JPH0356666A - 粒子状物質の真空蒸着装置 - Google Patents

粒子状物質の真空蒸着装置

Info

Publication number
JPH0356666A
JPH0356666A JP19357189A JP19357189A JPH0356666A JP H0356666 A JPH0356666 A JP H0356666A JP 19357189 A JP19357189 A JP 19357189A JP 19357189 A JP19357189 A JP 19357189A JP H0356666 A JPH0356666 A JP H0356666A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particulate materials
vapor deposition
container
evaporated
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19357189A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshikazu Kondo
義和 近藤
Masayuki Miyamoto
雅之 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanebo Ltd
Original Assignee
Kanebo Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kanebo Ltd filed Critical Kanebo Ltd
Priority to JP19357189A priority Critical patent/JPH0356666A/ja
Publication of JPH0356666A publication Critical patent/JPH0356666A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は粒子状物質の表面に真空蒸着を施す装置に関す
る。
(従来技術) 近年、高分子工業、電子工業、生化学工業、機輪産業等
にて新機能、高機能、高付加価値化の要望により、粒子
特に粒度の小さい高機能、新機能粒子が要求されている
従来微粒子への機能付与には、機能性官能基を有するモ
ノマーからの合成、機能性物質の吸着やブレンド、ドラ
イ・湿式処理による表面処理等が実施されているが機能
の付与の程度、耐久性、他の物性への影響等の為に問題
がある。
最近、電子線、プラズマ、放射線等によるドライ処理が
高度の機能付与という点より用いられる様になった。例
えば、特開昭80−47004号公報には、プラズマ空
間中で微粒子を落下させその間に表画処理を実施する事
を提案している。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、特開昭6 0−4 7 0 0 4号公
報に開示された装置では短時間に大量の粒子を処理する
ことは困難であり、又落下中に飛散した粒子が容器壁画
へ付着して歩留りが低下したり、保守に手間がかかる等
の問題があった。
本発明はかかる問題点を解決するものであって、粒子状
物質例えばボリマー、扮体、金属微粒子、セラミック微
粒子等を比較的大量に、高速でかつ均一に変質もなく真
空蒸着処理することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明は、内部を真空減圧状態とすることのできる密閉
容器、該密閉容器内に設けられる回転可能であり少なく
とも一底面が開口した筒状試料容器、該試料容器開口部
近傍に設けられた被蒸発物の加熱蒸発装置及び前記試料
容器の回転駆動装置からなることを特徴とする粒子状物
質の真空蒸着装置である。
本発明に云う密閉容器とは内外圧差1気圧に耐え得るも
のであれば形状、大きさは特に限定されないが被処理物
や被蒸発物を出入れするための開閉装置は必要である。
次に、回転可能な筒状試料容器とは、その内部に披処理
物例えば微粒子を収納し、容器の回転により微粒子を上
下に撹拌し、処理済の粒子を下部に未処理の粒子を上方
に移動させる為の物である。
形状としては、ガスの導入及び排気の効率化、放熱効果
の為に少なくとも一底面が開口した柱又は錐等の筒状形
のものを用いる。具体的には、中空状の円筒の他に、第
2図に示す多角柱状のもの、その他に円錐状、多角錐状
のもの、或は第3図に示すような容器の中程が脹らんだ
樽状の容器等があげられるが、目的に合致した物ならば
これに限定されない。又、特に錐状のものを用いると第
4図に示す如く、粒子状物質が試料容器の回転によって
上下方向に撹拌される際、同時に左右方向にも撹拌され
好ましい。試料容器の開口部には、内部の試料が外へ零
れない様にドーナツ状の堰を付ける方が良く、堰の高さ
は内部に収納する試料の量により加減すればよい。試料
容器(4〉の材質は、金属、非鉄金属、セラミック、プ
ラスチック等いずれも使用可能であるが、耐熱性、安定
性、処理物の非付ta1洗浄の容易さ等より、金属、非
鉄金属、セラミック等が好ましい。
加熱蒸発装置は被蒸発物例えば、金、銀、亜鉛、銅、ア
ルミニウム等の金属、セラミック、高分子化合物、樹脂
等を溶融して気化可能であれば特に限定されず、抵抗加
熱方式、或は電子銃加熱方式、高周波誘導加熱方式等通
常の加熱方式が採用でき、用途、目的、被蒸着物質の材
質に応じて選択すればよい。加熱蒸発装置は、試料容器
開口部近傍に設けるが特に試料に近い位置に配置する方
が蒸着効率は良い。ただ試料が熱により変質する慣れが
あるため両者のバランスにより決定する必要がある。こ
のため、試料容器内部に加熱蒸発装置を配置しても試料
に影響なければ良いが通常は、開口部近傍の試料容器外
部に配置することが好ましい。
又、蒸発物質が壁面に付着することを防ぐため、試料容
器内壁や密閉容器内壁より通常少なくとも3 0 mm
程度離れている方が好ましい。又、これらより容器内部
にフィラメント式の加熱蒸発源を有する場合、試料容器
の内径は、6 0 mm以上が好ましく、更に好ましく
は、8 0 mm以上である。
更に、好ましくは、加熱蒸発装置近傍に試料方向以外に
は蒸発物質が飛散しない様シャッター、遮蔽板を綻置す
ることにより、試料容器の余分な汚染も、過熱も防ぐ事
が出来る。
回転駆動装置は、筒状試料容器を回転せしめることが可
能であれば特に限定されず、第5図に示すベルトードラ
ム方式やローラ上に筒状試料容器を載置する方法等種々
の機構・装置が用い得るが、駆動源は密閉容器の外部に
設置することが発熱、蒸発物質の付着を防ぐために好ま
しく、このためマグネットカップリング等を用いて密閉
容器内の駆動装置と接続すればよい。
以上の如き、装置を用いて真空蒸着を行うに当っては、
試料容器内に試料を収納した後、密閉容器内を通常1 
0−2torr以下、好ましくは10−3torr以下
の真空度に減圧し、試料容器を回転しつつ、加熱し処理
すればよい。密閉容器中へのガスの導入は、特に必要で
ないが蒸発物質と反応性をもたせる必要がある時、或は
、蒸発物質の安定性を増大させる時には特定のガス導入
を行ってもよい。又、必要ならば密閉容器に温調装置も
設置する事が出来る。密閉容器に温調装置を設置する事
により高温にての問題的えば、被処理試料(11)の物
性の変化、被処理試料(11)の融着、蒸着物質の剥離
等の問題が少なくなる。
(実施例) 以下第1図を用いて本発明の一実施例を説明する。第1
図は本真空蒸着装置の全体を示す説明図である。同図に
おいて(1)はステンレス製支持台(IA)、ガラス製
ベルジャー(1B)よりなる直径350mmの密閉容器
であって、両者は開閉自在であると共に、減圧時にはパ
ッキン(2〉を介して完全に密閉され、排気管(3)に
接続された真空ポンプ(図示しない)により減圧される
。密閉容器(1)内には、直径1 1 0 mmのステ
ンレス製中空円筒試料容器(4A) (4E)が2個配
置されており、該試料容器は、夫々同方向に回転する2
本の駆動ローラー(5A)(6A’). (5B)(5
B’)上に載置されて、駆動ローラー(5)の回転によ
り回転可能となっている。駆動ローラー(5A) (5
B)は駆動軸(6A) (6B)と直結して密閉容器(
1)壁面まで達しており、壁面部でマグネットカップリ
ング(7A) (7B)を介して密閉容恭(1)外部へ
と伝動されモータ(8A) (8B)によって駆動され
る。更に、両試料容W (4A) (4B)の略々中央
部には加熱用フィラメント(9)が配され、該フィラメ
ント(9)の電線(10)はパッキンを介して密閉容器
(1)外部へと導びかれる。本実施例においては、フィ
ラメント(9)と試料(IIA) (IIB)との間は
夫々約1 0 0 mm離れている。
かかる装置を用いて、平均粒径0.7μの酸化チタン粒
子を試料容器内に収納し、10回/分で回転せしめ、タ
ングステンフィラメントを赤熱して、銀を15分間蒸着
せしめたところ蒸着ムラは全く見られず、又試料の変質
もなかった。
(発明の効果) 本発明にかかる装置は、粒子状物質、特に微粒子状物質
の真空蒸着処理を実施する場合、一度に多量に処理でき
るばかりでなく、均一にしかも効率のよい処理が可能と
なり従来の処理装置に比較して格段に優れた装置である
。又、熱による試料の変質も少なく処理試料の安定性の
向上、蒸着物質の保護等に極めて効果的である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本真空蒸着装置の一例を示す説明図、第2〜4
図は他の試料容器の例を示す説明図、第5図は他の駆動
装置の例を示す説明図である。 第 1 図 第 2 図 第 3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)内部を真空減圧状態とすることのできる密閉容器
    、該密閉容器内に設けられる回転可能であり少なくとも
    一底面が開口した筒状試料容器、該試料容器開口部近傍
    に設けられた被蒸発物の加熱蒸発装置及び前記試料容器
    の回転駆動装置からなることを特徴とする粒子状物質の
    真空蒸着装置。
JP19357189A 1989-07-26 1989-07-26 粒子状物質の真空蒸着装置 Pending JPH0356666A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19357189A JPH0356666A (ja) 1989-07-26 1989-07-26 粒子状物質の真空蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19357189A JPH0356666A (ja) 1989-07-26 1989-07-26 粒子状物質の真空蒸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0356666A true JPH0356666A (ja) 1991-03-12

Family

ID=16310224

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19357189A Pending JPH0356666A (ja) 1989-07-26 1989-07-26 粒子状物質の真空蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0356666A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0623751U (ja) * 1992-08-28 1994-03-29 ブラザー工業株式会社 ホットメルト式インクジェットプリンタ
US5477255A (en) * 1993-09-07 1995-12-19 Hewlett Packard Corporation Ink cartridge system with improved volumetric capacity and method for using the same
KR101063755B1 (ko) * 2008-02-15 2011-09-14 한양대학교 산학협력단 금속 나노입자상의 자기조립단분자층 코팅장치 및 이를이용한 코팅방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5081981A (ja) * 1973-11-26 1975-07-03
JPS6015142A (ja) * 1983-07-06 1985-01-25 三菱レイヨン株式会社 金属被覆繊維強化プラスチツク円筒の製造法
JPS63312969A (ja) * 1987-06-17 1988-12-21 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 粉末粒子の真空蒸着法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5081981A (ja) * 1973-11-26 1975-07-03
JPS6015142A (ja) * 1983-07-06 1985-01-25 三菱レイヨン株式会社 金属被覆繊維強化プラスチツク円筒の製造法
JPS63312969A (ja) * 1987-06-17 1988-12-21 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 粉末粒子の真空蒸着法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0623751U (ja) * 1992-08-28 1994-03-29 ブラザー工業株式会社 ホットメルト式インクジェットプリンタ
US5477255A (en) * 1993-09-07 1995-12-19 Hewlett Packard Corporation Ink cartridge system with improved volumetric capacity and method for using the same
KR101063755B1 (ko) * 2008-02-15 2011-09-14 한양대학교 산학협력단 금속 나노입자상의 자기조립단분자층 코팅장치 및 이를이용한 코팅방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3213827A (en) Apparatus for gas plating bulk material to metallize the same
JPS59208069A (ja) 多くの物質を蒸着させるための放射加熱部を有する蒸発装置
JPH07506875A (ja) 大量生産製品を真空被覆する装置
US3926147A (en) Glow discharge-tumbling vapor deposition apparatus
US4155011A (en) Apparatus for treating substrates with an ion beam
US10793945B2 (en) Powder coating apparatus
JPH0356666A (ja) 粒子状物質の真空蒸着装置
JPS59170208A (ja) 溶融金属等を粒子状にする急速固化装置
JPH03153864A (ja) 粒子の表面被覆方法及びその装置
US2846971A (en) Apparatus for coating particulate material by thermal evaporation
US2374331A (en) Process of aluminum coating
JP2002277166A (ja) バッチ式ロータリーキルン
US4515629A (en) Degassing metal powder
US3746571A (en) Method of vacuum evaporation
US4472453A (en) Process for radiation free electron beam deposition
JPS6183616A (ja) 蒸気の発生方法
KR20080084140A (ko) 진공 처리 장치 및 이를 이용한 분체의 진공 처리 방법
CN102019420A (zh) 复合微粒制造设备与方法
WO2007061012A1 (ja) 金属、金属の製造方法、金属の製造装置及びその用途
US20240286124A1 (en) Device for managing samples in sample containers under vacuum
JPH0726379A (ja) 薄膜の形成方法及びその装置
JPH0238923Y2 (ja)
CN106513990B (zh) 含纳米铝球光吸收层适用于1064nm激光的飞片系统及制备方法
US3644101A (en) Cesium evaporator
JPH0931557A (ja) 粉粒体の真空処理装置