JPH0357452B2 - - Google Patents

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JPH0357452B2
JPH0357452B2 JP57136520A JP13652082A JPH0357452B2 JP H0357452 B2 JPH0357452 B2 JP H0357452B2 JP 57136520 A JP57136520 A JP 57136520A JP 13652082 A JP13652082 A JP 13652082A JP H0357452 B2 JPH0357452 B2 JP H0357452B2
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JP
Japan
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light receiving
scanning direction
beams
turned
receiving section
Prior art date
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Application number
JP57136520A
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English (en)
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JPS5926005A (ja
Inventor
Yoshiaki Matsunaga
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
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Publication of JPS5926005A publication Critical patent/JPS5926005A/ja
Publication of JPH0357452B2 publication Critical patent/JPH0357452B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Dot-Matrix Printers And Others (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、変調可能な複数のビームをポリゴン
ミラー等の走査装置を用いて偏向させて被走査面
上を同時に走査するマルチビーム走査装置に関す
るものであり、さらに詳しくは、被走査面上で印
字開始位置を決めるための信号(以下、SOS信号
という。)を検知するビーム位置検知方法に係わ
る。
上記マルチビーム走査装置はシングルビーム走
査装置に比べポリゴンミラーの回転数を低減する
ことができるので耐久性や振動の面から利点が大
きい。しかし、SOS信号の検知については各ビー
ム相互の関係が加わるので非常に難しくなる。
一つの方法として、ビーム発生装置の相互位置
を正確に決めておいて各ビームのうちの1つのビ
ーム位置のみを検出し、他のビームの位置は検知
されたビームの位置を補正してSOS信号とするや
り方が考えられる。
例えば、第1図に示すように100μm間隔で発
光部をもつ半導体レーザー1を主走査方向に対し
てθ傾けて設置し、第2図に示す焦点距離5mmの
コリメータレンズ2、ポリゴンミラー3及び焦点
距離500mmのfθレンズ4とで被走査面上に投影す
る場合を考えると、100μmのビーム間隔に対し
被走査面上で±30μmの誤差を許容するとして
も、ビームは100倍に拡大されるので半導体レー
ザー1を傾ける角度θを sin-1(1/100±3/1000) の精度としなければならない。また、半導体レー
ザー1の各発光部を段階状にずらす場合は±0.3μ
mの精度でずらさねばならない。このような高精
度での半導体レーザーの配置或いは、製作は非常
に難しいものである。
上記方法の変形として、第3図に示すように被
走査面上でのビームの相互位置を各ビーム毎に設
けたミラー5,5,5で調整することが考えられ
る。即ち、各ミラー5,5,5を主走査方向と平
行な軸のまわりに回動してビーム間隔を調整する
とともに副走査方向と平行な軸のまわりに回動し
て各ビームの主走査方向の位置を調整するのであ
る。
しかし、この方法もミラー5,5,5の調整と
いう新たな調整要素が加わるうえにその調整が非
常に微妙なものであり、実際には難しい方法であ
る。
そこで各ビーム毎に別々にビーム位置を検知す
ることが考えられるが、通常のレーザービームプ
リンタでは走査線の間にすきまができないように
するために被走査面上ではビームがオーバーラツ
プするように設定されている(第4図)。例えば
ビーム間隔を100μmとした場合、中心強度の
1/e2で定義したビーム径を被走査面上で200μm
程度になるように設定する訳である。しかしこの
ようなオーバーラツプは、各ビーム毎に設けられ
た検知装置が他のビームをも検知してしまい誤動
作の原因となる。
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので
あり、マルチビーム走査装置のビーム位置検知を
ビームがオーバーラツプしているにもかかわらず
各ビーム毎に精度よく検知できるビーム位置検知
方法を提供することを目的とする。
上述の目的は、各ビームの位置を検知するため
の複数の受光部を各ビームの走査線上で主走査方
向にずらして配置し、ビームの点灯・対応する受
光部によるビームの検知・ビームの点灯を走査開
始側から検知されるビームの順におこなうことに
よつて達成される。即ち、ビームの点灯は受光部
にビームがさしかかる前におこなわれ、このビー
ムが検知されるとこのビームを消灯するとともに
次のビームを所定のタイミングで点灯し、以下順
次各ビームに対して点灯・検知・消灯をおこなう
のである。
このように制御することによつて各ビームの位
置を正確に検出することができる。
以下、図面を参照して本発明の各実施例を説明
する。
第5図の実施例は複数のオーバーラツプするビ
ームB1,B2,B3,B4,B5に対し複数の受光素子
E1,E2,E3,E4,E5を各ビームの走査線上で互
いに主走査方向にずらして配置したものである。
このような受光素子からなる検知装置Mは便宜上
第3図に示すように被走査面である感光ドラム6
の側方に配置される。
各受光部の主走査方向の間隔は受光部の主走査
方向の大きさ、ビームの大きさ、走査方向の位置
誤差等からビームを点灯したとき前のビームに対
する受光部に影響しないことが必要である。ま
た、受光部の大きさは、副走査方向には入射光量
をできるだけ多くとるためビームの大きさを充分
カバーする大きさであることが望しく、主走査方
向には第6図に示すようにビームがガウスビーム
でありスレツシヨールドThをピークの中間にと
るのがもつとも誤差の影響を受けにくいためビー
ムの大きさの半分以上は必要である。
第5図の実施例において各ビームの消灯は第7
図に示すようにおこなわれる。即ち、最初のビー
ムB1がまず点灯され、このビームB1が受光素子
E1に検知されるとビームB1は消灯され、次にビ
ームB2が所定のタイミングで点灯され、このビ
ームB2が受光素子E2に検知されるとビームB2
消灯され、以下これを順次ビームB5まで続ける。
これによつて各受光素子E1〜E5からは検知信
号S1,S2,S3,S4,S5が各ビーム位置に対応して
出力される。そして、ビームB1は検知信号S1
ら時間T1後、ビームB2は検知信号S2から時間T2
後というように各ビーム毎に一定時間遅延して印
字開始位置をそろえ印字をおこなう。
第8図の実施例は1つの受光素子Eoを用い、
この受光素子Eoを主走査方向にずらされた開口
A1,A2,A3,A4,A5,A6を開けたスクリーン
SPで覆つたものである。この場合も制御は第7
図に示したようにおこなう。但し、検知信号S1
S6は1つの受光素子Eoから出力される。尚、本
発明においてビームB1〜B6は第8図に示すよう
に主走査方向に若干ずれていてもよい。
第5図のビームのオーバーラツプ状態を見ると
判るように、隣り同士のビームはオーバーラツプ
しているが離れたビーム同士はオーバーラツプし
ていない。
そこでビームをグループに分け受光素子を複数段
に並べることが考えられる。
第9図は上記の考察に基づいた実施例で、ビー
ムB1,B2,B3に対する受光素子E1,E2,E3とビ
ームB4,B5,B6に対する受光素子E4,E5,E6
に分け、夫々を副走査方向に2段に並べたもので
ある。
第10図はこれをさらに進展させ、ビームB1
B2,B3に対して1つの受光素子EAをビームB4
B5,B6に対して別の1つの受光素子EBを主走査
方向に対して傾けて設け、これら受光素子EA
EBを各ビームに対する開口A1〜A6を有するスク
リーンSPで覆つたものである。この際、スクリ
ーンSPは各受光素子毎に設けてもよい。
第11図の実施例は1つの受光素子Eoを用い、
これを覆うスクリーンSPに2段に並んだ開口A1
A2,A3,A4及びA5,A6,A7,A8を設けたもの
である。この場合各段の開口は互いに副走査方向
から見て重ならないように配置し、また、受光素
子としては応答性のよいものを用いる。
上述の通り本発明は、少なくとも第1、第2の
変調可能なビームで被走査面を同時に、かつ、各
ビームの照射が副走査方向においてほぼ一線上に
並ぶとともに隣接するビームの照射が互いにオー
バーラツプした状態で走査するマルチビーム走査
装置において、各ビームを受光して各ビームの位
置を検知するために各ビームの走査線上に設けら
れる各受光部を、第1のビームに対応する第1の
受光部が第2のビームに対応する第2の受光部に
対して主走査方向において先行するようにずらし
て配置し、第1のビームを第1の受光部に到達す
る前に点灯させ、その第1のビームが第1の受光
部によつて検出された後に隣り合う第2のビーム
を点灯させ、第1のビームを第1のビームが第2
の受光部に到達する前に消灯させるようにしたも
のであるから、ビームの照射が被走査面上でオー
バーラツプするにもかかわらず各ビームの位置を
正確に検知することができるものである。
また、共通の受光素子を各ビームの走査線上主
走査方向にずらして開口を設けたスクリーンで覆
うようにすれば受光素子の数を減らすことができ
る。
さらにまた、各ビームをグループに分け夫々の
グループに対する受光部を副走査方向に複数段に
並べれば多くのビームを用いる場合でも検知装置
をコンパクトに構成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は複数の発光部をもつ半導体レーザーを
示す図、第2,3図はマルチビーム走査装置のビ
ーム位置検知の一例として本発明者により提案検
討された方法を説明する図、第4図は複数のビー
ムの発光部と被走査面上における相互の関係を説
明する図、第5,8,9,10,11図は本発明
各実施例のビームと受光部との関係を説明する
図、第6図はビームと受光素子出力の関係を説明
する図、第7図は本発明のビーム位置検知方法の
制御を説明する図である。 1……半導体レーザー、B……ビーム、2……
コリメーターレンズ、E……受光素子、3……ポ
リゴンミラー、A……開口、4……fθレンズ、M
……検知装置、5……ミラー、S……検知信号、
6……感光ドラム、SP……スクリーン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 少なくとも第1、第2の変調可能なビームで
    被走査面を同時に、かつ、各ビームの照射が副走
    査方向においてほぼ一線上に並ぶとともに隣接す
    るビームの照射が互いにオーバーラツプした状態
    で走査するマルチビーム走査装置において、 各ビームを受光して各ビームの位置を検知する
    ために各ビームの走査線上に設けられる各受光部
    を、第1のビームに対応する第1の受光部が第2
    のビームに対応する第2の受光部に対して主走査
    方向において先行するようにずらして配置し、 第1のビームを第1の受光部に到達する前に点
    灯させ、その第1のビームが第1の受光部によつ
    て検出された後に隣り合う第2のビームを点灯さ
    せ、第1のビームを第1のビームが第2の受光部
    に到達する前に消灯させるようにしたビーム位置
    検知方法。
JP13652082A 1982-08-04 1982-08-04 マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 Granted JPS5926005A (ja)

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JP13652082A JPS5926005A (ja) 1982-08-04 1982-08-04 マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法

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JP13652082A JPS5926005A (ja) 1982-08-04 1982-08-04 マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法

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Publication Number Publication Date
JPS5926005A JPS5926005A (ja) 1984-02-10
JPH0357452B2 true JPH0357452B2 (ja) 1991-09-02

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JP13652082A Granted JPS5926005A (ja) 1982-08-04 1982-08-04 マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60230761A (ja) * 1984-04-28 1985-11-16 Nec Corp 印字位置調整回路
JP3535686B2 (ja) * 1997-03-03 2004-06-07 株式会社リコー マルチビームレーザ走査装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS57102609A (en) * 1980-12-18 1982-06-25 Canon Inc Method and device for scanning using plural number of beams

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JPS5926005A (ja) 1984-02-10

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