JPH0355230A - 低収縮性ポリイミドフィルム - Google Patents
低収縮性ポリイミドフィルムInfo
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- JPH0355230A JPH0355230A JP19053489A JP19053489A JPH0355230A JP H0355230 A JPH0355230 A JP H0355230A JP 19053489 A JP19053489 A JP 19053489A JP 19053489 A JP19053489 A JP 19053489A JP H0355230 A JPH0355230 A JP H0355230A
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ミドフィルムに関する。
縮合して得られるポリイミドは極めて耐熱性に優れたボ
リマーとして知られている。
るボリアミド酸は特定の有機溶媒に可溶であるため、こ
のポリアミド酸有機溶媒溶液を流延し、イミド化と同時
に乾燥することにより耐熱性のフィルムが得られる。
に優れているため、フレキシブルプリント基板のベース
フィルムとして従来から利用されている。
゛ノレフ゛リント基牟反をイ乍るためには洞等の金属箔
を積層するかあるいは真空蒸着,スパッタリング等によ
り金属を付着させる必要があるが、この工程でかなりの
熱がかかるため、熱に対する寸法安定性が要求される。
ターン化により、熱による収縮が小さいポリイミドフィ
ルムが望まれている。
024号公報にはボリイξドフィルムを実質的に無張力
下、加熱オーブン中で加熱処理した後、冷却する方法が
提案されている。
の後の加熱に対して収縮が小さくなるため、有効な方法
であるが、次のような欠点がある。
ロールを加熱オーブン中に放置する方法(特開昭62−
41024号公報実施例)あるいは巻出し、巻取り機を
備えた連続型加熱炉中でフィルムを連続的に処理する方
法があるが、いずれにしても無張力下で長時間処理する
ことになるのでフィルムが波を打つ状態になり、熱収縮
率がばらつくという問題を生ずる。特に連続処理の場合
にはフィルムが蛇行して完全な製品ロールが得られない
という不都合が生しる。
ム表面にしわが発生することは防く゜ことができず、精
密なプリント基板のベースフィルムとしては適用できな
くなる欠点がある。
、たとえばしわが発生した部分では、MO方向、TD方
向の熱収縮率が大きく変動してしまうという問題もあっ
た。
つ製品の製造効率の良いポリイミドフィルムの提供を課
題とするものである。
ムの長さ方向の張力を10kg/m以下に保ちながら、
加熱処理を施した後、冷却処理を施してなり、200゜
Cで1時間熱処理後の熱収縮率が0.05%以下の特性
を有することを特徴とするものである。
して有するものである。
たものである。
ある。) (1)式の構造を有するポリイミドは、芳香族テトラカ
ルポン酸二無水物と芳香族ジアミンを、有機溶媒中で、
触媒および脱水剤の存在下に縮重合することにより得ら
れる。
しては、たとえばビロメリット酸二無水物、2.3,6
. 7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3 .
3’, 4 .4’−ジフエニルテトラカルボン酸二無
水物、1,2.5. 6−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、2 .2’, 3 .3’−ジフエニルテト
ラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4ジカルポ
キシフエニル)ブロバンニ無水物、ビス(3.4−ジカ
ルボキシフエニル)スルホンニ無水物、3,4,9.1
0−ベリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3.4
−ジカルボキシフエニル)エーテルニ無水物、ナフタレ
ン−1.2,4. 5−テトラカルボン酸二無水物、ナ
フタレンーL4.58−テトラカルポン酸二無水物、デ
カヒドローナフタレン−1.4,5. 8−テトラカル
ボン酸二無水物、4.8−ジメチルーL2,3,5.6
. 7−ヘキサヒド口ナフタレン−1.2,5. 6−
テトラカルボン酸二無水物、2.6−ジクロロナフタレ
ン−1,45.8−テトラカルボン酸二無水物、2,7
−ジク口口ナフタレン−1.4,5. 8−テトラカル
ボン酸二無水物、2.3,6. 7−テトラク口口ナフ
タレン−1.4,5. 8−テトラカルボン酸二無水物
、フエナントレンー1.8,9.10−テトラカルボン
酸二無水物、2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフエ
ニル)プロパン二=水物、1.1−ビス(2,3−ジカ
ルボキシフエニル)エタンニ無水物、1,1−ビスく3
4−ジカルボキシフエニル)エタンニ無水物、ビス(2
,3−ジカルボキシフエニル)メタンニ無水物、ビス(
3,4−ジカルボキシフエニル)メタンニ無水物、ビス
(3.4−ジカルボキシフエニル)スルホンニ無水物、
ベンゼン−1.2, 3 .4−テトラカルポン酸二無
水物、3,4.3’, 4 ’一ベンゾフエノンテトラ
カルボン酸二無水物など、またはこれらの2種以上の混
合物が挙げられるが、なかでもビロメリット酸二無水物
の使用が好ましい。
ンジアミン、バラーフエニレンジアミン、4.4’−ジ
アミノージフエニルプロパン、4,4′−ジアミノージ
フエニルメタン、ベンチジン、4.4’−ジアξノージ
フエニルサルファイド、44′−ジアミノージフエニル
スルホン、3.3’−ジアミノージフエニルスルホン、
4,4′−ジアミノージフエニルエーテル、2,6−ジ
アミノービリジン、ビスー(4−アミノーフエニル)ジ
エチルシラン、ビスー(4−アもノーフエニル)ジフエ
ニルシラン、3,3−ジクロローペンチジン、ビスー(
4−アミノーフエニル)エチルホスフインオキサイド、
ビスー(4−72ノーフエニル)フエニルホスフインオ
キサイド、ビスー(4−アξノーフエニル)−N−フエ
ニルアミン、ビスー(4−アくノーフエニル)一N−メ
チルーアミン、1,5−ジアミノーナフタレン、3,3
′−ジメチル−4.4′−ジアミノービフエニル、3.
4′−ジメチル−3′.4−ジアミノービフエニル、3
.3−ジメトキシベンチジン、2,4−ビス(ベーター
アミノーt−7’チル)トルエン、ビス(バラーベータ
ーアミノーt−プチルーフエニル)エーテル、バラービ
ス− (2−メチルー4−アミノーベンチル)ベンゼン
、パラービス−(1.1−ジメチル−5−アミノーベン
チル)ベンゼン、m−キシリレンジアミン、p−キシリ
レンジアミン、1 3−ジアミノアダマンクン、3,3
′−ジアミノ=1,1′−ジアダマンタン、3,3′一
ジアξノメチル−1.1′−ジアダマンクン、ビス(パ
ラーアミノーシクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレン
ジアミン、ベブタメチレンジアミン、オクタメチレンジ
アミン、ノナメチレンジア文ン、デカメチレンジアミン
、3−メチルへブタメチレンジアミン、4,4−ジメチ
ルへブタメチレンジアミン、2,1l−ジアξノードデ
カン、1.2−ビス−(3−アミノーブロボキシ)エタ
ン、2,2−ジメチルブロビレンジア藁ン、3−メトキ
シーへキサメチレンジアミン、2.5−ジメチルへキサ
メチレンジアミン、2,5−ジメチルへブタメチレンジ
アミン、5−メチルノナメチレンジア旦ン、1,4−ジ
アミノーシク口ヘキサン、1.12−ジアミノーオクタ
デカン、2,5〜ジアミノ−1.3. 4−オキサジア
ゾール、2.2−ビス(4−アミノフエニル)へキサフ
ルオ口ブロバン、N− (3−アミノフエニル)一4−
アξノベンズアξド、4−アミノフエニルー3−アξノ
ベンゾエートまたはこれらの2種以上の混合物が挙げら
れ、なかでも4.4′−ジアミノジフエニルエーテルが
好ましく使用される。
媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトア【ド、NN−ジエチルホルムア藁ド、
N,N−ジエチルアセトアミド、N−ジメチルメトキシ
アセトアミド、N−メチルーカブロラクタム、ジメチル
スルホキシド、N−メチル−2−ビロリドン、テトラメ
チル尿素、ビリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチル
ホスホルアミド、テトラメチレンスルホン、ホルムアミ
ド、N−メチルホルムアミド及びプチロラクトンである
。これらの有機溶媒は単独または溶媒の組合せで、或い
はベンゼン、ペンゾニトリル、ジオキサン、プチロラク
トン、キシレン、トルエン及びシクロヘキサンの如き溶
媒性の劣る溶媒との組合せにおいて用いることが出来る
。
らアミン類の具体例としては、トリメチルアξン、トリ
エチルアミン、トリエチレンジアミン、ビリジン、イソ
キノリン、2−エチルビリジン、2−メチルビリジン、
トリエチルア壽ン、N一エチルモルフオリン、N−メチ
ルモルフオリン、ジエチルシク口ヘキシルアミン、N−
ジメチルシクロヘキシルアミン、4一ペンゾイルビリジ
ン、2,4−ルチジン、2.6一ルチジン、2,4.
6−コリジン、3.4−ルチジン、35−ルチジン、4
−メチルピリジン、3−メチルビリジン、4−イソプロ
ビルビリジン、Nージメチルベンジルアミン、4−ベン
ジルビリジン、及びN−ジメチルドデシルアミンなどが
挙げられる。
’−ジアルキルカルボジイ泉ド類、低級脂肪酸ハロゲン
化物、ハロゲン化低級脂肪酸ハロゲン化物、ハロゲン化
低級脂肪酸無水物、アリールホスホン酸ジハロゲン化物
及びチオニルハロゲン化物が挙げられる。
ビオン酸無水物、酪酸無水物、吉草酸無水物、これらが
互いに混合された無水物及び芳香族モノカルボン酸例え
ば安息香酸、ナフトエ酸等の無水物との混合物、及び炭
酸及びギ酸並びに脂肪族ケテン類(ケテン及びジメチル
ケテン)の無水物との混合物などが挙げられるが、なか
でも無水酢酸およびケテン類の使用が好ましい。
には、o−、m一及びp−t−ルイル酸、m一及びP一
エチル安息香酸、p−プロビル安息香酸、p−イソプロ
ビル安息香酸、アニス酸、0−、m一及びP−ニトロ安
息香酸、0、m一及びp−ハロ安息香酸、種々のジブロ
モ及びジクロロ安息香酸、トリブロモ及び1・リクロロ
安息香酸、ジメチル安息香酸の異性体例えばヘメリチル
酸、3.4−キシリル酸、イソキシリル酸及びメシチレ
ン酸、ベラトルム酸、トリメトキシ安息香酸、アルファ
一及びベーターナフトエ酸、及びビフェニルカルボン酸
などの酸の無水物、及び上記無水物相互の混合無水吻及
び脂肪酸モノカルボン酸例えば酢酸、プロビオン酸等の
無水物との混合物無水物、及び炭酸及びギ酸各無水物と
の混合無水物が挙げられる。
N=C=N−R (式中Rは異なったアルキル基であり得るが、一般に同
一である) により表わされ、好ましくは、R基はl乃至8個の炭素
原子の低級アルキル基である。
ル、沃化アセチル及び弗化アセチル、塩化プロビオニル
、臭化プロピオニル、沃化プロビオニル及び弗化ブロビ
オニル、塩化イソブチリル、臭化イソブチリル、塩化n
−ブチリル、臭化n−ブチリル、塩化バレリル、塩化モ
ノー塩化ジー及び塩化トリークロロアセチル、臭化プロ
モアセチル、クロロ酢酸無水物、フエニルホスホン酸ジ
クロライド、塩化チオニル、臭化チオニル、弗化チオニ
ル及びチオニルク口口フルオライド、およびトリフルオ
ロ酢酸無水物が挙げられる。
に押出され、乾燥、熱処理を行なうことにより、イミド
化が進み前記(1)式構造を有するポリイミドフィルム
が得られる。
くは7〜125μ閤になるように調整することが必要で
ある。
ムの長さ方向の張力を10kg/m以下に保ちながら、
比較的低い温度で、しかも比較的短時間で加熱処理する
。
全無張力下では特に連続巻取りを行なうとき、フィルム
が蛇行し、熱収縮率のばらつきが大きくなる傾向にある
ので、1 kg / m以上が好ましい、また、lOk
g/ mを越えると本発明の目的である加熱低収縮性の
フィルムが得られなくなる。
を吹き付ける方法が好ましい。ポリイミドフィルムは遠
赤外線領域に吸収ピークがあり、この吸収波長を含む遠
赤外線を照射することにより、極めて短時間で加熱が行
なわれる。
ョンヒーターを併用することもでき、さらにはラジエー
ションヒーターのみを用いて加熱処理を行なうこともで
きる。
〜60秒、とくに2〜30秒で十分である。
C、とくに100〜230’Cが好ましい。
、これを200’Cで1時間熱処理した後のフィルム長
さ方向(MD)および幅方向(TD)の収縮率が何れも
0.05%以下という、実用性の高い特性を有している
. 〔実施例〕 以下、実施例を挙げて本発明の効果を具体的に説明する
。
ルエーテルを等モルずつN,N−ジメチルアセトアミド
中に入れ攪拌しながら反応を進めることにより、ボリア
ミド酸溶液を得た。
攪拌した後、加熱支持体上に溶液を押出し、ポリイミド
に転化させて自己支持性のフィルムとした後、支持体か
ら剥離し、さらにイミドへの転化反応を完結すると共に
溶媒を乾燥し、厚み25μ鴎のポリイミドフイルムとし
てロール状に巻取った。
ル型赤外線照射炉に連続的に送り込み、表1に示した条
件で熱処理した後、炉外で巻取りながら室温まで冷却し
た。熱処理中のフィルム張力は送りローラと巻取ローラ
の回転速度差で調節し、熱処理時間は各ローラの相対回
転速度で調油した。
処理した後の熱収縮率であり、測定方法はJPC^−B
MOI−1988に準じた。
″Cとして同様の実験を行なった結果、フイルムにシワ
が生じ、連続的に巻取ることが困難であった。
ィルムを得た。これを230゜Cのトンネル型赤外線照
射炉に送り込み、表2に示した処理張力で30秒間熱処
理した後、室温まで冷却した。
kg/m以下に保ちながら、比較的低温で短時間熱処理
することにより得られるため、加熱処理効率がすぐれ、
フィルムに波打ちやしわが発生することがなく、しかも
連続化が可能である。
時間熱処理後の収縮率が、問およびTO方向共に0.0
5%以下とすぐれた特性を有しており、フレキシブルプ
リント基板などの用途に有用である。
Claims (1)
- フィルムの長さ方向の張力を10kg/m以下に保ちな
がら、加熱処理した後、冷却処理を施してなり、200
゜Cで1時間熱処理後の収縮率が0.05%以下の特性
を有する低収縮性ポリイミドフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190534A JP3020174B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 低収縮性ポリイミドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190534A JP3020174B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 低収縮性ポリイミドフィルム |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11258696A Division JP3136487B2 (ja) | 1999-09-13 | 1999-09-13 | 低収縮性ポリイミドフイルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0355230A true JPH0355230A (ja) | 1991-03-11 |
| JP3020174B2 JP3020174B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=16259688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1190534A Expired - Lifetime JP3020174B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 低収縮性ポリイミドフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3020174B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001164006A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-06-19 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルム |
| WO2005082595A1 (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-09 | Kaneka Corporation | Md方向に分子の配向が制御された合成樹脂フィルムの製造方法 |
| JP2009184365A (ja) * | 2009-05-27 | 2009-08-20 | Micro-Tec Co Ltd | スキージ |
| JP2019011853A (ja) * | 2017-07-03 | 2019-01-24 | 内山工業株式会社 | シールワッシャ |
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1989
- 1989-07-25 JP JP1190534A patent/JP3020174B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| JP3020174B2 (ja) | 2000-03-15 |
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