JPH0357623B2 - - Google Patents

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JPH0357623B2
JPH0357623B2 JP60214852A JP21485285A JPH0357623B2 JP H0357623 B2 JPH0357623 B2 JP H0357623B2 JP 60214852 A JP60214852 A JP 60214852A JP 21485285 A JP21485285 A JP 21485285A JP H0357623 B2 JPH0357623 B2 JP H0357623B2
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JP
Japan
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resin
resin sealing
sealing part
sealed
semiconductor device
Prior art date
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Application number
JP60214852A
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English (en)
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JPS6276659A (ja
Inventor
Hiroshi Matsumoto
Takao Emoto
Toshihiro Kato
Shinjiro Kojima
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP60214852A priority Critical patent/JPS6276659A/ja
Priority to EP86304725A priority patent/EP0206771B1/en
Priority to DE8686304725T priority patent/DE3684184D1/de
Priority to KR1019860006270A priority patent/KR900001668B1/ko
Publication of JPS6276659A publication Critical patent/JPS6276659A/ja
Priority to US07/334,771 priority patent/US4924351A/en
Publication of JPH0357623B2 publication Critical patent/JPH0357623B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/411Chip-supporting parts, e.g. die pads
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/10Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
    • H10W74/111Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition the semiconductor body being completely enclosed
    • HELECTRICITY
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、樹脂封止型半導体装置に関し、さら
に詳しくは第一樹脂封止をした後第二樹脂封止を
する二重モールド形式の半導体装置に関する。
[発明の技術的背景] 半導体チツプを搭載したリードフレームを放熱
フインとともに樹脂封止をする場合、素子搭載部
と放熱フイン間で電気絶縁と熱放散が両立するよ
うに、両者の間隔を所望の値に制御してトランス
フア成形をすることは極めてむずかしい。特に、
複数の半導体チツプを搭載したリードフレームで
は、大形となるために成形中湾曲して、放熱フイ
ンに対して1つの素子搭載部が適正の間隔を保持
していても他の素子搭載部は電気絶縁を維持でき
ないほどに放熱フインに接近したり、放熱性を害
するほどに間隔が開いたりする。
このため比較的大形のリードフレームをもつ半
導体装置では第一及び第二樹脂封止をする二重モ
ールド方式が採用されている。以下第4図によつ
て、従来の二重モールド方式を説明する。
第4図aは、パワートランジスタアレーについ
て第一樹脂封止をした成形品の平面図、第4図b
は第4図a,b−b線に沿う断面図である。この
アレーは、第4図a及び第4図bにみるように、
6個の半導体チツプ1がリードフレームの6箇所
の素子搭載部2aにそれぞれ搭載されており、各
半導体チツプ1はボンデイングワイヤ3によりリ
ードフレームのリード2bとの間に回路構成され
ている。半導体チツプ1を搭載したリードフレー
ムは素子搭載部の裏面2cが露出するように常法
によりエポキシ樹脂で封止成形されて第一の樹脂
封止部4が形成される。
第4図cは第二樹脂封止をした製品の平面図、
第4図dは第4図cのd−d線に沿う断面図であ
る。第一樹脂封止をした成形品Aは、素子搭載部
の裏面2cが放熱フイン5と微小な間隔をおいて
金型内に配置され、第一樹脂封止と同じエポキシ
樹脂で封止成形されて第二の樹脂封止部6が形成
される。第二樹脂封止のエポキシ樹脂は、第一樹
脂封止をした成形品Aと放熱フイン5両者の外周
6aと、成形品Aと放熱フイン5との間隙6bに
充填されている。
[発明の技術的背景とその問題点] 上記従来の二重モールド方式の樹脂封止におい
ては、第一樹脂封止した成形品Aの剛性のほうが
リードフレーム単独であるときの剛性よりも大き
いので、素子搭載部の裏面2cと放熱フイン5の
間隙6bを、すべて所望の値にすることがより容
易となる。従つてその間隙6bをできるかぎり薄
くして放熱特性を改善することができる。しかし
ながらその反面、第一樹脂封止部4と第二樹脂封
止部6との界面の密着力が弱く、機械的衝撃を受
けると該界面に亀裂やエアーギヤツプが入りやす
い欠点があり、それが放熱特性を劣化させる原因
となつていた。
[発明の目的] 本発明の目的は、二重モールド方式の樹脂封止
型半導体装置において、第一樹脂封止部と第二樹
脂封止部との密着力を改善し、半導体装置の機械
的衝撃に対する信頼性を高め、安定した放熱特性
を得ようとするものである。
[発明の概要] 本発明は、二重モールド方式における第一樹脂
封止部に切欠き又は貫通孔を設け、該切欠き又は
貫通孔が第二樹脂封止部に対してアンダーカツト
となるテーパ若しくは段をもつことを特徴として
いる。
[発明の実施例] 次に図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。以下の図面で第4図におけると同じ符号を付
した部分は従来方式における部分と同じであるか
らその説明を省略する。
第1図Aは、第一樹脂封止部14の外周4箇所
に切欠き20を設けて第一樹脂封止をした成形品
の平面図、第1図Bは第1図AのB−B線に沿う
一部拡大断面図である。第1図の該切欠き20
は、特に第二樹脂封止部との結合を完全にするた
め内部リードの一部2dが切欠きによつて露出す
る部分に設けられている。かかる第一樹脂封止成
形品を成形するには、たとえば該内部リードの一
部2dを支承する突起を有する下型キヤビテイと
該突起に対応するとともにテーパ21をもつ突起
を設けた上型キヤビテイの成形型を用い、リード
フレームのチツプ搭載部の裏面2cが該第一樹脂
封止部において露出するように該裏面2cを下型
キヤビテイの表面に密着させるように配置してト
ランスフア成形することによつて得られる。
第1図Cは、この実施例で第二樹脂封止をした
製品の平面図、第1図Dは第1図CのD−D線に
沿う一部拡大断面図である。この実施例の第二樹
脂封止ではエポキシ樹脂が、第一樹脂封止部14
と放熱フイン5両者の外周16aと、第一樹脂封
止部14と放熱フイン5との間隙16bとに充填
されることは従来例と同様であるが、それに加え
て、第一樹脂封止部の切欠き内16cにもエポキ
シ樹脂が充填される。切欠き20のテーパ21
は、第二樹脂封止部に対してアンダーカツトの逆
テーパ(好ましくは5゜以上、より好ましくは10゜
以上とする)になつているから、第一樹脂封止部
と第二樹脂封止部の界面22における密着力が改
善される。
第2図は本発明で採用できる別の切欠き又は貫
通孔の形状を示したものである。本発明において
は、上記実施例第1図Dや第2図Aにみるような
第一樹脂封止部の外周における切欠き20,20
aに限らず、第2図B又は同図Cにみるような第
一樹脂封止部の内部における貫通孔23a,23
bであつてもよい。また、切欠き又は貫通孔は、
上記実施例第1図Dや第2図A,Bにみるような
第二樹脂封止部に対してアンダーカツトのテーパ
を有するものに限らず、第2図Cにみるような第
二樹脂封止部に対してアンダーカツトとなる段を
有するものであつてもよいのは当然である。
[発明の効果] 本発明の二重モールド形式の樹脂封止型半導体
装置によれば、第一樹脂封止部と第二樹脂封止部
との密着力が改善されるから、半導体装置の機械
的衝撃に対する信頼性が高まり、両樹脂封止部の
界面に亀裂やエアーギヤツプが入らないので放熱
特性が安定するという効果が得られる。
その効果を具体的に説明すれば、厚さ2mmの放
熱フインをもち外形寸法が75×75×6(厚さ)mm
である第1図実施例の半導体装置を相当数試料と
し、まず、第1図Cの半導体素子の所定位置E1
〜E6それぞれにおける熱抵抗Rthの分布を測定
し、次に機械的衝撃として75cmの高さから厚さ3
mmの鉄板上に5回落下させる落下試験を実施した
後の熱抵抗の分布を求めた。一方、従来の二重モ
ールド形式の従来装置についても、同様の試験を
行ない、第3図のとおり結果が得られた。第3図
に明らかなように、本発明の半導体装置では落下
試験後の熱抵抗値が初期値とほとんど変らず、機
械的衝撃に対して極めて安定している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の二重モールド形式の半導体装
置を説明する図で、同図Aは第一樹脂封止をした
成形品の平面図、同図Bは同図AのB−B線に沿
う一部拡大断面図、同図Cは第二樹脂封止をした
製品の平面図、同図Dは同図CのD−D線に沿う
一部拡大断面図、第2図AないしCは他の実施例
の第一樹脂封止部の部分斜視図、第3図は本発明
の効果を説明するグラフ、第4図aないしdは従
来の二重モールド形式の半導体装置を第1図と同
様に説明する図である。 1……半導体素子、2c……素子搭載部裏面、
4,14……第一樹脂封止部、5……放熱フイ
ン、6,16……第二樹脂封止部、20,20a
……切欠き、23a,23b……貫通孔。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 少なくとも1つ以上の半導体素子を搭載する
    とともに、金属細線で該半導体素子を接続するこ
    とにより回路構成をしたリードフレームと、該リ
    ードフレームの素子搭載部の裏面が露出するよう
    に封止成形した第一樹脂封止部と、該第一樹脂封
    止部に露出した素子搭載部裏面に対向して間隙を
    保つように放熱フインを設置するとともに、該放
    熱フインの非対向面が露出するように該第一樹脂
    封止部と放熱フインとを封止成形した第二樹脂封
    止部とを有する半導体装置において、該第一樹脂
    封止部に切欠き又は貫通孔を設け、該切欠き又は
    貫通孔が該第二樹脂封止部に対してアンダーカツ
    トとなるテーパ若しくは段をもつことを特徴とす
    る樹脂封止型半導体装置。 2 切欠きを、第一樹脂封止部の外周部分に設け
    た特許請求の範囲第1項記載の樹脂封止型半導体
    装置。
JP60214852A 1985-06-20 1985-09-30 樹脂封止型半導体装置 Granted JPS6276659A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60214852A JPS6276659A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 樹脂封止型半導体装置
EP86304725A EP0206771B1 (en) 1985-06-20 1986-06-19 Packaged semiconductor device
DE8686304725T DE3684184D1 (de) 1985-06-20 1986-06-19 Verkapselte halbleiteranordnung.
KR1019860006270A KR900001668B1 (ko) 1985-09-30 1986-07-30 수지봉합형 반도체장치
US07/334,771 US4924351A (en) 1985-06-20 1989-04-10 Recessed thermally conductive packaged semiconductor devices

Applications Claiming Priority (1)

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JP60214852A JPS6276659A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 樹脂封止型半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6276659A JPS6276659A (ja) 1987-04-08
JPH0357623B2 true JPH0357623B2 (ja) 1991-09-02

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ID=16662612

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60214852A Granted JPS6276659A (ja) 1985-06-20 1985-09-30 樹脂封止型半導体装置

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KR (1) KR900001668B1 (ja)

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JP3035403B2 (ja) * 1992-03-09 2000-04-24 富士通株式会社 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR870003559A (ko) 1987-04-18
JPS6276659A (ja) 1987-04-08
KR900001668B1 (ko) 1990-03-17

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