JPH0357974A - 半導体検査装置及び検査方法 - Google Patents
半導体検査装置及び検査方法Info
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- JPH0357974A JPH0357974A JP1194562A JP19456289A JPH0357974A JP H0357974 A JPH0357974 A JP H0357974A JP 1194562 A JP1194562 A JP 1194562A JP 19456289 A JP19456289 A JP 19456289A JP H0357974 A JPH0357974 A JP H0357974A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、半導体検査装置及び検査方法に関する。
例えばパッケージされた半導体チップの電気的検査を行
う半導体検査装置においては、従来、1個の測定用ステ
ージを有し、被検査半導体チップを次のように順次移送
して半導体チップの良否のテストを行う。 すなわち、複数個のパッケージ済み半導体チップが収納
されたトレイから1個づつ半導体チップを取り出し、そ
れをロードテーブルに載置する。 次に、半導体チップをロードテーブルから測定用ステー
ジに移す。このとき、同時に測定用ステージ上にあった
検査済み半導体チップはアンロードテーブルに移す。測
定用ステージに移された未検査半導体チップに対しては
測定用ステージで微調位置合わせ(ファインアライメン
ト)が行われる。 この位置合わせが完了した測定用ステージは、テストヘ
ッドの下方のテスト位置まで移動される。 そして、このテスト位置において、テストヘッドと半導
体チップの各端子との電気接続が行われて、テストヘッ
ドからテスト信号を半導体チップに供給し、また、半導
体チップからの出力信号をテストヘッドが受け、検査を
行う。検査が終了すると、測定用ステージは次のチップ
の受け渡し位置であるロード・アンロード位置まで戻り
、検査済み半導体チップをアンロードテーブルに移すと
同時に次の半導体チップを測定用ステージに移す。測定
用ステージは以下同様に動く。 アンロードテーブルに移された半導体チップは不良品は
除去し、良品のみをトレイに収納する。
う半導体検査装置においては、従来、1個の測定用ステ
ージを有し、被検査半導体チップを次のように順次移送
して半導体チップの良否のテストを行う。 すなわち、複数個のパッケージ済み半導体チップが収納
されたトレイから1個づつ半導体チップを取り出し、そ
れをロードテーブルに載置する。 次に、半導体チップをロードテーブルから測定用ステー
ジに移す。このとき、同時に測定用ステージ上にあった
検査済み半導体チップはアンロードテーブルに移す。測
定用ステージに移された未検査半導体チップに対しては
測定用ステージで微調位置合わせ(ファインアライメン
ト)が行われる。 この位置合わせが完了した測定用ステージは、テストヘ
ッドの下方のテスト位置まで移動される。 そして、このテスト位置において、テストヘッドと半導
体チップの各端子との電気接続が行われて、テストヘッ
ドからテスト信号を半導体チップに供給し、また、半導
体チップからの出力信号をテストヘッドが受け、検査を
行う。検査が終了すると、測定用ステージは次のチップ
の受け渡し位置であるロード・アンロード位置まで戻り
、検査済み半導体チップをアンロードテーブルに移すと
同時に次の半導体チップを測定用ステージに移す。測定
用ステージは以下同様に動く。 アンロードテーブルに移された半導体チップは不良品は
除去し、良品のみをトレイに収納する。
以上のように、従来の半導体検査装置は、測定用ステー
ジは1個しかないため、半導体チップをロードテーブル
に移送した後は、測定用ステージにおける1個前の半導
体チップのテストが終了して、測定用ステージが半導体
チップのロード・アンロード位置まで戻ってくるまで、
待機していなければならない。そして、測定用ステージ
に次の半導体チップを載置した後、その半導体チップに
ついて、ブリアライメントを行ってロードステージから
測定用ステージに移し、さらに、ファインアライメント
を行って、テスト位置に測定用ステージを移送して、テ
ストを行うようにしなければならない。 このように、測定用ステージは、前の半導体チップのテ
スト終了後、次の半導体チップ受け取った後に、ブリア
ライメント、ロードステージから測定用ステージへの移
送、ファインアライメントを行わなければならず、スル
ープットが悪い欠点があった。 この発明は、以上の点に鑑み、スループットの向上を図
ることができる半導体検査装置及び検査方法を提供しよ
うとするものである。
ジは1個しかないため、半導体チップをロードテーブル
に移送した後は、測定用ステージにおける1個前の半導
体チップのテストが終了して、測定用ステージが半導体
チップのロード・アンロード位置まで戻ってくるまで、
待機していなければならない。そして、測定用ステージ
に次の半導体チップを載置した後、その半導体チップに
ついて、ブリアライメントを行ってロードステージから
測定用ステージに移し、さらに、ファインアライメント
を行って、テスト位置に測定用ステージを移送して、テ
ストを行うようにしなければならない。 このように、測定用ステージは、前の半導体チップのテ
スト終了後、次の半導体チップ受け取った後に、ブリア
ライメント、ロードステージから測定用ステージへの移
送、ファインアライメントを行わなければならず、スル
ープットが悪い欠点があった。 この発明は、以上の点に鑑み、スループットの向上を図
ることができる半導体検査装置及び検査方法を提供しよ
うとするものである。
この発明は、被検査体を載置した測定用ステージを、テ
゜スト位置に移動して上記被検査体のテストを行う半導
体検査装置において、 2個の測定用ステージと、 これら2個の測定用ステージを、第1の方向に移動可能
とするための共通の第1のレールと、上記2個の測定用
ステージのそれぞれを、上記第1のレール上において、
上記第1の方向とは直交する方向にそれぞれ移動可能と
するための第2及び第3のレールと、 上記2個の測定用ステージの上記第1の方向の現在位置
を検知する第1及び第2の位置検知手段と、 この第1及び第2の位置検知手段からの現在位置情報に
基づいて上記2個の測定用ステージの移動を制御する制
御手段とを設けたことを特徴とする。 また、この発明による半導体検査方法は、未検査の被検
査体が搬入され、載置されるロードテーブルと、検査済
み被検査体が搬入され、載置されるアンロードテーブル
との位置を結ぶ直線上に、第1及び第2の測定用ステー
ジの被′検査体のロード・アンロード位置を設定し、 上記ロードテーブルと上記第1の測定用ステージのロー
ド・アンロード位置との距離と、上記アンロードテーブ
ルと上記第2の測定用ステージのロード・アンロード位
置との距離とを等しくすると共に、 上記距離隔てた位置に2個の上記被検査体の保持部を有
し、この保持部を上記直線方向に移送する移送機構を設
け、 上記第2の測定用ステージのテスト状態において、上記
移送機構の保持部によって上記ロードテ−ブルの未検査
の被検査体と、第1の測定用ステージの検査済み被検査
体を同時に保持し、未検査被検査体は第1の測定用ステ
ージに、検査済み被検査体は上記アンロードテーブルに
、それぞれ移送し、 上記第1の測定用ステージのテスト状態において、上記
移送機構の保持部の一方によって上記ロードテーブルの
未検査の被検査体を保持した後、上記第2の測定用ステ
ージの検査済み被検査体を他方の保持部で保持し、その
後、未検査被検査体は第2の測定用ステージに、検査済
み被検査体は上記アンロードテーブルに、同時に載置す
るようにしたことを特徴とする。
゜スト位置に移動して上記被検査体のテストを行う半導
体検査装置において、 2個の測定用ステージと、 これら2個の測定用ステージを、第1の方向に移動可能
とするための共通の第1のレールと、上記2個の測定用
ステージのそれぞれを、上記第1のレール上において、
上記第1の方向とは直交する方向にそれぞれ移動可能と
するための第2及び第3のレールと、 上記2個の測定用ステージの上記第1の方向の現在位置
を検知する第1及び第2の位置検知手段と、 この第1及び第2の位置検知手段からの現在位置情報に
基づいて上記2個の測定用ステージの移動を制御する制
御手段とを設けたことを特徴とする。 また、この発明による半導体検査方法は、未検査の被検
査体が搬入され、載置されるロードテーブルと、検査済
み被検査体が搬入され、載置されるアンロードテーブル
との位置を結ぶ直線上に、第1及び第2の測定用ステー
ジの被′検査体のロード・アンロード位置を設定し、 上記ロードテーブルと上記第1の測定用ステージのロー
ド・アンロード位置との距離と、上記アンロードテーブ
ルと上記第2の測定用ステージのロード・アンロード位
置との距離とを等しくすると共に、 上記距離隔てた位置に2個の上記被検査体の保持部を有
し、この保持部を上記直線方向に移送する移送機構を設
け、 上記第2の測定用ステージのテスト状態において、上記
移送機構の保持部によって上記ロードテ−ブルの未検査
の被検査体と、第1の測定用ステージの検査済み被検査
体を同時に保持し、未検査被検査体は第1の測定用ステ
ージに、検査済み被検査体は上記アンロードテーブルに
、それぞれ移送し、 上記第1の測定用ステージのテスト状態において、上記
移送機構の保持部の一方によって上記ロードテーブルの
未検査の被検査体を保持した後、上記第2の測定用ステ
ージの検査済み被検査体を他方の保持部で保持し、その
後、未検査被検査体は第2の測定用ステージに、検査済
み被検査体は上記アンロードテーブルに、同時に載置す
るようにしたことを特徴とする。
2個の測定用ステージがあり、一方の測定用ステージが
テスト中に、ロードテーブルから他方の測定用ステージ
への被検査体の搬入及び他方の測定用ステージからアン
ロードテーブルへの被検査体の搬出を行い、また、他の
測定用ステージでは次の半導体チップに対するブリアラ
イメント及びファインアライメント等を行っておくこと
ができる。したがって、■つの測定用ステージのテスト
が終了したら、即座に他の測定用ステージをテスト位置
に移動させて、テストを開始することができ、スループ
ットを上げることができる。 また、2個の測定用ステージの第1の方向の移動用のレ
ールを別個に設けると、装置が大型化するとともに構成
が複雑化するので、これを回避するためにこの発明では
、1個のレールを2個の測定用ステージで共用する構成
である。この場合に、2つの測定用ステージの第1の方
向の移動範囲が同じになるが、この発明においては、両
測定用ステージの現在位置を検知する手段の検知出力を
用いてその移動を制御する。したがって、両測定用ステ
ージが衝突したりする誤動作を生じないように、コント
ロールすることが容易にできる。
テスト中に、ロードテーブルから他方の測定用ステージ
への被検査体の搬入及び他方の測定用ステージからアン
ロードテーブルへの被検査体の搬出を行い、また、他の
測定用ステージでは次の半導体チップに対するブリアラ
イメント及びファインアライメント等を行っておくこと
ができる。したがって、■つの測定用ステージのテスト
が終了したら、即座に他の測定用ステージをテスト位置
に移動させて、テストを開始することができ、スループ
ットを上げることができる。 また、2個の測定用ステージの第1の方向の移動用のレ
ールを別個に設けると、装置が大型化するとともに構成
が複雑化するので、これを回避するためにこの発明では
、1個のレールを2個の測定用ステージで共用する構成
である。この場合に、2つの測定用ステージの第1の方
向の移動範囲が同じになるが、この発明においては、両
測定用ステージの現在位置を検知する手段の検知出力を
用いてその移動を制御する。したがって、両測定用ステ
ージが衝突したりする誤動作を生じないように、コント
ロールすることが容易にできる。
以下、この発明の一実施例を図を参照しながら説明する
。 第1図はこの発明による半導体検査装置の一実施例を上
から見た図、第2図はその要部の側面図である。 この例の装置は、ローダ系1と、測定ステージ系2とか
ら構成されており、これらは防振機構を有する複数の接
続部材3によって接続されている。 ローダ系1は、複数個の半導体チップCを収納可能なト
レイTから未検査半導体チップを1個づつ取り出し、ま
た、検査終了した半導体チップを空きトレイTに順次収
納するものである。このローダ系1には、センダー機構
4、レシーバ機溝5、トレイバッファ機構6、チップ搬
入機構7、チップ搬出機構8、トレイ移送機構9、ロー
ドテーブル10、アンロードテーブル11、チップダブ
ル移送機構12とが設けられている。また、ロードテー
ブル10を含んで予備加熱機構l3が設けられている。 このローダ系1において、センダー機構4は、複数個の
未検査半導体チップを例えばマトリクス状に収納するト
レイTを複数枚、積層するようにして収容する。このセ
ンダー機構4は、上下方向に昇降自在とされている。 レシーバ機構5は、複数個の検査済半導体チップをマト
リクス状に収納したトレイTを複数枚、積層するように
して収容する。このレシーバ機構5も昇降自在に構成さ
れている。 チップ搬入機構7は、センダー機構4の一番上のトレイ
Tから1個づつ半導体チップCをロードステージ10に
移送するものである。このため、チップ搬入機構7は、
センダー機構4の上方においてY方向に伸びた搬送腕7
1がX−zステージ72にX方向及びY方向に移動可能
に取り付けられるとともに、搬送腕71に半導体チップ
Cの吸着保持部73が、この搬送腕71に沿ってY方向
に移動可能となるように取り付けられて構威されている
。 X−zステージ72は、例えばLMガイドとボールねじ
、又はタイミングベルト等で構成される。 吸着保持部73は、先端が例えばゴム性の吸着体になっ
ていて、真空吸着することにより半導体チップCをトレ
イTから取り出し、これを保持してロードテーブル10
まで移送するようにするものである。 チップ搬出機構8は、アンロードテーブル11上の検査
済み半導体チップをレシーバ機構5のトレイTに移送す
るもので、チップ搬入機構7と全く同様の構成である。 すなわち、レシーバ機構5の上方においてY方向に伸び
た搬送腕81が、X−2ステージ82にX方向及びZ方
向に移動可能に取り付けられる−,。そして、搬送腕8
1に対してY方向に移動可能に取り付けられた吸着保持
部83によりアンロードテーブル11上に載置される検
査済み半導体チップCを真空吸着して保持し、レシーバ
機構5の一番上のトレイTの空いている場所に移送して
収める。 トレイ移送機構9は、センダー機構4、レシーバ機構5
、トレイバッファ機構6の上方において、Y方向に跨が
るように伸びる基台14に対して、丁度、トレイ上方に
おいてX方向に伸びる搬送腕91がY方向及びZ方向に
移動可能に取り付けられる。そして、このトレイ移送機
構9の搬送腕91には、トレイTを真空吸着して保持し
て移送するため4個の吸着保持部92が設けられている
。 このトレイ移送機構9は、センダー機構4の一番上のト
レイTの半導体チップCが全て搬送されて空きトレイと
なった時、これを真空吸着保持してレシーバ機構5に移
送する。レシーバ機構5の一番上のトレイTに未だ半導
体チップの収納余地があるときは、トレイ移送機構9は
トレイを保持し、トレーバッファ機横6上まで搬送して
、ここで待機する。しかし、その間にセンダー機構4の
次のトレイが空きになったときは、トレイ移送機構9に
保持したトレイを、バッファトレイ機構6に一旦収納し
ておき、センダー機構4の空きトレイを吸着し、トレー
バッファ機構6上にて待機する。 さらに、チップダブル移送機構12は、基台14に対し
てY方向及びZ方向に移送可能に取り付けられている。 そして、このチップダブル移送機構12には、真空吸着
により半導体チップを吸着して保持する2個の吸着保持
#15,16が、Y方向に距Mdだけ隔てて取り付けら
れる。 なお、ロードテーブル10の上方には、ブリアライメン
ト(粗位置合わせ)用画像認識装M17が設けられてい
る。また、チップ搬出機構8のチップ搬送経路の途中の
下方には、検査の結果、不良品とされたチップを収容す
るための不良チップ収納箱18が設けられている。 予備加熱機構13は種々構成できるが、次のように構成
できる。すなわち、ロードテーブル10を半導体素子保
持ブロックで構威し、これを図中矢印で示すように環状
に移送し、この環状経路の間において、この環状経路を
挾むように上下に配置されたラバーヒー夕等の加熱手段
により、所定温度例えば150℃に加熱するように構成
する。 なお、図示のロードテーブル10の位置の上方にはヒー
タは無く、搬入機構7の吸着保持部73及びチップダブ
ル移送機構12の吸着保持部15によって、このロード
テーブル10に対する半導体チップの搬入、搬出が可能
とされている。 次に、測定ステージ系2は第1及び第2の測定用ステー
ジ21及び22を有し、それぞれ、この測定用ステージ
21及び22でローダ系1からの未検査半導体チップを
受け、その微調整位置合わせ(ファインアライメント)
を行った後、テストヘッドの下方のテスト位置まで測定
用ステージ21及び22を移動させ、検査を行い、検査
終了した半導体チップをローダ系1に測定用ステージ2
1及び22から受け渡すようにするものである。 この測定ステージ系2においては、測定用ステージ21
及び22は、第1図及び第2図に示すように、載置台2
3及び24を有ずる。載置台23.24には、図示しな
いが加熱手段が設けられており、これらに載置される予
備加熱された半導体チップを所定の温度の加熱状態に保
つようにしている。加熱手段としては、載置台23,2
4にニクロム線ヒータを埋め込む、あるいは載置台23
,24の表面に薄膜ヒータを設けるなどの手段を採用す
ることができる。 そして、載置台2B,24は、これら載置台23,24
をそれぞれZ及びθ(X,Y平面上における回転)方向
に移動可能にする移動台25.26に取り付けられてい
る。そして、移動台25.26は、それぞれこれら移動
台25.26をY方向に移動させるための第1のXレー
ル27及び第2のXレール28上に取り付けられて、第
1及び第2のXステージが構威される。さらに、これら
第1及び第2のXステージは、これらをX方向に移動さ
せるための、これら2個のXステージに共通のYレール
2つ上に取り付けられている。 そして、第1図で、測定用ステージ21の、実線で示す
位置P1は、半導体チップのロード・アンロード位置で
あり、一点鎖線で示す位置P2は、ファインアライメン
ト位置であり、二点鎖線で示す位置POは、その上方に
テストヘッドが載せられるテスト位置である。同様に、
測定用ステージ22の、実線で示す位置P3は、半導体
チップのロード・アンロード位置であり、一点鎖線で示
す位置P4は、ファインアライメント位置である。 そして、テスト位置は測定用ステージ21と同様に、二
点鎖線で示す位置POである。この場合、第1及び第2
の測定用ステージのロード・アンロード位置P1及びP
3は、ロードテーブル10とアンロードテーブル11の
位置を結んだ直線上にあり、ロードテーブル10と位置
P1との距離と、アンロードテーブルと位置P3との距
離は等しくされると共に、その距離は、チップダブル移
送機構12の吸着保持部15と16との間隔dに等しく
選定されている。 そして、測定用ステージ21及び22のファインアライ
メント位置P2及びP4の上方にはファインアライメン
ト用の画像認識装置30及び31が設けられる。 以上のように、第1.第2の測定用ステージ21.22
は、共通のYレール29A,29B上にあるので、次の
ようにしてこれら測定用ステージ21.22のX方向の
移動が錯綜しないように制御されている。 すなわち、第3図は、測定用ステージ21,22のYレ
ール29上のX方向の移動の制御回路のブロック図であ
る。 41及び42は、それぞれ測定用ステージ21及び22
のYレール29に沿ったX方向駆動モータで、これら駆
動モータ41及び42には、その1回転当たり一定数の
パルスを発生すると共に、モータの回転方向を示す信号
を得るパルスエンコーダ43及び44が取り付けられて
いる。また、45及び46は、例えばフォトセンサから
なる位置センサで、それぞれ測定用ステージ21及び2
2が半導体チップのロード・アンロード位[P1,P3
にあるとき、これを検知する。この例の場合、このロー
ド・アンロード位置PL,P3が測定用ステージ21及
び22のホームポジション位置とされ、このホームポジ
ション位置から各測定用ステージ21.22がX方向に
どれだけ移動したかにより、各測定用ステージ21.2
2の現在位置を知るようにしている。すなわち、パルス
エンコーダ43及び44からのパルス及び回転方向信号
と位置センサ45及び46からのセンサ出力が現在位置
検出回路47及び48に供給される。これら現在位置検
出回路47及び48は、例えばアップダウンカウンタで
構威され、パルスエンコーダ43.44からの回転方向
信号はアップダウン制御端子に供給され、パルスはクロ
ック端子に供給され、センサ45及び46の出力は、リ
セット端子に供給される。したがって、現在位置検出回
路47.48を構成するカウンタのカウント値は、ホー
ムポジション位置に対する測定用ステージ21.22の
現在位置を表すことになる。この現在位置検出回路47
及び48からの現在位置情報は制御回路4つに供給され
る。そして、制御回路4つからは、モータ駆動信号がモ
ータドライブ回路51及び52を介して、それぞれ駆動
モータ41及び42に供給される。この制御回路49は
、現在位置検出回路47.48からの現在位置情報から
測定用ステージ21.22の位置を知り、これに基づい
て測定用ステージ21及び22を同期を取って駆動制御
し、両測定用ステージ21.22の移動が錯綜しないよ
うにしている。 次に、以上のように構戊した半導体検査装置を用いて、
例えば150℃の高温状態で半導体チッブCの温度試験
を行う場合の動作について第4図を参照しながら説明す
る。 先ず、センダー機構4には、複数個の半導体チップCが
マトリクス状に並べられた複数枚のトレイTが積層され
て置かれる。一方、レシーバ機構5には、最初は空のト
レイTが1枚置かれる。 この状態で、チップ搬入機構7において、その吸着保持
部73をセンダー機構4の一番上のトレイTの1個の半
導体チップ位置に移動させ、そ・して、その半導体チッ
プを吸着保持し、X−Zステージ72によってその半導
体チップをロードテーブル10に移送して、載置する。 ロードテーブル10に載置された半導体チップは、予備
加熱機構13において前述したようにして150℃に加
熱された後、再び図のロードテーブル位置に戻ってくる
。そして、このσ−ドテーブル10の位置において、画
像認識装置17によりその位置が認識される。そして、
ロード・アンロード位置P1にある第1の測定用ステー
ジ21において、その画像認識情報に基づいてブリアラ
イメントする。第1の測定用ステージ21の載置台23
は、前述した加熱手段により150℃に加熱されている
。 ブリアライメントが完了すると、第4図Aに示すように
、チップダブル移送機構12の吸着保持部15をロード
テーブル10の位置に移動し、ロードテーブル10に載
置されている半導体チップを吸着保持部15が吸着保持
し、しかる後、移送機構12をY方向に移動して、第4
図Bに示すように、半導体チップを第1の測定用ステー
ジ21の載置台23上に載置する。測定用ステージ21
は、その後、ファインアライメント位置P2に移動して
、画像認識装置30による半導体チップの位置情報に基
づいて、テスト位置POにおいて、正しくブローブ針が
半導体チップの端子に接触するように、載置台23上の
半導体チップの位置をファインアライメントする。この
ファインアライメントが終了すると、測定用ステージ2
1をテスト位置POに移送し、移動台25にょり載置台
23を上昇させ、ブローブカードのプロープ針を半導体
チップの端子に接触させる。そして、前述したように、
ヘッドプレート(図示せず)上に位置するテストヘッド
(図示せず)により半導体チップのテストを行う。 この間、ロードテーブル10には、搬入機構7によって
、センダー機構4のトレイTから次の半導体チップが移
送されて、載置される。そして、画像認識装置17によ
るロードテーブルlo上の半導体チップの画像情報に基
づいて、測定用ステージ22上における半導体チップの
プリアライメントが行なわれる。ブリアライメントが完
了すると、チップダブル移送機構12は、第4図Cに示
すように、その吸着保持部15によってそのロードテー
ブル10上の半導体チップを吸着保持し、その半導体チ
ップを第2の測定用ステージ22の載置台24上に載置
する。測定用ステージ22の載置台24は、前述した加
熱手段にょり150”Cに加熱されている。 第2の測定用ステージ22は、その後、ファインアライ
メント位置P4に移動して、画像認識装置31による半
導体チップの位置情報に基づいて載置台24上の半導体
チップの位置をファインアライメントする。そして、第
1の測定用ステージ21の載置台23上の半導体チップ
のテストの終了を待つ。 第1の測定用ステージ21では、テストが終了すると、
載置台23を下降させ、その後、Y方向及びX方向に移
動してロード・アンロード位置P1に戻る。一方、第2
の測定用ステージ22がテスト位置POに移動し、その
載置台24を上昇させ、その載置台24上の半導体チッ
プのテストを開始するようにする。 このとき、ロードテーブル10には、第2の測定用ステ
ージ22に半導体チップを移送した後、さらに次の半導
体チップがセンダー機構4から搬入機構7によって移送
されて、載置されている。 したがって、第1の測定用ステージ21が位置P1に戻
ったときは、第4図Dに示すように、ロードテーブル1
0には未検査の半導体チップが、第1の測定用ステージ
21の載置台23上には検査の終了した半導体チップが
載置されている。 そして、画像認識装置17によるロードテーブル10上
の半導体チップの画像情報に基づいて、第1の測定用ス
テージ21においてブリアライメントが行なわれる。プ
リアライメントが完了すると、チップダブル移送機構1
2の吸着保持部15をロードテーブル10の位置に、吸
着保持部16を測定用ステージ21の位置に移動し、そ
れぞれ両ステージ10.21に載置されている半導体チ
ップを同時に吸着保持して搬出する。しかる後、第4図
Eに示すように、チップダブル移送機構12を移送し、
吸着保持部l5が第1の測定用ステージ21の載置台2
3の上に来たところで一旦停止して、予備加熱された未
検査半導体チップを測定用ステージ21の載置台23上
に載置し、ざらにY方向に移送を再開し、吸着保持部1
6がアンロードテーブル11の上に来たところで停止し
て、第1の測定用ステージ21の載置台23上にあった
検査済み半導体チップをアンロードテーブル11上に載
置する。 そして、アンロードテーブル11に載置された検査済み
半導体チップは、搬出機構8によってレシーバ機構5の
トレイの空き位置に収められる。 もっとも、半導体チップが検査の結果、不良品とされた
ときは、その半導体チップは、搬出機構8によってレシ
ーバ機構5に搬送される途中の不良品箱18に入れられ
る。 未検査半導体チップが載置された第1の測定用ステージ
21は、前述と同様にして、ファインアライメント位置
P2に移動して、ファインアライメントが行なわれる。 そして、第2の測定用ステージ22の載置台24上の半
導体チップのテストの終了を待つ。 第2の測定用ステージ22では、テストが終了すると、
載置台24を下降させ、その後、Y方向及びX方向に移
動してロード・アンロード位置P3に戻る。一方、第1
の測定用ステージ21がテスト位置POに移動し、その
載置台23を上昇させ、その載置台23上の半導体チッ
プのテストを開始するようにする。 このとき、ロードテーブル10には、第1の測定用ステ
ージ21に半導体チップを移送した後、さらに次の半導
体チップがセンダー機構4から搬入機構7によって移送
されて、載置されている。 したがって、第2の測定用ステージ22が位置P3に戻
ったときは、第4図Fに示すように、ロードテーブル1
0には未検査の半導体チップが、第2の測定用ステージ
22の載置台24上には検査の終了した半導体チップが
載置されている。 そして、画像認識装置17によるロードテーブル10上
の半導体チップの画像情報に基づいて、この第2の測定
用ステージ22においてプリアライメントが行なわれる
。プリアライメントが完了すると、チップダブル移送機
構12の吸着保持部15をロードテーブル10の位置に
移動し、テーブル10に載置されている半導体チップを
吸着保持して搬出する。しかる後、第4図Fに示すよう
に、チップダブル移送機構12を移送し、吸着保持部1
6が第2の測定用ステージ22の載置台24の上に来た
ところで一旦停止して、この載置台24上の検査済み半
導体チップを吸着保持部16で吸着保持する。その後、
チップダブル移送機構12をさらに移送して、第4図G
に示すように、吸着保持部15が第2の測定用ステージ
22の載置台24上に、吸着保持部16がアンロードテ
ーブル11上に来たところで停止して、予備加熱された
未検査半導体チップを測定用ステージ22の載置台24
上に載置すると同時に、第2の測定用ステージ22の載
置台24上にあった検査済み半導体チップをアンロード
テーブル11上に載置する。アンロードテーブル11に
載置された検査済み半導体チップは、前述したように、
チップ搬出機構8によって良品はレシーバ機構5のトレ
イの空き位置に収められ、不良品は不良品箱18に収め
られる。 未検査半導体チップが載置された第2の測定用ステージ
22は、前述と同様にして、ファインアライメント位置
P4に移動して、ファインアライメントが行なわれる。 そして、第1の測定用ステージ21の載置台23上の半
導体チップのテストの終了を待つ。 以下、第4図D〜第4図Gのシーケンスを順次繰り返し
、一方の測定用ステージでテストを行う間に、他方の測
定用ステージでは次の半導体チップのプリアライメント
及びファインアライメントを終了して、待機する状態に
なり、スループットが向上する。 第5図に、以上のチップダブル移送機構12の動作シー
ケンスのフローチャートを示す。 以上のようにして、センダー機構4から1個づつ半導体
チップは、ロードステージ10に送られ、第1及び第2
の測定用ステージ21及び22でテストが行なわれ、ア
ンロードステージ11を介してレシーバ機構5、あるい
は不良品箱18に収められる。 そして、センダー機構4の一番上のトレイTが空になる
と、トレイ移送機構9はこの空のトレイをセンダー機構
4から搬出する。したがって、今度はセンダー機構4の
2枚目のトレイから半導体チップの搬出がなされること
になる。トレイ移送機構9は、この空のトレイを保持し
、レシーバ機横5の一番上のトレイが半導体チップで一
杯になったらその上に、この空のトレイを乗せる。不良
チップが多く、レシーバ機構5の一番上のトレイが一杯
になる前に、センダー機横4の一番上のトレイが空にな
ったときは、トレイ移送機構9は、保持していた空のト
レイをトレイバッファ機構6に一旦収納し、センダー機
構4の一番上の空のトレイを吸着保持して搬出する。し
たがって、不良品が多い場合にも、レシーバ機構5の一
番上のトレイが一杯になるまでセンダー機構4からの半
導体チップの搬出を止めておく必要はなく、テスト時間
のスルーブットを上げられる。 なお、以上の例では予備加熱機構を特に設けたが、加熱
速度が速いものが被検査体の場合であれば、予備加熱機
構は設けなくても良い。 また、以上の例は、半導体チップを加熱した状態でテス
トを行う温度試験を行う半導体検査装置の場合について
説明したが、この発明は、このような温度試験を行う検
査装置に限らず、常温でテストを行う装置は勿論のこと
、その他の種々の半導体検査装置に適用できることは言
うまでもない。 また、以上の例はパッケージされた半導体チップの検査
装置の場合について説明したが、半導体ウェーハの検査
装置にもこの発明が適用できることはもちろんである。
。 第1図はこの発明による半導体検査装置の一実施例を上
から見た図、第2図はその要部の側面図である。 この例の装置は、ローダ系1と、測定ステージ系2とか
ら構成されており、これらは防振機構を有する複数の接
続部材3によって接続されている。 ローダ系1は、複数個の半導体チップCを収納可能なト
レイTから未検査半導体チップを1個づつ取り出し、ま
た、検査終了した半導体チップを空きトレイTに順次収
納するものである。このローダ系1には、センダー機構
4、レシーバ機溝5、トレイバッファ機構6、チップ搬
入機構7、チップ搬出機構8、トレイ移送機構9、ロー
ドテーブル10、アンロードテーブル11、チップダブ
ル移送機構12とが設けられている。また、ロードテー
ブル10を含んで予備加熱機構l3が設けられている。 このローダ系1において、センダー機構4は、複数個の
未検査半導体チップを例えばマトリクス状に収納するト
レイTを複数枚、積層するようにして収容する。このセ
ンダー機構4は、上下方向に昇降自在とされている。 レシーバ機構5は、複数個の検査済半導体チップをマト
リクス状に収納したトレイTを複数枚、積層するように
して収容する。このレシーバ機構5も昇降自在に構成さ
れている。 チップ搬入機構7は、センダー機構4の一番上のトレイ
Tから1個づつ半導体チップCをロードステージ10に
移送するものである。このため、チップ搬入機構7は、
センダー機構4の上方においてY方向に伸びた搬送腕7
1がX−zステージ72にX方向及びY方向に移動可能
に取り付けられるとともに、搬送腕71に半導体チップ
Cの吸着保持部73が、この搬送腕71に沿ってY方向
に移動可能となるように取り付けられて構威されている
。 X−zステージ72は、例えばLMガイドとボールねじ
、又はタイミングベルト等で構成される。 吸着保持部73は、先端が例えばゴム性の吸着体になっ
ていて、真空吸着することにより半導体チップCをトレ
イTから取り出し、これを保持してロードテーブル10
まで移送するようにするものである。 チップ搬出機構8は、アンロードテーブル11上の検査
済み半導体チップをレシーバ機構5のトレイTに移送す
るもので、チップ搬入機構7と全く同様の構成である。 すなわち、レシーバ機構5の上方においてY方向に伸び
た搬送腕81が、X−2ステージ82にX方向及びZ方
向に移動可能に取り付けられる−,。そして、搬送腕8
1に対してY方向に移動可能に取り付けられた吸着保持
部83によりアンロードテーブル11上に載置される検
査済み半導体チップCを真空吸着して保持し、レシーバ
機構5の一番上のトレイTの空いている場所に移送して
収める。 トレイ移送機構9は、センダー機構4、レシーバ機構5
、トレイバッファ機構6の上方において、Y方向に跨が
るように伸びる基台14に対して、丁度、トレイ上方に
おいてX方向に伸びる搬送腕91がY方向及びZ方向に
移動可能に取り付けられる。そして、このトレイ移送機
構9の搬送腕91には、トレイTを真空吸着して保持し
て移送するため4個の吸着保持部92が設けられている
。 このトレイ移送機構9は、センダー機構4の一番上のト
レイTの半導体チップCが全て搬送されて空きトレイと
なった時、これを真空吸着保持してレシーバ機構5に移
送する。レシーバ機構5の一番上のトレイTに未だ半導
体チップの収納余地があるときは、トレイ移送機構9は
トレイを保持し、トレーバッファ機横6上まで搬送して
、ここで待機する。しかし、その間にセンダー機構4の
次のトレイが空きになったときは、トレイ移送機構9に
保持したトレイを、バッファトレイ機構6に一旦収納し
ておき、センダー機構4の空きトレイを吸着し、トレー
バッファ機構6上にて待機する。 さらに、チップダブル移送機構12は、基台14に対し
てY方向及びZ方向に移送可能に取り付けられている。 そして、このチップダブル移送機構12には、真空吸着
により半導体チップを吸着して保持する2個の吸着保持
#15,16が、Y方向に距Mdだけ隔てて取り付けら
れる。 なお、ロードテーブル10の上方には、ブリアライメン
ト(粗位置合わせ)用画像認識装M17が設けられてい
る。また、チップ搬出機構8のチップ搬送経路の途中の
下方には、検査の結果、不良品とされたチップを収容す
るための不良チップ収納箱18が設けられている。 予備加熱機構13は種々構成できるが、次のように構成
できる。すなわち、ロードテーブル10を半導体素子保
持ブロックで構威し、これを図中矢印で示すように環状
に移送し、この環状経路の間において、この環状経路を
挾むように上下に配置されたラバーヒー夕等の加熱手段
により、所定温度例えば150℃に加熱するように構成
する。 なお、図示のロードテーブル10の位置の上方にはヒー
タは無く、搬入機構7の吸着保持部73及びチップダブ
ル移送機構12の吸着保持部15によって、このロード
テーブル10に対する半導体チップの搬入、搬出が可能
とされている。 次に、測定ステージ系2は第1及び第2の測定用ステー
ジ21及び22を有し、それぞれ、この測定用ステージ
21及び22でローダ系1からの未検査半導体チップを
受け、その微調整位置合わせ(ファインアライメント)
を行った後、テストヘッドの下方のテスト位置まで測定
用ステージ21及び22を移動させ、検査を行い、検査
終了した半導体チップをローダ系1に測定用ステージ2
1及び22から受け渡すようにするものである。 この測定ステージ系2においては、測定用ステージ21
及び22は、第1図及び第2図に示すように、載置台2
3及び24を有ずる。載置台23.24には、図示しな
いが加熱手段が設けられており、これらに載置される予
備加熱された半導体チップを所定の温度の加熱状態に保
つようにしている。加熱手段としては、載置台23,2
4にニクロム線ヒータを埋め込む、あるいは載置台23
,24の表面に薄膜ヒータを設けるなどの手段を採用す
ることができる。 そして、載置台2B,24は、これら載置台23,24
をそれぞれZ及びθ(X,Y平面上における回転)方向
に移動可能にする移動台25.26に取り付けられてい
る。そして、移動台25.26は、それぞれこれら移動
台25.26をY方向に移動させるための第1のXレー
ル27及び第2のXレール28上に取り付けられて、第
1及び第2のXステージが構威される。さらに、これら
第1及び第2のXステージは、これらをX方向に移動さ
せるための、これら2個のXステージに共通のYレール
2つ上に取り付けられている。 そして、第1図で、測定用ステージ21の、実線で示す
位置P1は、半導体チップのロード・アンロード位置で
あり、一点鎖線で示す位置P2は、ファインアライメン
ト位置であり、二点鎖線で示す位置POは、その上方に
テストヘッドが載せられるテスト位置である。同様に、
測定用ステージ22の、実線で示す位置P3は、半導体
チップのロード・アンロード位置であり、一点鎖線で示
す位置P4は、ファインアライメント位置である。 そして、テスト位置は測定用ステージ21と同様に、二
点鎖線で示す位置POである。この場合、第1及び第2
の測定用ステージのロード・アンロード位置P1及びP
3は、ロードテーブル10とアンロードテーブル11の
位置を結んだ直線上にあり、ロードテーブル10と位置
P1との距離と、アンロードテーブルと位置P3との距
離は等しくされると共に、その距離は、チップダブル移
送機構12の吸着保持部15と16との間隔dに等しく
選定されている。 そして、測定用ステージ21及び22のファインアライ
メント位置P2及びP4の上方にはファインアライメン
ト用の画像認識装置30及び31が設けられる。 以上のように、第1.第2の測定用ステージ21.22
は、共通のYレール29A,29B上にあるので、次の
ようにしてこれら測定用ステージ21.22のX方向の
移動が錯綜しないように制御されている。 すなわち、第3図は、測定用ステージ21,22のYレ
ール29上のX方向の移動の制御回路のブロック図であ
る。 41及び42は、それぞれ測定用ステージ21及び22
のYレール29に沿ったX方向駆動モータで、これら駆
動モータ41及び42には、その1回転当たり一定数の
パルスを発生すると共に、モータの回転方向を示す信号
を得るパルスエンコーダ43及び44が取り付けられて
いる。また、45及び46は、例えばフォトセンサから
なる位置センサで、それぞれ測定用ステージ21及び2
2が半導体チップのロード・アンロード位[P1,P3
にあるとき、これを検知する。この例の場合、このロー
ド・アンロード位置PL,P3が測定用ステージ21及
び22のホームポジション位置とされ、このホームポジ
ション位置から各測定用ステージ21.22がX方向に
どれだけ移動したかにより、各測定用ステージ21.2
2の現在位置を知るようにしている。すなわち、パルス
エンコーダ43及び44からのパルス及び回転方向信号
と位置センサ45及び46からのセンサ出力が現在位置
検出回路47及び48に供給される。これら現在位置検
出回路47及び48は、例えばアップダウンカウンタで
構威され、パルスエンコーダ43.44からの回転方向
信号はアップダウン制御端子に供給され、パルスはクロ
ック端子に供給され、センサ45及び46の出力は、リ
セット端子に供給される。したがって、現在位置検出回
路47.48を構成するカウンタのカウント値は、ホー
ムポジション位置に対する測定用ステージ21.22の
現在位置を表すことになる。この現在位置検出回路47
及び48からの現在位置情報は制御回路4つに供給され
る。そして、制御回路4つからは、モータ駆動信号がモ
ータドライブ回路51及び52を介して、それぞれ駆動
モータ41及び42に供給される。この制御回路49は
、現在位置検出回路47.48からの現在位置情報から
測定用ステージ21.22の位置を知り、これに基づい
て測定用ステージ21及び22を同期を取って駆動制御
し、両測定用ステージ21.22の移動が錯綜しないよ
うにしている。 次に、以上のように構戊した半導体検査装置を用いて、
例えば150℃の高温状態で半導体チッブCの温度試験
を行う場合の動作について第4図を参照しながら説明す
る。 先ず、センダー機構4には、複数個の半導体チップCが
マトリクス状に並べられた複数枚のトレイTが積層され
て置かれる。一方、レシーバ機構5には、最初は空のト
レイTが1枚置かれる。 この状態で、チップ搬入機構7において、その吸着保持
部73をセンダー機構4の一番上のトレイTの1個の半
導体チップ位置に移動させ、そ・して、その半導体チッ
プを吸着保持し、X−Zステージ72によってその半導
体チップをロードテーブル10に移送して、載置する。 ロードテーブル10に載置された半導体チップは、予備
加熱機構13において前述したようにして150℃に加
熱された後、再び図のロードテーブル位置に戻ってくる
。そして、このσ−ドテーブル10の位置において、画
像認識装置17によりその位置が認識される。そして、
ロード・アンロード位置P1にある第1の測定用ステー
ジ21において、その画像認識情報に基づいてブリアラ
イメントする。第1の測定用ステージ21の載置台23
は、前述した加熱手段により150℃に加熱されている
。 ブリアライメントが完了すると、第4図Aに示すように
、チップダブル移送機構12の吸着保持部15をロード
テーブル10の位置に移動し、ロードテーブル10に載
置されている半導体チップを吸着保持部15が吸着保持
し、しかる後、移送機構12をY方向に移動して、第4
図Bに示すように、半導体チップを第1の測定用ステー
ジ21の載置台23上に載置する。測定用ステージ21
は、その後、ファインアライメント位置P2に移動して
、画像認識装置30による半導体チップの位置情報に基
づいて、テスト位置POにおいて、正しくブローブ針が
半導体チップの端子に接触するように、載置台23上の
半導体チップの位置をファインアライメントする。この
ファインアライメントが終了すると、測定用ステージ2
1をテスト位置POに移送し、移動台25にょり載置台
23を上昇させ、ブローブカードのプロープ針を半導体
チップの端子に接触させる。そして、前述したように、
ヘッドプレート(図示せず)上に位置するテストヘッド
(図示せず)により半導体チップのテストを行う。 この間、ロードテーブル10には、搬入機構7によって
、センダー機構4のトレイTから次の半導体チップが移
送されて、載置される。そして、画像認識装置17によ
るロードテーブルlo上の半導体チップの画像情報に基
づいて、測定用ステージ22上における半導体チップの
プリアライメントが行なわれる。ブリアライメントが完
了すると、チップダブル移送機構12は、第4図Cに示
すように、その吸着保持部15によってそのロードテー
ブル10上の半導体チップを吸着保持し、その半導体チ
ップを第2の測定用ステージ22の載置台24上に載置
する。測定用ステージ22の載置台24は、前述した加
熱手段にょり150”Cに加熱されている。 第2の測定用ステージ22は、その後、ファインアライ
メント位置P4に移動して、画像認識装置31による半
導体チップの位置情報に基づいて載置台24上の半導体
チップの位置をファインアライメントする。そして、第
1の測定用ステージ21の載置台23上の半導体チップ
のテストの終了を待つ。 第1の測定用ステージ21では、テストが終了すると、
載置台23を下降させ、その後、Y方向及びX方向に移
動してロード・アンロード位置P1に戻る。一方、第2
の測定用ステージ22がテスト位置POに移動し、その
載置台24を上昇させ、その載置台24上の半導体チッ
プのテストを開始するようにする。 このとき、ロードテーブル10には、第2の測定用ステ
ージ22に半導体チップを移送した後、さらに次の半導
体チップがセンダー機構4から搬入機構7によって移送
されて、載置されている。 したがって、第1の測定用ステージ21が位置P1に戻
ったときは、第4図Dに示すように、ロードテーブル1
0には未検査の半導体チップが、第1の測定用ステージ
21の載置台23上には検査の終了した半導体チップが
載置されている。 そして、画像認識装置17によるロードテーブル10上
の半導体チップの画像情報に基づいて、第1の測定用ス
テージ21においてブリアライメントが行なわれる。プ
リアライメントが完了すると、チップダブル移送機構1
2の吸着保持部15をロードテーブル10の位置に、吸
着保持部16を測定用ステージ21の位置に移動し、そ
れぞれ両ステージ10.21に載置されている半導体チ
ップを同時に吸着保持して搬出する。しかる後、第4図
Eに示すように、チップダブル移送機構12を移送し、
吸着保持部l5が第1の測定用ステージ21の載置台2
3の上に来たところで一旦停止して、予備加熱された未
検査半導体チップを測定用ステージ21の載置台23上
に載置し、ざらにY方向に移送を再開し、吸着保持部1
6がアンロードテーブル11の上に来たところで停止し
て、第1の測定用ステージ21の載置台23上にあった
検査済み半導体チップをアンロードテーブル11上に載
置する。 そして、アンロードテーブル11に載置された検査済み
半導体チップは、搬出機構8によってレシーバ機構5の
トレイの空き位置に収められる。 もっとも、半導体チップが検査の結果、不良品とされた
ときは、その半導体チップは、搬出機構8によってレシ
ーバ機構5に搬送される途中の不良品箱18に入れられ
る。 未検査半導体チップが載置された第1の測定用ステージ
21は、前述と同様にして、ファインアライメント位置
P2に移動して、ファインアライメントが行なわれる。 そして、第2の測定用ステージ22の載置台24上の半
導体チップのテストの終了を待つ。 第2の測定用ステージ22では、テストが終了すると、
載置台24を下降させ、その後、Y方向及びX方向に移
動してロード・アンロード位置P3に戻る。一方、第1
の測定用ステージ21がテスト位置POに移動し、その
載置台23を上昇させ、その載置台23上の半導体チッ
プのテストを開始するようにする。 このとき、ロードテーブル10には、第1の測定用ステ
ージ21に半導体チップを移送した後、さらに次の半導
体チップがセンダー機構4から搬入機構7によって移送
されて、載置されている。 したがって、第2の測定用ステージ22が位置P3に戻
ったときは、第4図Fに示すように、ロードテーブル1
0には未検査の半導体チップが、第2の測定用ステージ
22の載置台24上には検査の終了した半導体チップが
載置されている。 そして、画像認識装置17によるロードテーブル10上
の半導体チップの画像情報に基づいて、この第2の測定
用ステージ22においてプリアライメントが行なわれる
。プリアライメントが完了すると、チップダブル移送機
構12の吸着保持部15をロードテーブル10の位置に
移動し、テーブル10に載置されている半導体チップを
吸着保持して搬出する。しかる後、第4図Fに示すよう
に、チップダブル移送機構12を移送し、吸着保持部1
6が第2の測定用ステージ22の載置台24の上に来た
ところで一旦停止して、この載置台24上の検査済み半
導体チップを吸着保持部16で吸着保持する。その後、
チップダブル移送機構12をさらに移送して、第4図G
に示すように、吸着保持部15が第2の測定用ステージ
22の載置台24上に、吸着保持部16がアンロードテ
ーブル11上に来たところで停止して、予備加熱された
未検査半導体チップを測定用ステージ22の載置台24
上に載置すると同時に、第2の測定用ステージ22の載
置台24上にあった検査済み半導体チップをアンロード
テーブル11上に載置する。アンロードテーブル11に
載置された検査済み半導体チップは、前述したように、
チップ搬出機構8によって良品はレシーバ機構5のトレ
イの空き位置に収められ、不良品は不良品箱18に収め
られる。 未検査半導体チップが載置された第2の測定用ステージ
22は、前述と同様にして、ファインアライメント位置
P4に移動して、ファインアライメントが行なわれる。 そして、第1の測定用ステージ21の載置台23上の半
導体チップのテストの終了を待つ。 以下、第4図D〜第4図Gのシーケンスを順次繰り返し
、一方の測定用ステージでテストを行う間に、他方の測
定用ステージでは次の半導体チップのプリアライメント
及びファインアライメントを終了して、待機する状態に
なり、スループットが向上する。 第5図に、以上のチップダブル移送機構12の動作シー
ケンスのフローチャートを示す。 以上のようにして、センダー機構4から1個づつ半導体
チップは、ロードステージ10に送られ、第1及び第2
の測定用ステージ21及び22でテストが行なわれ、ア
ンロードステージ11を介してレシーバ機構5、あるい
は不良品箱18に収められる。 そして、センダー機構4の一番上のトレイTが空になる
と、トレイ移送機構9はこの空のトレイをセンダー機構
4から搬出する。したがって、今度はセンダー機構4の
2枚目のトレイから半導体チップの搬出がなされること
になる。トレイ移送機構9は、この空のトレイを保持し
、レシーバ機横5の一番上のトレイが半導体チップで一
杯になったらその上に、この空のトレイを乗せる。不良
チップが多く、レシーバ機構5の一番上のトレイが一杯
になる前に、センダー機横4の一番上のトレイが空にな
ったときは、トレイ移送機構9は、保持していた空のト
レイをトレイバッファ機構6に一旦収納し、センダー機
構4の一番上の空のトレイを吸着保持して搬出する。し
たがって、不良品が多い場合にも、レシーバ機構5の一
番上のトレイが一杯になるまでセンダー機構4からの半
導体チップの搬出を止めておく必要はなく、テスト時間
のスルーブットを上げられる。 なお、以上の例では予備加熱機構を特に設けたが、加熱
速度が速いものが被検査体の場合であれば、予備加熱機
構は設けなくても良い。 また、以上の例は、半導体チップを加熱した状態でテス
トを行う温度試験を行う半導体検査装置の場合について
説明したが、この発明は、このような温度試験を行う検
査装置に限らず、常温でテストを行う装置は勿論のこと
、その他の種々の半導体検査装置に適用できることは言
うまでもない。 また、以上の例はパッケージされた半導体チップの検査
装置の場合について説明したが、半導体ウェーハの検査
装置にもこの発明が適用できることはもちろんである。
以上説明したように、この発明によれば、測定用ステー
ジを2個設け、一方の測定用ステージで半導体チップの
テストを行っているときに、他方の測定用ステージは次
の半導体チップのブリアライメント及びファインアライ
メントを行って、次に即座にテストを開始できるように
待機することができるので、スループットを上げること
ができる。 また、この発明では、第2の方向に移動させるために別
個のレールに取り付けられた2個の測定用ステージを、
第2の方向と直交する第1の方向に移動させるための共
通の1個のレール上に、設ける構成である。したがって
、第1及び第2の方向に移動するためのレールを、第1
及び第2の測定用ステージで、それぞれ別個に設ける場
合に比べて、構成を簡略化できるとともに、装置を小形
化できる。しかも、この発明においては、2つの測定用
ステージの第1の方向の移動範囲が同じになるが、両測
定用ステージの現在位置を検知する手段の検知出力を用
いてその移動を制御するので、両測定用ステージが衝突
したりする誤動作を生じないように、コントロールする
ことが容易にできる。
ジを2個設け、一方の測定用ステージで半導体チップの
テストを行っているときに、他方の測定用ステージは次
の半導体チップのブリアライメント及びファインアライ
メントを行って、次に即座にテストを開始できるように
待機することができるので、スループットを上げること
ができる。 また、この発明では、第2の方向に移動させるために別
個のレールに取り付けられた2個の測定用ステージを、
第2の方向と直交する第1の方向に移動させるための共
通の1個のレール上に、設ける構成である。したがって
、第1及び第2の方向に移動するためのレールを、第1
及び第2の測定用ステージで、それぞれ別個に設ける場
合に比べて、構成を簡略化できるとともに、装置を小形
化できる。しかも、この発明においては、2つの測定用
ステージの第1の方向の移動範囲が同じになるが、両測
定用ステージの現在位置を検知する手段の検知出力を用
いてその移動を制御するので、両測定用ステージが衝突
したりする誤動作を生じないように、コントロールする
ことが容易にできる。
第1図は、この発明による半導体検査装置のー実施例の
平面図、第2図は、その要部の側面図、第3図は、この
発明による半導体検査装置の2個の測定用ステージの移
動制御のためのブロック図、第4図は、半導体チップの
2個の測定用ステージへのロード・アンロードシーケン
スを説明するための図、第5図は、第1及び第2の測定
用ステージに対する半導体チップのロード・アンロード
シーケンスのフローチャートである。 10;ロードテーブル 11;アンロードテーブル 12;チップダブル移送機構 15.16;吸着保持部 17;プリアライメント用画像認識装置21;第1の測
定用ステージ 22;第2の測定用ステージ 27.2g,Xレール 2つ;共通のYレール 30.31;ファインアライメント用画像認識装置 PO;テスト位置 PL,P3;ロード・アンロード位置
平面図、第2図は、その要部の側面図、第3図は、この
発明による半導体検査装置の2個の測定用ステージの移
動制御のためのブロック図、第4図は、半導体チップの
2個の測定用ステージへのロード・アンロードシーケン
スを説明するための図、第5図は、第1及び第2の測定
用ステージに対する半導体チップのロード・アンロード
シーケンスのフローチャートである。 10;ロードテーブル 11;アンロードテーブル 12;チップダブル移送機構 15.16;吸着保持部 17;プリアライメント用画像認識装置21;第1の測
定用ステージ 22;第2の測定用ステージ 27.2g,Xレール 2つ;共通のYレール 30.31;ファインアライメント用画像認識装置 PO;テスト位置 PL,P3;ロード・アンロード位置
Claims (2)
- (1)被検査体を載置した測定用ステージを、テスト位
置に移動して上記被検査体のテストを行う半導体検査装
置において、 2個の測定用ステージと、 これら2個の測定用ステージを、第1の方向に移動可能
とするための共通の第1のレールと、上記2個の測定用
ステージのそれぞれを、上記第1のレール上において、
上記第1の方向とは直交する方向にそれぞれ移動可能と
するための第2及び第3のレールと、 上記2個の測定用ステージの上記第1の方向の現在位置
を検知する第1及び第2の位置検知手段と、 この第1及び第2の位置検知手段からの現在位置情報に
基づいて上記2個の測定用ステージの移動を制御する制
御手段とを設けたことを特徴とする半導体検査装置。 - (2)未検査の被検査体が搬入され、載置されるロード
テーブルと、検査済み被検査体が搬入され、載置される
アンロードテーブルとの位置を結ぶ直線上に、第1及び
第2の測定用ステージの被検査体のロード・アンロード
位置を設定し、上記ロードテーブルと上記第1の測定用
ステージのロード・アンロード位置との距離と、上記ア
ンロードテーブルと上記第2の測定用ステージのロード
・アンロード位置との距離とを等しくすると共に、 上記距離隔てた位置に2個の上記被検査体の保持部を有
し、この保持部を上記直線方向に移送する移送機構を設
け、 上記第2の測定用ステージのテスト状態において、上記
移送機構の保持部によって上記ロードテーブルの未検査
の被検査体と、第1の測定用ステージの検査済み被検査
体を同時に保持し、未検査被検査体は第1の測定用ステ
ージに、検査済み被検査体は上記アンロードテーブルに
、それぞれ移送し、 上記第1の測定用ステージのテスト状態において、上記
移送機構の保持部の一方によって上記ロードテーブルの
未検査の被検査体を保持した後、上記第2の測定用ステ
ージの検査済み被検査体を他方の保持部で保持し、その
後、未検査被検査体は第2の測定用ステージに、検査済
み被検査体は上記アンロードテーブルに、同時に載置す
るようにしたことを特徴とする半導体検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1194562A JP2732300B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 半導体検査装置及び検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1194562A JP2732300B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 半導体検査装置及び検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0357974A true JPH0357974A (ja) | 1991-03-13 |
| JP2732300B2 JP2732300B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=16326598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1194562A Expired - Fee Related JP2732300B2 (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 半導体検査装置及び検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2732300B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011006687A1 (de) * | 2009-07-16 | 2011-01-20 | Hseb Dresden Gmbh | Inspektionssystem |
| EP2733732A1 (de) * | 2012-11-16 | 2014-05-21 | MUETEC Automatisierte Mikroskopie und Messtechnik GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion von Wafern |
| JP2020004879A (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | ダイトロン株式会社 | 試料位置決め装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298952A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-11 | Nec Yamagata Ltd | 半導体用プロービング装置 |
-
1989
- 1989-07-27 JP JP1194562A patent/JP2732300B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298952A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-11 | Nec Yamagata Ltd | 半導体用プロービング装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011006687A1 (de) * | 2009-07-16 | 2011-01-20 | Hseb Dresden Gmbh | Inspektionssystem |
| EP2733732A1 (de) * | 2012-11-16 | 2014-05-21 | MUETEC Automatisierte Mikroskopie und Messtechnik GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion von Wafern |
| JP2020004879A (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | ダイトロン株式会社 | 試料位置決め装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2732300B2 (ja) | 1998-03-25 |
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