JPH0356965A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

Info

Publication number
JPH0356965A
JPH0356965A JP1191295A JP19129589A JPH0356965A JP H0356965 A JPH0356965 A JP H0356965A JP 1191295 A JP1191295 A JP 1191295A JP 19129589 A JP19129589 A JP 19129589A JP H0356965 A JPH0356965 A JP H0356965A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
exposure
stage
contact
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1191295A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidejiro Ono
秀次郎 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MITSUMURA GENSHIYOKUBAN INSATSUJIYO KK
Original Assignee
MITSUMURA GENSHIYOKUBAN INSATSUJIYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MITSUMURA GENSHIYOKUBAN INSATSUJIYO KK filed Critical MITSUMURA GENSHIYOKUBAN INSATSUJIYO KK
Priority to JP1191295A priority Critical patent/JPH0356965A/ja
Publication of JPH0356965A publication Critical patent/JPH0356965A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は、露光対象物、例えば感光膜が表面に塗布さ
れたガラス板などを露光するための露光装置において、
端面を利用して見当合わせを行う位置合わせ機構及び密
着機構の改良に関するものである。
〈従来の技術〉 露光対象物を置くステージ6と、マスク2を保持し該ス
テージと該マスクが平行を保ちつつ該マスクを上下動す
るマスクホルダー3とを備えた露光装置において、従来
の見当合わせ機構は、該ステージ6にX方向、y方向に
対応するように配置された見当合わせ用当てピン1と、
同しく該ステージ6上に設けられた該当てピンlに露光
対象物を押し当てるためのχ方向、y方向のアーム・4
により構成されている。
次に動作について説明する。ステージ6上に置かれた露
光対象物をアーム4により当てピン1に押し当て位置合
わせを行う。次にアーム4で押したままの状態でステー
ジに設けられた固定用バキューム10を作動して露光対
象物をステージ6上の所定の位置に固定した後、アーム
4を外し、マスク2を露光対象物に重ね合わせる。この
時、露光対象物、例えばガラス基板では、通常10%程
度の厚さムラがある。このためマスク2と露光対象物と
を重ね合わせただけでは、密着不良により画像がボケて
しまう。
マスク2と露光対象物とを、ボケないように密着させる
装置としては、ステージに密着用バキューム機構1 0
’を備え、言亥バキューム10′により強制的に密着さ
せるハードコンタクト式と、密着用バキューム機構を持
たず、マスク表面と露光対象物が数μを於いて常に平行
を保状態で露光されるようにステージがセンサを持ち厚
さムラに対応して動くようになっているソフトコンタク
ト式とが一般的である。
〈発明が解決しようとする課題〉 ハードコンタクト式では、位置合わせを行った後、マス
クホルダーによりマスクを下方向に動かし露光対象物に
重ね合わせるため、下方向運動の際にマスクが僅かでも
水平方向にずれると、位置合わせ時の位置からずれてし
まい、厳密には露光対象物上の所定の位置に画像を形或
することができないという欠点がある。また、露光対象
物とマスクをバキュームにより強く密着させ、厚さムラ
に補正をかけるので、解像性の高い画像を得られるが、
反面僅かな異物や擦れによりマスクが傷つき、高価なマ
スクの寿命を縮めるという欠点や、バキュームに著しい
時間を要し、生産性が低いという欠点もある。
一方、ソフトコンタクト式では、マスクと露光対象物が
直接強く触れることがないためにマスクが傷つかず、厚
さムラに対してもステージがセンサにより微調整をする
ようになっており問題はない。また、マスクと露光対象
物が接していないため、精度の微調整も可能で精度の高
い画像を得ることができる。しかし、マスクと露光対象
物が数μを於いて重なっているため、解像性はハーF’
コンタクト式に比べ低くなっており、また様々な微調整
機構が必要で高価な装置となっている。
精度、解像性に優れ、安価で生産性の高い装置が望まれ
ている。
〈課題を解決する手段〉 この発明は、当てピンをマスクまたはマスクホルダーに
設け、これに伴い密着をブロア機構により行うことによ
って、前記課題を解決するものである。
この発明は、露光対象物を固定し、交換の際にマスクホ
ルダーの下より取り出すためにスライドするステージ6
と、該ステージ6とマスク2が平行になるようマスク2
を保持するマスクホルダー3とを備え、当てピンとアー
ムにより見当合わせを行う露光装置において、当てピン
1がマスク2またはマスクホルダー3の露光対象物側の
面に取りつけれ、且つ該ステージ6には露光対象物を固
定するバキューム機構10と露光対象物を浮かせて位置
合わせを行った後、空気の圧力で密着させるためのプロ
ア機構7が設けられた露光装置である。
当てピン1は、マスク2またはマスクホルダー3の露光
対象物側の面に取りつけられているが、アーム4もマス
クホルダー側に取りつけられていてもよい。
ステージ6に備えられている該バキューム機構10とブ
ロア機構7は別々の機構でも、弁などで切り換え可能な
同一のエア機構でもよい。
第1図はこの発明の縦断面図、第2図はマスクの露光対
象物側から見た平面図、第3図はステージ上面の平面図
である。ステージ6上に設けられた凹字型のX方向用ア
ームなとT字型のY方向用アームμ′のそれぞれに対応
して、X方向用当てピン2つ、y方向用の当てピン1つ
がマスクの露光対象物側の面に配置されている。基板の
大きさによってはマスク面ではなく、マスクホルダーの
露光対象物側に配置される。
く作用〉 当てピンがマスクまたはマスクホルダーの露光対象物側
に取りつけられ、マスク上に形威されたパターンの位置
と当てピンの位置との相対距離は一定ニft リ、この
当てピンを介して露光対象物とマスクの位置合わせを行
うので、密着時の位置の狂いがなくなる。
また、ブロアは、バキュームに比べて圧力を調整しやす
いので、露光対象物の厚さムラを矯正して、マスクと露
光対象物を密着させるのに必要十分な圧力をかけること
ができる。位置合わせ時には軽く露光対象物を持ち上げ
、位置合わせ後ブロア機構の空気圧を強めることにより
、マスクと露光対象物とにかかる圧力が密着に必要な圧
力で且つ必要以上の圧力が加わらないように調整できる
この時、ブロア機構の空気圧を強めると同時にマスクホ
ルダーを下げて、この二つの動作により空気圧を調整し
てもよい。
〈実施例〉 予め、マスク2上の所定の位置に、接着剤を用いて3個
の当てピン1を配置した。ステージ6には、露光対象物
を上置してステージをマスク下に移動する際に、露光対
象物8を固定するためのバキューム機構10と、露光対
象物をアーム4により当てピン1に押し当てる際に露光
対象物8を軽く持ち上げ、且つ露光の際にはマスク2と
露光対象物8とを密着させるためのブロア機構7とを兼
ねたエア機構が備えられている。該バキューム機構は約
70mmHg,該プロア機構は約2 0 g/cボであ
る。
次にこの発明による位置合わせ及び露光の工程を第4図
により簡単に説明する。当てピン、アームの位置につい
ては第2図、第3図参照する。
a.ステージ6上の2本のアーム44′を引いた状態と
して、該アーム44′に当てるようにして露光対象物(
厚さ1.1n+m 、300 X300mmガラス製基
板)を位置決めしてバキュームをかけて固定する。
b.ガラス基板を固定したステージ6、マスクホルダー
3の下に移動する。
C.バキューム10を切り、ブロアをかけ、ガラス基板
を浮かせる。
よ.この状態でガラス基板をまずX方向のアーム4で押
し当て、χ方向のアーム4を押し当てたままY方向のア
ーム4′で押し当て、マスク上に取りつけてある当てピ
ンに基手反をセットする。
e.ガラスの厚さムラを矯正するのに必要十分な圧力に
なるまでマスクホルダーを下げ、マスクとガラス基板を
密着させる。この状態で露光する。
f.露光停止後、2本のアーム44′を引く.9.ブロ
アを切り、バキュームをかけ、ガラス基板を再度固定し
、マスクホルダーを上げる。
h.ステージをマスクホルダー下より外に移動する. バキュームを切り、ガラス基板を取り出す。
く発明の効果〉 この発明は、当てピンとマスク上のパターンの相対距離
が常に一定であり、この当てピンを介して露光対象物と
マスクパターンの位置合わせを行うので、極めて高い位
置精度が得られ、露光後の基板上のパターンの位置のバ
ラツキは殆ど見られない。
さら,にこの発明は、プロア機構により露光対象物とマ
スクを密着させるため、露光対象物の厚さムラによる接
触部、非接触部ができるのを防ぐのに必要十分な圧力で
露光対象物をマスクに押しつけるので、ソフトコンタク
ト式に比べ、解像性が高く、しかもこの圧力はハードコ
ンタクト式に比べ小さく、従ってマスクが傷つくのを減
少させる。
また、ブロアはバキュームに比べ所定の圧力に達するま
でに要する時間が短く作業性、生産性も高められる。
【図面の簡単な説明】
第l図は露光装置におけるこの発明のマスク、ステージ
部分の縦断面図。第2図はマスクホルダーにセットした
この発明によるマスクの露光対象物側から見た平面図。 第3図はステージの露光対象物側から見た平面図。第4
図はこの発明実施例による位置合わせ、露光工程の説明
図。第5図は、従来の露光装置におけるマスク、ステー
ジ部分の縦断面図。 ■、1は当てピン、2はマスク、3はマスクホルダー 
4、4′はアーム、5はシリンダー 6はステージ、7
はブロア機構、8は露光対象物、9はクンション、1o
、1 0’はハキューム機構。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)露光対象物を固定し、交換の際にマスクホルダー
    の下より取り出すためにスライドするステージ6と、該
    ステージ6とマスク2が平行を保つよう該マスクを保持
    するマスクホルダー3とを備え、当てピンとアームによ
    り見当合わせを行う露光機において、該当てピン1がマ
    スク2の露光対象物側の面に取りつけられ、且つ該ステ
    ージ6には露光対象物を固定するバキューム機構10と
    露光対象物を浮かせて位置合わせを行った後、空気の圧
    力によりマスクと密着させるためのブロア機構7とが備
    えられていることを特徴とする露光装置。
  2. (2)該当てピン1がマスクホルダー3の露光対象物側
    の面に取りつけられている請求項(1)記載の露光装置
JP1191295A 1989-07-26 1989-07-26 露光装置 Pending JPH0356965A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1191295A JPH0356965A (ja) 1989-07-26 1989-07-26 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1191295A JPH0356965A (ja) 1989-07-26 1989-07-26 露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0356965A true JPH0356965A (ja) 1991-03-12

Family

ID=16272191

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1191295A Pending JPH0356965A (ja) 1989-07-26 1989-07-26 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0356965A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006066585A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Ushio Inc 光照射装置
JP2008275807A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Fujifilm Corp 基板クランプ機構及び描画システム
JP2019135791A (ja) * 2010-08-05 2019-08-15 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. インプリントリソグラフィ

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006066585A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Ushio Inc 光照射装置
JP2008275807A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Fujifilm Corp 基板クランプ機構及び描画システム
JP2019135791A (ja) * 2010-08-05 2019-08-15 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. インプリントリソグラフィ
US10890851B2 (en) 2010-08-05 2021-01-12 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4478424B2 (ja) 微細加工装置およびデバイスの製造方法
CN101663619B (zh) 曝光方法及曝光装置
JP6465591B2 (ja) 描画装置
TW200400423A (en) Full-contact type exposure device
KR20090097772A (ko) 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치
US6232023B1 (en) Contact exposure process and device
JPS6331117A (ja) リソグラフイ装置における位置合わせ装置とその運転方法
US7916277B2 (en) Exposing apparatus having substrate chuck of good flatness
JPH0356965A (ja) 露光装置
KR100574075B1 (ko) 마스크의 휨 보정 방법 및 휨 보정 기구를 구비한 노광 장치
JPH0147007B2 (ja)
US4669868A (en) Step and repeat exposure apparatus and method
JP2001148335A (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JP2509134B2 (ja) プリント配線基板の露光方法及び装置
KR100205199B1 (ko) 필름마스크를 이용한 노광방법 및 장치
JP2003156860A (ja) 露光における位置合わせ装置
KR20100022817A (ko) 미세패턴 형성장치 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법
JPH11260676A (ja) 半導体ウエハ、露光装置、露光方法及び半導体ウエハの位置決め方法
JP2000187227A (ja) 液晶装置の製造方法
JP2859809B2 (ja) 露光方法およびその装置
JPH0710358Y2 (ja) レチクル整合装置
KR20080023350A (ko) 노광방법 및 노광장치
JP2007250767A (ja) 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
JPH0957950A (ja) 印刷機の見当合せ装置
CN118458690A (zh) 一种基于液体表面张力提高晶圆键合对准精度的方法