノズル噴射ない
しはスプレー噴射またはジエツト噴射するのが有
利な実施形であることが立証された。その際、洗
浄液の注入はガス混合物に対し向流ならびにガス
混合物と並流で行なうことが出来る。
ス混合物を飽和塩酸で洗浄するのは、ガス混合物
と洗浄液との出来るかぎり長くかつ激しい接触を
可能にする任意の自体公知の方法で実施すること
が出来る。ガス気流中へ洗浄液をノズル噴射ない
しはスプレー噴射またはジエツト噴射するのが有
利な実施形であることが立証された。その際、洗
浄液の注入はガス混合物に対し向流ならびにガス
混合物と並流で行なうことが出来る。
飽和塩酸で洗浄する間に生じるクロルシランの
加水分解生成物は洗浄を実際に妨げない。従つ
て、塩酸はこの加水分解生成物を、それが固形物
として生じる限り、懸濁して含有することが出来
る。連続的な作業方法ではこの固形物の加水分解
生成物は次第に濃度が増加するので、この固形物
を時々、部分的にまたは完全に塩酸から除去する
ことが推奨される。これは、たとえば簡単な濾過
により可能であり、その理由はこの加水分解生成
物が容易に濾過可能な固形物の形で生じるからで
ある。
加水分解生成物は洗浄を実際に妨げない。従つ
て、塩酸はこの加水分解生成物を、それが固形物
として生じる限り、懸濁して含有することが出来
る。連続的な作業方法ではこの固形物の加水分解
生成物は次第に濃度が増加するので、この固形物
を時々、部分的にまたは完全に塩酸から除去する
ことが推奨される。これは、たとえば簡単な濾過
により可能であり、その理由はこの加水分解生成
物が容易に濾過可能な固形物の形で生じるからで
ある。
本発明による方法による連続的作業法では、飽
和塩酸を循環させ、その際分流を分岐させ、これ
を濾過器および場合により中間容器を通過させる
のが有利である。この分流はその後再び洗浄系に
供給される。
和塩酸を循環させ、その際分流を分岐させ、これ
を濾過器および場合により中間容器を通過させる
のが有利である。この分流はその後再び洗浄系に
供給される。
本発明による方法により得られる、塩化水素お
よび水素から成るガス混合物は、なお少量の水蒸
気を含有する；連続的な作業法においてはこの量
は、水または塩酸水溶液を相当する量で系に添加
することにより時々補充しなければならない。
よび水素から成るガス混合物は、なお少量の水蒸
気を含有する；連続的な作業法においてはこの量
は、水または塩酸水溶液を相当する量で系に添加
することにより時々補充しなければならない。
生じたガス混合物を双方の成分塩化水素および
水素に分けるのは自体公知の方法により行なわ
れ；それで塩化水素を水に吸収させ、この方法で
非常に純粋な塩酸を得ることが可能であり、該塩
酸から場合により引続く脱着によりガス状の塩化
水素を得ることが出来る。塩化水素の吸収後に得
られる水素は、乾燥および精製後に再びケイ素−
分離のために使用する事が出来る。
水素に分けるのは自体公知の方法により行なわ
れ；それで塩化水素を水に吸収させ、この方法で
非常に純粋な塩酸を得ることが可能であり、該塩
酸から場合により引続く脱着によりガス状の塩化
水素を得ることが出来る。塩化水素の吸収後に得
られる水素は、乾燥および精製後に再びケイ素−
分離のために使用する事が出来る。
次に、添付図面につき本発明を詳述する。
導管１により、ガス洗浄器２にクロルシランを
含有する廃ガスが供給される。このガス混合物は
洗浄器を上昇する間に１個または数個のノズル３
を通過し、大部分クロルシランが除去されて導管
４により塩化水素／水素−混合物としてガス洗浄
器を去る。この逆も可能であり、廃ガス導入を導
管４により行ない、精製されたガス混合物はガス
洗浄器を導管１により去るようにすることも出来
る。
含有する廃ガスが供給される。このガス混合物は
洗浄器を上昇する間に１個または数個のノズル３
を通過し、大部分クロルシランが除去されて導管
４により塩化水素／水素−混合物としてガス洗浄
器を去る。この逆も可能であり、廃ガス導入を導
管４により行ない、精製されたガス混合物はガス
洗浄器を導管１により去るようにすることも出来
る。
ガス洗浄器の液留り部５中には、吸収の際に生
じるクロルシランの加水分解生成物が懸濁してい
る飽和塩酸が存在する。ポンプ６により、懸濁液
は循環される。かくはん機７または常にポンプに
より送出される量の一部が流過する導管８は、ガ
ス洗浄器の液留り部中に加水分解生成物が沈積す
るのを乱流形成により阻止する。
じるクロルシランの加水分解生成物が懸濁してい
る飽和塩酸が存在する。ポンプ６により、懸濁液
は循環される。かくはん機７または常にポンプに
より送出される量の一部が流過する導管８は、ガ
ス洗浄器の液留り部中に加水分解生成物が沈積す
るのを乱流形成により阻止する。
ノズル３により、懸濁液は洗浄器中へ噴射され
る。噴射された懸濁液の個々の液滴において廃ガ
スからのクロルシランの吸収およびそれの塩化水
素および加水分解生成物への反応が行なわれる。
液滴はガス洗浄器の液留り部中に捕集される。
る。噴射された懸濁液の個々の液滴において廃ガ
スからのクロルシランの吸収およびそれの塩化水
素および加水分解生成物への反応が行なわれる。
液滴はガス洗浄器の液留り部中に捕集される。
導管９により懸濁液の一部が排出され、濾過器
１２に供給される。濾液は、場合により中間容器
１３を通る導管１０によりガス洗浄器２に戻され
る。導管１１によつて、分圧により廃ガスと共に
ガス洗浄器を導管４により去る、水蒸気および濾
別された湿つた固形物により生じる損失を補うた
めに、水がガス洗浄器２に導入される。
１２に供給される。濾液は、場合により中間容器
１３を通る導管１０によりガス洗浄器２に戻され
る。導管１１によつて、分圧により廃ガスと共に
ガス洗浄器を導管４により去る、水蒸気および濾
別された湿つた固形物により生じる損失を補うた
めに、水がガス洗浄器２に導入される。
例 １
図面によるガス洗浄器中に、ケイ素1000mg／m3
より以上に相当するクロルシラン含量を有する塩
化水素／水素の混合物を導入する。ガス洗浄器は
向流で、0.05〜0.15ｍ／secの間のガス速度および
10〜25秒のガス滞留時間で作業する。双方のノズ
ル３にはともに0.5〜1.7m3／ｈの懸濁液量が供給
され、ノズル中の差圧は２〜６バールである。懸
濁液の最高固形物濃度は50ｇ／である（ケイ素
として表現）。４によりガス洗浄器から出る塩化
水素／水素の混合物においてはSi最低40mg／m3の
濃度が見出される。同様に作業する、後接された
ガス洗浄器中で、廃ガス濃度をSi5mg／m3まで減
少させることが出来た。
より以上に相当するクロルシラン含量を有する塩
化水素／水素の混合物を導入する。ガス洗浄器は
向流で、0.05〜0.15ｍ／secの間のガス速度および
10〜25秒のガス滞留時間で作業する。双方のノズ
ル３にはともに0.5〜1.7m3／ｈの懸濁液量が供給
され、ノズル中の差圧は２〜６バールである。懸
濁液の最高固形物濃度は50ｇ／である（ケイ素
として表現）。４によりガス洗浄器から出る塩化
水素／水素の混合物においてはSi最低40mg／m3の
濃度が見出される。同様に作業する、後接された
ガス洗浄器中で、廃ガス濃度をSi5mg／m3まで減
少させることが出来た。
例 ２
ノズルのかわりにジエツト洗浄器を用いて同じ
洗浄結果を得た。この場合、入口濃度はケイ素
500〜1000mg／m3であり、懸濁液量は1.5〜2.0
m3／ｈであり、ノズルにおける差圧は６バールで
あり、ガス速度は５〜10ｍ／secであつた。
洗浄結果を得た。この場合、入口濃度はケイ素
500〜1000mg／m3であり、懸濁液量は1.5〜2.0
m3／ｈであり、ノズルにおける差圧は６バールで
あり、ガス速度は５〜10ｍ／secであつた。
図面は本発明による方法の１実施例を示す系統
図である。 １……廃ガス供給導管、２……ガス洗浄器、３
……洗浄液噴射ノズル、４……廃ガス出口導管、
５……液留り部、６……ポンプ、７……かくはん
機、８……導管、９……分岐導管、１２……濾過
器、１３……中間容器。
図である。 １……廃ガス供給導管、２……ガス洗浄器、３
……洗浄液噴射ノズル、４……廃ガス出口導管、
５……液留り部、６……ポンプ、７……かくはん
機、８……導管、９……分岐導管、１２……濾過
器、１３……中間容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 塩化水素、水素およびクロルシランから成る
ガス混合物から、該ガス混合物を洗浄液で洗浄す
ることによりクロルシランを分離する方法におい
て、洗浄を、洗浄の際に生じるクロルシランの加
水分解生成物が懸濁している、飽和塩酸を用いて
実施することを特徴とする、塩化水素、水素およ
びクロルシランから成るガス混合物からクロルシ
ランを分離する方法。 ２ 飽和塩酸を細分された形で洗浄されるべきガ
ス気流中へ導入する、特許請求の範囲第１項記載
の方法。 ３ 塩酸を循環させ、その場合分流を濾過器およ
び場合により中間容器に導通する、特許請求の範
囲第１項または第２項記載の方法。 ４ 循環系に水または塩酸を、洗浄の間系から取
り出される量で添加する、特許請求の範囲第１項
〜第３項のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3247997.2 | 1982-12-24 | ||
| DE3247997A DE3247997C2 (de) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Verfahren zur Abtrennung von Chlorsilanen aus einem Gasgemisch mit Chlorwasserstoff und Wasserstoff |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59121112A JPS59121112A (ja) | 1984-07-13 |
| JPH0353246B2 true JPH0353246B2 (ja) | 1991-08-14 |
Family
ID=6181747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58239011A Granted JPS59121112A (ja) | 1982-12-24 | 1983-12-20 | 塩化水素、水素およびクロルシランから成るガス混合物からクロルシランを分離する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4490343A (ja) |
| EP (1) | EP0114226B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59121112A (ja) |
| DE (2) | DE3247997C2 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3533577A1 (de) * | 1985-09-20 | 1987-03-26 | Wacker Chemitronic | Verfahren zur aufarbeitung von chlorsilan- und chlorwasserstoffhaltigen abgasen |
| DE3642285C1 (de) * | 1986-12-11 | 1988-06-01 | Huels Troisdorf | Verfahren zur Aufarbeitung von Rueckstaenden einer Chlorsilan-Destillation |
| DE3840877A1 (de) * | 1988-12-05 | 1990-06-07 | Roemmler H Resopal Werk Gmbh | Dekorative schichtpressstoffplatte und verfahren zur herstellung einer deckschicht hierfuer |
| AT392014B (de) * | 1989-01-25 | 1991-01-10 | Elin Union Ag | Verfahren zur abscheidung, insbesondere vorabscheidung, von in industriellen abgasen bzw. industrieller abluft enthaltenen festen und fluessigen schadstoffen |
| RU2162735C1 (ru) * | 1999-11-30 | 2001-02-10 | Государственный научный центр Российской Федерации Государственный научно-исследовательский институт химии и технологии элементоорганических соединений | Реактор для прямого синтеза органохлорсиланов |
| RU2200057C1 (ru) * | 2002-06-25 | 2003-03-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научно-исследовательский институт химии и технологии элементоорганических соединений" | Реактор для прямого синтеза органохлорсиланов в кипящем слое |
| CN101327912B (zh) * | 2007-06-18 | 2011-11-30 | 中国恩菲工程技术有限公司 | 从生产多晶硅所产生的尾气中回收氢气的方法 |
| JP5566290B2 (ja) * | 2008-08-06 | 2014-08-06 | 電気化学工業株式会社 | ハロゲン化水素、水素およびハロゲン化ケイ素を含む混合ガスから水素ガスを生産する方法、その水素ガスを用いたケイ素化合物の生産方法、およびその方法のためのプラント |
| JP5511667B2 (ja) * | 2008-08-06 | 2014-06-04 | 電気化学工業株式会社 | ハロゲン化水素、水素およびハロゲン化ケイ素を含む混合ガスから水素ガスを生産する方法、その水素ガスを用いたケイ素化合物の生産方法、およびその方法のためのプラント |
| CN104071751B (zh) * | 2014-06-13 | 2016-02-10 | 王金明 | 一种吸附脱除盐酸中硅氧烷的方法 |
| CN106006557B (zh) * | 2016-05-18 | 2018-06-15 | 昆明理工大学 | 一种氯硅烷残液生产氯化氢气体的方法 |
| CN109650339A (zh) * | 2019-01-16 | 2019-04-19 | 杭州东日节能技术有限公司 | 氯硅烷水解制备氯化氢的工艺与装置 |
| CN114560441B (zh) * | 2022-02-28 | 2023-07-21 | 内蒙古恒星化学有限公司 | 有机硅生产中的副产气体洗涤方法 |
| CN116002621B (zh) * | 2023-02-20 | 2025-03-18 | 新疆西部合盛硅业有限公司 | 一种二甲基二氯硅烷水解产氯化氢的除杂工艺 |
| CN116907953B (zh) * | 2023-09-11 | 2023-11-14 | 是高(北京)智能科技有限公司 | 一种氯硅烷化学分析前处理系统 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB672163A (en) * | 1949-07-20 | 1952-05-14 | Helsingborgs Gummifabriks | Improvements in or relating to methods for the production of finely divided silicon dioxide |
| DE1185593B (de) * | 1963-05-10 | 1965-01-21 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Aufarbeitung von Wasserstoff, Silane und Chlorwasserstoff enthaltenden Abgasen aus Silicium-Abscheidungsanlagen |
| US3461706A (en) * | 1966-08-09 | 1969-08-19 | Fox Ind Inc | Top stripper guides |
| DE2820617A1 (de) * | 1978-05-11 | 1979-11-22 | Wacker Chemitronic | Verfahren zum aufarbeiten hydrolysierbarer und/oder wasserloeslicher verbindungen und bevorzugte anwendung |
-
1982
- 1982-12-24 DE DE3247997A patent/DE3247997C2/de not_active Expired
-
1983
- 1983-11-12 EP EP83111344A patent/EP0114226B1/de not_active Expired
- 1983-11-12 DE DE8383111344T patent/DE3378975D1/de not_active Expired
- 1983-12-14 US US06/561,163 patent/US4490343A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-12-20 JP JP58239011A patent/JPS59121112A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3378975D1 (en) | 1989-02-23 |
| DE3247997C2 (de) | 1984-10-18 |
| EP0114226A3 (en) | 1987-01-07 |
| JPS59121112A (ja) | 1984-07-13 |
| DE3247997A1 (de) | 1984-06-28 |
| US4490343A (en) | 1984-12-25 |
| EP0114226B1 (de) | 1989-01-18 |
| EP0114226A2 (de) | 1984-08-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0353246B2 (ja) | ||
| JP3538547B2 (ja) | 煙道ガスから二酸化硫黄を除く方法 | |
| JPH08281049A (ja) | 水によるガスの浄化方法 | |
| JPS59120224A (ja) | ガス洗浄の洗浄流体内のアンモニア含有量の調整方法及び装置 | |
| US3091517A (en) | Method for recovery and recycling hydrogen and silicon halides from silicon deposition reactor exhaust | |
| JP2007507333A (ja) | 化学肥料を製造する際に生じる廃ガスからアンモニアおよびダストを除く方法 | |
| US5399332A (en) | Dynamic leaching procedure for metathesis | |
| JPH0712411B2 (ja) | サワ−ガスの流れからの硫化水素の除去 | |
| JPS6348568B2 (ja) | ||
| US927342A (en) | Process of recovering sulfur. | |
| US5225086A (en) | Process for the treatment of wash water from the gas washing system of an iron ore reduction plant | |
| JPS6113860B2 (ja) | ||
| JP4450901B2 (ja) | 固体副生成物の除去工程を含んでなる、硫化水素および二酸化硫黄含有ガスの処理方法ならびに装置 | |
| JP4731647B2 (ja) | 副生物除去工程を含む、硫化水素及び二酸化硫黄含有ガスの処理方法と装置 | |
| CA2148462C (en) | Metathesis of acidic by-product of chlorine dioxide generating process | |
| US6585950B1 (en) | Method of producing chlorine dioxide | |
| US4102981A (en) | Removal of acidic impurity from chlorofluoromethanes | |
| US3965243A (en) | Recovery of sodium thiocyanate | |
| EP0074278B1 (en) | Treatment of contaminated stretford solutions in gas purification | |
| CN217940147U (zh) | 清洁型反式1，2-二氯乙烯生产系统 | |
| US1160375A (en) | Process of removing sulfureted hydrogen from gases. | |
| US2733979A (en) | Haensel | |
| KR20100015863A (ko) | 염소-함유 공정 기체로부터 ＳＯｘ 및 황산 에어로졸을 제거하기 위한 흡수 방법 | |
| US3574542A (en) | Process for recovery of hf and h2sif6 from gases containing hf and sif4 | |
| US3564817A (en) | Process for scrubbing waste gases |