JPH0354827A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH0354827A JPH0354827A JP18893889A JP18893889A JPH0354827A JP H0354827 A JPH0354827 A JP H0354827A JP 18893889 A JP18893889 A JP 18893889A JP 18893889 A JP18893889 A JP 18893889A JP H0354827 A JPH0354827 A JP H0354827A
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は洗浄装置に関し、特にテーパ状に形成された保
持具に保持された被洗浄物の全面に超音波振動を効率的
に印加することのできる洗浄装置に関する。
持具に保持された被洗浄物の全面に超音波振動を効率的
に印加することのできる洗浄装置に関する。
[背景技術]
従来、この種の洗浄装置としては第4図に示すものがあ
る4. 図において、1は洗浄液が満たされている洗浄槽であり
、この洗浄槽1内には断面がテーパ状に形成されている
保持具3が配置されている。この保持具3は上方からウ
エハ等の被洗浄物2を挿入して保持具3に形成されたテ
ーパ面で保持できるように構成されている。この保持具
3の下端部の保持具脚4は上下揺動機横14の下部に固
定されている。この上下揺動機構14は図示せぬ駆動手
段により矢印で示す上下方向に移動可能に構成されてい
る。また、洗浄槽1の下部には超音波を発生する振動子
13が配置されている。
る4. 図において、1は洗浄液が満たされている洗浄槽であり
、この洗浄槽1内には断面がテーパ状に形成されている
保持具3が配置されている。この保持具3は上方からウ
エハ等の被洗浄物2を挿入して保持具3に形成されたテ
ーパ面で保持できるように構成されている。この保持具
3の下端部の保持具脚4は上下揺動機横14の下部に固
定されている。この上下揺動機構14は図示せぬ駆動手
段により矢印で示す上下方向に移動可能に構成されてい
る。また、洗浄槽1の下部には超音波を発生する振動子
13が配置されている。
上記構成を有する従来の装置は、被洗浄物2が保持具3
の上方から垂直に挿入されて保持具3のテーバ面で保持
され、上下揺動機構14が上下に揺動しながら振動子8
で発生される超音波振動による衝撃波によって被洗浄物
に付着した汚れを破壊洗浄するが、この保持具3の保持
具脚4により被洗浄物2の斜線部で示される部分に陰2
a及び2bが形成される。これは超音波の直進性による
ためである。
の上方から垂直に挿入されて保持具3のテーバ面で保持
され、上下揺動機構14が上下に揺動しながら振動子8
で発生される超音波振動による衝撃波によって被洗浄物
に付着した汚れを破壊洗浄するが、この保持具3の保持
具脚4により被洗浄物2の斜線部で示される部分に陰2
a及び2bが形成される。これは超音波の直進性による
ためである。
この超音波の直進性は「ハイメガソニック」と呼ばれる
加速度が大きく高周波の超音波を用いた洗浄においては
波長が短くなるため一層強くなる。この「ハイメガソニ
ック」洗浄は、除去すべき汚れの粒径が0.1〜0.2
μmの超微粒子等のサブミクロンの粒子除去を目的とし
ている。
加速度が大きく高周波の超音波を用いた洗浄においては
波長が短くなるため一層強くなる。この「ハイメガソニ
ック」洗浄は、除去すべき汚れの粒径が0.1〜0.2
μmの超微粒子等のサブミクロンの粒子除去を目的とし
ている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来の洗浄装置では上記のような加速度
の大きい高周波の超音波を用いた「ハイメガソニック」
洗浄では波長が短いため直進性が強く障害物による減衰
が激しくなる。したがって、このような「ハイメガソニ
ック」洗浄では保持具3により被洗浄物2に陰2a及び
2bが形成された場合には充分な洗浄ができないという
欠点がある。
の大きい高周波の超音波を用いた「ハイメガソニック」
洗浄では波長が短いため直進性が強く障害物による減衰
が激しくなる。したがって、このような「ハイメガソニ
ック」洗浄では保持具3により被洗浄物2に陰2a及び
2bが形成された場合には充分な洗浄ができないという
欠点がある。
そこで、本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたも
ので、加速度が大きく高い周波数による洗浄であっても
被洗浄物の全面に亙って効率よく洗浄することができる
洗浄装置を提供することを目的とするものである。
ので、加速度が大きく高い周波数による洗浄であっても
被洗浄物の全面に亙って効率よく洗浄することができる
洗浄装置を提供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明の洗浄装置は、洗浄槽と、該洗浄槽に設けられ加
速度が大きく高い周波数の超音波を発生する振動子とを
有する洗浄装置であって、前記洗浄槽内に設けられ被洗
浄物を保持するテーパ面を有する保持具と、該保持具が
固定されるスイング台と、該スイング台を揺動する揺動
手段とを備えるようにしたものである。
速度が大きく高い周波数の超音波を発生する振動子とを
有する洗浄装置であって、前記洗浄槽内に設けられ被洗
浄物を保持するテーパ面を有する保持具と、該保持具が
固定されるスイング台と、該スイング台を揺動する揺動
手段とを備えるようにしたものである。
[実施例]
次に本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明す
る。
る。
第1図において、lは洗浄液が満たされている洗浄槽で
あり、この洗浄槽1内には断面がテーバ状に形成されて
いる保持具3が配置されている。
あり、この洗浄槽1内には断面がテーバ状に形成されて
いる保持具3が配置されている。
この保持具3には上方からウエハ等の被洗浄物2を挿入
して保持具3のテーパ面で保持できるように構成されて
いる。この保持具3の下端部の保持具脚4はスイング台
5に固定されている。このスイング台5の中心7は洗浄
槽1内に固定され、このスイング中心7を支点として回
動可能に構成されている。このスイング台5のスイング
中心7にはリンク9の一端が結合され、他端は洗浄槽1
に固定されたスイング駆動部6のロッド10と結合され
ている。このスイング駆動部6の駆動力が付与されてロ
ッド10が上下に伸縮することによって、スイング台5
はスイング中心7を支点として回動される。この回動に
より保持具3は時計方向(第2図の状態)及び反時計方
向に回動して揺動される。また、洗浄槽lの下部には超
音波を発生する振動子8が配置されている。この振動子
8の中心とスイング中心7とが略一致するように配置さ
れている。
して保持具3のテーパ面で保持できるように構成されて
いる。この保持具3の下端部の保持具脚4はスイング台
5に固定されている。このスイング台5の中心7は洗浄
槽1内に固定され、このスイング中心7を支点として回
動可能に構成されている。このスイング台5のスイング
中心7にはリンク9の一端が結合され、他端は洗浄槽1
に固定されたスイング駆動部6のロッド10と結合され
ている。このスイング駆動部6の駆動力が付与されてロ
ッド10が上下に伸縮することによって、スイング台5
はスイング中心7を支点として回動される。この回動に
より保持具3は時計方向(第2図の状態)及び反時計方
向に回動して揺動される。また、洗浄槽lの下部には超
音波を発生する振動子8が配置されている。この振動子
8の中心とスイング中心7とが略一致するように配置さ
れている。
上記構成を有する本実施例の作用について図面を用いて
以下に説明する。
以下に説明する。
まず、第1図に示すように被洗浄物2は保持具3の上方
から垂直に挿入されて保持具3のテーパ面に保持される
。この保持具3の保持具脚4により被洗浄物2の斜綿部
で示す部分に陰2a及び2bが形成される。この状態で
振動子8により加速度が大きく高い周波数の超音波振動
が印加されると、超音波の直進性により被洗浄物2の斜
線部2a及び2b以外の部分のみに照射されることにな
る。したがって、第2図及び第3図に示すようにスイン
グ駆動部6を駆動してロッド10を上下に伸縮させスイ
ング台5を時計方向(第3図の12は保持具3が右にス
イングした状態を示す)及び反時計方向(第3図の11
は保持具3が左にスイングした状態)に揺動させること
によって、振動子8から照射された超音波振動による衝
撃波が第1図に示すような陰2a及び2bにも照射され
て被洗浄物2に付着している汚れを破壊して洗浄する。
から垂直に挿入されて保持具3のテーパ面に保持される
。この保持具3の保持具脚4により被洗浄物2の斜綿部
で示す部分に陰2a及び2bが形成される。この状態で
振動子8により加速度が大きく高い周波数の超音波振動
が印加されると、超音波の直進性により被洗浄物2の斜
線部2a及び2b以外の部分のみに照射されることにな
る。したがって、第2図及び第3図に示すようにスイン
グ駆動部6を駆動してロッド10を上下に伸縮させスイ
ング台5を時計方向(第3図の12は保持具3が右にス
イングした状態を示す)及び反時計方向(第3図の11
は保持具3が左にスイングした状態)に揺動させること
によって、振動子8から照射された超音波振動による衝
撃波が第1図に示すような陰2a及び2bにも照射され
て被洗浄物2に付着している汚れを破壊して洗浄する。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、加速度の大きい高
周波の超音波を用いた「ハイメガソニック」洗浄であっ
ても、保持具による陰の影響を被洗浄物に与えることな
く効率よく洗浄することができる。
周波の超音波を用いた「ハイメガソニック」洗浄であっ
ても、保持具による陰の影響を被洗浄物に与えることな
く効率よく洗浄することができる。
第l図は本発明の洗浄装置の断面図、第2図は本発明の
洗浄装置の右にスイングした状態を示す断面図、第3図
は本発明の揺動状態を示す図、第4図は従来の洗浄装置
の断面図である。 1・・・洗浄槽、2・・・被洗浄物、3・・・保持具、
4・・・保持具脚、5・・・スイング台、6・・・スイ
ング駆動部、7・・・スイング中心、8・・・振動子、
9・・・リンク、10・・・ロッド、11・・・左にス
イングした時の保持具、12・・・右にスイングした時
の保持具、13・・・振動子、14・・・上下揺動機構
。
洗浄装置の右にスイングした状態を示す断面図、第3図
は本発明の揺動状態を示す図、第4図は従来の洗浄装置
の断面図である。 1・・・洗浄槽、2・・・被洗浄物、3・・・保持具、
4・・・保持具脚、5・・・スイング台、6・・・スイ
ング駆動部、7・・・スイング中心、8・・・振動子、
9・・・リンク、10・・・ロッド、11・・・左にス
イングした時の保持具、12・・・右にスイングした時
の保持具、13・・・振動子、14・・・上下揺動機構
。
Claims (1)
- 洗浄槽と、該洗浄槽に設けられ加速度が大きく高い周
波数の超音波を発生する振動子とを有する洗浄装置であ
って、前記洗浄槽内に設けられ被洗浄物を保持するテー
パ面を有する保持具と、該保持具が固定されるスイング
台と、該スイング台を揺動する揺動手段とを備えてなる
洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1188938A JP2622883B2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1188938A JP2622883B2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0354827A true JPH0354827A (ja) | 1991-03-08 |
| JP2622883B2 JP2622883B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=16232530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1188938A Expired - Fee Related JP2622883B2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2622883B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062685U (ja) * | 1992-06-12 | 1994-01-14 | 株式会社カイジョー | 半導体基板自動処理装置 |
| JP2012151320A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Sumco Corp | ウェーハ洗浄装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6418229A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | Super-ultrasonic cleaning device |
-
1989
- 1989-07-24 JP JP1188938A patent/JP2622883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6418229A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | Super-ultrasonic cleaning device |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH062685U (ja) * | 1992-06-12 | 1994-01-14 | 株式会社カイジョー | 半導体基板自動処理装置 |
| JP2012151320A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Sumco Corp | ウェーハ洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2622883B2 (ja) | 1997-06-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |