JPS5926005A - マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 - Google Patents
マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法Info
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- JPS5926005A JPS5926005A JP13652082A JP13652082A JPS5926005A JP S5926005 A JPS5926005 A JP S5926005A JP 13652082 A JP13652082 A JP 13652082A JP 13652082 A JP13652082 A JP 13652082A JP S5926005 A JPS5926005 A JP S5926005A
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 241000270281 Coluber constrictor Species 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N flurochloridone Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(N2C(C(Cl)C(CCl)C2)=O)=C1 OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
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- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、変調８Ｊ’能な複数のビームをポリゴンミラ
ー等の走食装置を用いて偏向させて被走査向上を同時に
走査するマルチビーム走査装置に関するものであり、さ
らに詳しくは、被走査面上、で印字開始位置を決めるた
めの信号（以下、ＳＵＳ信号という。）を検知するビー
ム位置検知ノｊ法に係わる。
ー等の走食装置を用いて偏向させて被走査向上を同時に
走査するマルチビーム走査装置に関するものであり、さ
らに詳しくは、被走査面上、で印字開始位置を決めるた
めの信号（以下、ＳＵＳ信号という。）を検知するビー
ム位置検知ノｊ法に係わる。
ト記マルチビーム走査装置はシンクルビーム走査装置に
比ベポリコンミラ−の回転数を低減することかできるの
で耐久性や振ｄｏｔの而から利点か大きい。しかし、Ｓ
Ｏ５信号の検知については各ビーム相互の関係か加わる
ので非常に難しくなる。
比ベポリコンミラ−の回転数を低減することかできるの
で耐久性や振ｄｏｔの而から利点か大きい。しかし、Ｓ
Ｏ５信号の検知については各ビーム相互の関係か加わる
ので非常に難しくなる。
一つの方法として、ビーム発生装置の相互位置を正確に
決めておいて各ビームのうちの１つのビーム位置のみを
検出し、他のビームの位置は検知されたビームの位置を
補正してＳＯ５信号とするやり方か考えられる。
決めておいて各ビームのうちの１つのビーム位置のみを
検出し、他のビームの位置は検知されたビームの位置を
補正してＳＯ５信号とするやり方か考えられる。
例えは、第１図に示すように１（）ｏＩＩｌ１間隔て発
光部をもつ半導体レーザー（１）を主走査方向に対して
θ頌春けて設置し、第２図に示す焦点ＩＩ′ＩＪ＋ＪＩ
ｌ’、 ５ ｍｍのコリメータレンズ（２）、ポリゴン
ミラー（３）及び焦点距離５００胴 のｆθレンズ（４
）とで被走査面上に投影する場合を考えると、１００μ
！ｎのビーム間隔に対し被走査向上で十′３０９μｍの
誤差を許容するとしても、ビームは１００倍に拡大され
るので半導体レーザー（１）を顔部ける角度θを サー（１）の各発光部を階段状にすらず場合は±０；３
μｉｎの精度ですらさねはならない。このような面精度
での半導体レーザーの配置或いは、装作は非常に難しい
ものである。
光部をもつ半導体レーザー（１）を主走査方向に対して
θ頌春けて設置し、第２図に示す焦点ＩＩ′ＩＪ＋ＪＩ
ｌ’、 ５ ｍｍのコリメータレンズ（２）、ポリゴン
ミラー（３）及び焦点距離５００胴 のｆθレンズ（４
）とで被走査面上に投影する場合を考えると、１００μ
！ｎのビーム間隔に対し被走査向上で十′３０９μｍの
誤差を許容するとしても、ビームは１００倍に拡大され
るので半導体レーザー（１）を顔部ける角度θを サー（１）の各発光部を階段状にすらず場合は±０；３
μｉｎの精度ですらさねはならない。このような面精度
での半導体レーザーの配置或いは、装作は非常に難しい
ものである。
上記方法の変形として、第３図に示すように被走査面り
でのビームの相互位置を各ビーム毎に設けたミラー（５
１＋５１ ＋５）で、ｉ＋、”ｌｌ ’ｌ昏することか
考えられる。
でのビームの相互位置を各ビーム毎に設けたミラー（５
１＋５１ ＋５）で、ｉ＋、”ｌｌ ’ｌ昏することか
考えられる。
即ち、各ミラー（５） （５１（５１を主走査方向と枢
持な軸のまわりに回動してビーム間隔を調整するととも
に副走査方向と平行な軸のまわりに回動して各ビームの
主走査方向の位置を調整するのである。
持な軸のまわりに回動してビーム間隔を調整するととも
に副走査方向と平行な軸のまわりに回動して各ビームの
主走査方向の位置を調整するのである。
しかし、この方法もミラーｆ５１ ＋５＋ ＋５）の調
整という新たなへＩＭ整要素が加わるうえにその調整か
Ｊ（′常に微妙なものであり、実際には難しい方法であ
る。
整という新たなへＩＭ整要素が加わるうえにその調整か
Ｊ（′常に微妙なものであり、実際には難しい方法であ
る。
そこで各ビーム毎に別々にビーム位置を検知することが
考えられるが、通常のレーザービームプリンタでは走査
線の間にすきまかできないようにするために被走査面上
てはビームかオーバーラツプするように設定されている
（弔４図）。例えはピーク・間隔を＋００μ川とした場
合、中心強度の１／ｅ２て定義したビーム径を被走査面
］゛、て２ ｆｌ ＦＩμｍ Ｊｈｊ度になるように設
定する＾１ぐである。しかしこのようなオーバルラップ
は、各ビーム毎に設けられた検知装置か他のビームをも
・寧知してしまい誤輔作の一因となる。
考えられるが、通常のレーザービームプリンタでは走査
線の間にすきまかできないようにするために被走査面上
てはビームかオーバーラツプするように設定されている
（弔４図）。例えはピーク・間隔を＋００μ川とした場
合、中心強度の１／ｅ２て定義したビーム径を被走査面
］゛、て２ ｆｌ ＦＩμｍ Ｊｈｊ度になるように設
定する＾１ぐである。しかしこのようなオーバルラップ
は、各ビーム毎に設けられた検知装置か他のビームをも
・寧知してしまい誤輔作の一因となる。
本発明はこのような点に槻みてなされたものであり、マ
ルチビーム走ｒｊ装置のビーム位置１金知をビームかオ
ーバーラツプしているにもかが１コらす各ビームｆ祥に
積１廷よく検知てきるビーム位置検知方法を提供するこ
とを目的とする。
ルチビーム走ｒｊ装置のビーム位置１金知をビームかオ
ーバーラツプしているにもかが１コらす各ビームｆ祥に
積１廷よく検知てきるビーム位置検知方法を提供するこ
とを目的とする。
１、述の目０ζＪは、各ビームの位置を検知するための
複数の受光部を各ビームの定配ｍ、１て七走査方回にず
らして配置し、ビームの点幻、対応する受光部によるビ
ームの検知、ビームの消却をｊＬ： ｆｔ １ｉ４１始
側から検知されるビームの順におこなう口とによって達
成される。即ち、ビームの点灯は受光部にビームがさし
かがる萌におこなわれ、このビームが検知されるとこの
ビームを消灯するとともに次のビームを所定のタイミン
クで点幻し、以ド舶次各ビームに対して点灯、検知、消
却をおこなうのである。
複数の受光部を各ビームの定配ｍ、１て七走査方回にず
らして配置し、ビームの点幻、対応する受光部によるビ
ームの検知、ビームの消却をｊＬ： ｆｔ １ｉ４１始
側から検知されるビームの順におこなう口とによって達
成される。即ち、ビームの点灯は受光部にビームがさし
かがる萌におこなわれ、このビームが検知されるとこの
ビームを消灯するとともに次のビームを所定のタイミン
クで点幻し、以ド舶次各ビームに対して点灯、検知、消
却をおこなうのである。
コノヨうに制御することによって各ビームの位置を正（
１１ｆに検出することができる。
１１ｆに検出することができる。
以丁、図面を参照して本発明の各実施例を悦、明する。
第５図の実施例は複数のオーバーラツプするビームＢ＋
、ｊ３ｚ、Ｂ３．Ｂ４，１３ｓ に対し複数の受光
素子？：＋。
、ｊ３ｚ、Ｂ３．Ｂ４，１３ｓ に対し複数の受光
素子？：＋。
Ｅ２．Ｅｓ、Ｅ４．Ｅｓを各ビームの走査線１．て！１
．いに主走督方向にすらして配置したものである。この
ような受光素子からなる検知装置Ｎ１は便宜上第；３図
に示すように被走査面である感光ドラム（６）の側方に
配置される。
．いに主走督方向にすらして配置したものである。この
ような受光素子からなる検知装置Ｎ１は便宜上第；３図
に示すように被走査面である感光ドラム（６）の側方に
配置される。
各受光部の主走査方向の間隔は受光部の主走査方向の大
きさ、ビームの大きさ、走査方向の位置誤差等からビー
ムを点月したとき前のビームに対する受光部に影響しな
いことが必誂である。
きさ、ビームの大きさ、走査方向の位置誤差等からビー
ムを点月したとき前のビームに対する受光部に影響しな
いことが必誂である。
また、受光部の大きさは、副走査庁向には入射光計をで
きるたけ多くとるためビームの入きさを充分カバーする
大きさであることか望しく、主走査方＋ｒｉＪには第６
図（と示すようにビームかカウスビームでありスレッン
ヨールド１’ｈをピークの中間にとるのがもっとも誤差
の影響を受けにくぃ）Ｊめビームの大きさの半分以十は
必要である。
きるたけ多くとるためビームの入きさを充分カバーする
大きさであることか望しく、主走査方＋ｒｉＪには第６
図（と示すようにビームかカウスビームでありスレッン
ヨールド１’ｈをピークの中間にとるのがもっとも誤差
の影響を受けにくぃ）Ｊめビームの大きさの半分以十は
必要である。
・君５図の実施例において各ビームの消す１は１３７１
ス１に示すようにおこなわれる。即ち、最初のビームＢ
】かます点口され、このビームＢ１か受光素子１′、１
に検知されるとビームＢ＋は消月され、次にビーム１３
２ か所定のタイミンクで点灯され、このビームＩ％
２ が受光素子１・、２に検知されるとビーム１３２は
消灯され、以ドこれを順次ビームＢｓまて続ける。
ス１に示すようにおこなわれる。即ち、最初のビームＢ
】かます点口され、このビームＢ１か受光素子１′、１
に検知されるとビームＢ＋は消月され、次にビーム１３
２ か所定のタイミンクで点灯され、このビームＩ％
２ が受光素子１・、２に検知されるとビーム１３２は
消灯され、以ドこれを順次ビームＢｓまて続ける。
これによって各受光素子Ｅ１〜Ｅ５がらは検知信号Ｓｌ
、Ｓ２．Ｓ３．Ｓ４．Ｓ５ か各ビーム位置に対応し
て出力される。そして、ビーム１も１は検知信号Ｓ１が
ら時間１１ 後、ビーム１３２は検知信号Ｓ２がら時
間Ｊ２後というように各ビーム毎に一定時間遅延して印
字開始位ｉｆをそろえ印字をおこなう。
、Ｓ２．Ｓ３．Ｓ４．Ｓ５ か各ビーム位置に対応し
て出力される。そして、ビーム１も１は検知信号Ｓ１が
ら時間１１ 後、ビーム１３２は検知信号Ｓ２がら時
間Ｊ２後というように各ビーム毎に一定時間遅延して印
字開始位ｉｆをそろえ印字をおこなう。
・右８図の実施例は１つの受光素子Ｅｏを用い、この受
光素子ＥＯを主十ｋＪｊ向にすらされた開１１１Ａ＋。
光素子ＥＯを主十ｋＪｊ向にすらされた開１１１Ａ＋。
Ａ２．Ａ３．ｚ＼４ 、Ａ５ 、Ａ６ を開けたスク
リーンＳＰで覆ったものである。この場合も制御はつ１
，７図に示したようにおこなう。但し、検知信号８１〜
Ｓ６は１つの受光素子Ｅｏから出力される。尚、本発明
においてビームＢ＋〜１３６は第８図に示すように主７
：Ｌ青方向に若干ずれていてもよい。
リーンＳＰで覆ったものである。この場合も制御はつ１
，７図に示したようにおこなう。但し、検知信号８１〜
Ｓ６は１つの受光素子Ｅｏから出力される。尚、本発明
においてビームＢ＋〜１３６は第８図に示すように主７
：Ｌ青方向に若干ずれていてもよい。
イト５図のビームのオーバーラツプ状態を見ると判るよ
うに、隣り同士のビームはオーバーラツプしているか離
れたビーム同士はオーバーラツプしていない。
うに、隣り同士のビームはオーバーラツプしているか離
れたビーム同士はオーバーラツプしていない。
そこでビームをグループに分は受光素子を複数段に並べ
ることか考えられる。
ることか考えられる。
第９ Ｐ；ＡはＬ記の考察に蛾ついた実施例で、ビーム
Ｂ＋、ｊ３ｚ、Ｂ３に対する受光素子Ｅｌ、ｌ、２．Ｅ
３とビームＩＳ４，１３５１３６に対する受光素子Ｅ４
，１“Ｂ５． Ｅ６とに分け、夫々を副走査方向に２段
に並へたものである。
Ｂ＋、ｊ３ｚ、Ｂ３に対する受光素子Ｅｌ、ｌ、２．Ｅ
３とビームＩＳ４，１３５１３６に対する受光素子Ｅ４
，１“Ｂ５． Ｅ６とに分け、夫々を副走査方向に２段
に並へたものである。
第１０図はこれをさらに進暦させ、ビームＢ＋、Ｂ２゜
ＩＳ３に対して１つの受光素子ＥＡをビームＢ４ 、
ｌＳｓ 、 ＩＳ６に列して別の１つの受光素子ＥＢを
主走査Ｈ向に対して傾けて設け、これら吸光素子ＥＡ
、 ト、Ｂを各ビームに対する開ＬＩＡ＋〜Ａ６を有す
るスクリーンＳｌ’て摺ノつたものである。この際、ス
クリーンＳＰは各慴尤素子母に設けてもよい。
ＩＳ３に対して１つの受光素子ＥＡをビームＢ４ 、
ｌＳｓ 、 ＩＳ６に列して別の１つの受光素子ＥＢを
主走査Ｈ向に対して傾けて設け、これら吸光素子ＥＡ
、 ト、Ｂを各ビームに対する開ＬＩＡ＋〜Ａ６を有す
るスクリーンＳｌ’て摺ノつたものである。この際、ス
クリーンＳＰは各慴尤素子母に設けてもよい。
第１１図の実施例は１つの受光素子ＩＺ（］を用い、こ
れを覆うスクリーンｓｐに２段に並んた開１１ＡＩ、Ａ
２゜Ａ３．Ａ４及びＡｓ 、Ａ６ 、Ａ７ 、Ａ８を設
けたものである。この場合各段の開１」は互いに副走査
方向から卵、て屯ならないように配置し、また、受光素
子としては＋、ｐ、：答件のよいものを用いる。
れを覆うスクリーンｓｐに２段に並んた開１１ＡＩ、Ａ
２゜Ａ３．Ａ４及びＡｓ 、Ａ６ 、Ａ７ 、Ａ８を設
けたものである。この場合各段の開１」は互いに副走査
方向から卵、て屯ならないように配置し、また、受光素
子としては＋、ｐ、：答件のよいものを用いる。
上述の通り本発明は、変、、ｌＡｌ ａｆ能な複数のビ
ームて被走査ｔｆｒｉ十を同時に走査するマルチビーム
走査装置において、各ビームの位置を検知するための複
数の受光部を各ビームの走査線上で）ミ走査Ｈ回にずら
して配置し、ビームの点月、対応する受光部によるビー
ムの検知、ビームの消却を走査開始イ則から不英知され
るビームの川向におこなうものであるから、ビームが被
走査面上でオーバーラツプするにもかかわらず各ビーム
の位置を市確に検知することができるものである。
ームて被走査ｔｆｒｉ十を同時に走査するマルチビーム
走査装置において、各ビームの位置を検知するための複
数の受光部を各ビームの走査線上で）ミ走査Ｈ回にずら
して配置し、ビームの点月、対応する受光部によるビー
ムの検知、ビームの消却を走査開始イ則から不英知され
るビームの川向におこなうものであるから、ビームが被
走査面上でオーバーラツプするにもかかわらず各ビーム
の位置を市確に検知することができるものである。
また、共通の受光素子を各ビームの走査線上主走査方向
にすらして開１−１を設けたスクリーンで覆う・ように
すれは受光素子の数を減らすことができる。
にすらして開１−１を設けたスクリーンで覆う・ように
すれは受光素子の数を減らすことができる。
さらにまた、各ビームをグループに分は夫々のグループ
に対する受光部を副走査方向に複数段にζ１νべれは多
くのビームを用いる場合でも検知装置をコンパクトに構
成することができる。
に対する受光部を副走査方向に複数段にζ１νべれは多
くのビームを用いる場合でも検知装置をコンパクトに構
成することができる。
第１図は複数の発光部をもっ半導体レーサーを示す図、
第２．３図はマルチビーム走査装置のビーム位置検知の
一例として本発明者により提案検討された方法を説明す
る図、第４図は複数のビームの発光部と被走査面」−に
おける相互の関係を説明する図、ｔｌＧｓ、ｓ、９．１
ｏ、１１図は本発明各実施例のビームと受光部との関係
を説明する図、・窮６図はビームと受光素ｆ出力の関係
を説明する図、第７図は本発明のビーム位置検知方法の
制伺ｊを説明する図である。 １・・・半導体レーザー ＩＳ・・・ビーム２・・・
コリメーターレンズ １“、・・・−￥ 光４ Ｊ’３
・・・ポリゴンミラー Ａ・開１８」４・・・ｆθ
レンズ Ｎ１・・検知装置５・・・ミラー
５・検知＋、ｊ弓。 ６ ・感光ドラム Ｓ ｌｌ スクリーン出：
ｉ１！１人 ミノルタカメラ株式ノア＼社第１図 第２図 第４図 棲走食面支 あＬ−ＩＰ第５図 Ｅノ 笛８図 第７図 第６図
第２．３図はマルチビーム走査装置のビーム位置検知の
一例として本発明者により提案検討された方法を説明す
る図、第４図は複数のビームの発光部と被走査面」−に
おける相互の関係を説明する図、ｔｌＧｓ、ｓ、９．１
ｏ、１１図は本発明各実施例のビームと受光部との関係
を説明する図、・窮６図はビームと受光素ｆ出力の関係
を説明する図、第７図は本発明のビーム位置検知方法の
制伺ｊを説明する図である。 １・・・半導体レーザー ＩＳ・・・ビーム２・・・
コリメーターレンズ １“、・・・−￥ 光４ Ｊ’３
・・・ポリゴンミラー Ａ・開１８」４・・・ｆθ
レンズ Ｎ１・・検知装置５・・・ミラー
５・検知＋、ｊ弓。 ６ ・感光ドラム Ｓ ｌｌ スクリーン出：
ｉ１！１人 ミノルタカメラ株式ノア＼社第１図 第２図 第４図 棲走食面支 あＬ−ＩＰ第５図 Ｅノ 笛８図 第７図 第６図
Claims (1)
- １ 変調可能な複数のビームで被走査ｒｌｉ上を同時に
走査するマルチビーム走査装置において、各ビームの位
置を検知するための複数の受光部を各ビームの走査線上
で主走査方向にすらして配置し、ビームの点灯、対応す
る受光部によるビームの検知、ビームの消灯を走査開始
側から検知されるビームの順におこなうことを特徴とす
るビーム位置検知方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13652082A JPS5926005A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13652082A JPS5926005A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5926005A true JPS5926005A (ja) | 1984-02-10 |
| JPH0357452B2 JPH0357452B2 (ja) | 1991-09-02 |
Family
ID=15177093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13652082A Granted JPS5926005A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | マルチビ−ム走査装置におけるビ−ム位置検知方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5926005A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60230761A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-16 | Nec Corp | 印字位置調整回路 |
| US6005243A (en) * | 1997-03-03 | 1999-12-21 | Ricoh Company, Ltd. | Synchronous adjustment method, apparatus, and computer program product in a multiple beam optical system |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57102609A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-25 | Canon Inc | Method and device for scanning using plural number of beams |
-
1982
- 1982-08-04 JP JP13652082A patent/JPS5926005A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57102609A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-25 | Canon Inc | Method and device for scanning using plural number of beams |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60230761A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-16 | Nec Corp | 印字位置調整回路 |
| US6005243A (en) * | 1997-03-03 | 1999-12-21 | Ricoh Company, Ltd. | Synchronous adjustment method, apparatus, and computer program product in a multiple beam optical system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0357452B2 (ja) | 1991-09-02 |
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