JPH0358049A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の村用分野〕 本発明は平版印刷版、ＩＣ回路やフォトマスクの製造に
適する感光性組戒物に関し、特にボジ型に作用する、耐
摩耗性、耐薬品性及び現像ラチチュードに優れた感光性
組或物に関する。

〔発明の目的〕

従って、本発明の目的は、耐摩耗性に優れ、水性アルカ
リ現像液で現像ができ、耐刷力に優れた平版印刷版を与
える感光性組或吻を提供することにある． 本発明の他の目的は、耐薬品性に優れ、バーニング処理
を行うことなく、ＵＶインキを用いた印刷を行っても耐
剛力の大きい平版印刷版を与える感光性Ｕ或物を提供す
ることにある。

更に別の目的は、現像ラチチュードの優れた感光性組底
物を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは上記目的を達戒すべく鋭意検討した結果、
感光性組或物において、−ＳＯｉＩ−ＮＨ一結合及ンジ
アジドスルホニルハライドとの縮合生成物を含有させる
ことにより、上記目的が達或されることを見い出し、本
発明に到達した。

以下、本発明について詳述する。

本発明で使用する−ＳＯａ−ＮＨ一結合及び／又は？又
は主鎮中に−ＳＱ２−ＮＨ−結合及び／又は−ＣＯ−Ｎ
Ｈ−ＣＯ一結合を含有するポリマーである。

本発明におけるーＳＤ２−ＮＨ一結合及び／又は−ＣＤ
−ＮＨ−ＣＯ一結合を有する化合物の好ましい例は、分
子中に１つ以上のーＳＯ■−ＮＨ一結合及び／又は−Ｃ
Ｄ−ＮＨ−ＣＯ一結合と、１つ以上の重合可能な不飽和
結合とを有する化合物を公知の重合開始剤を用いて適当
な溶媒中で重合することにより得られる。

本発明において好適に使用されるこのような不飽和結合
を有する化合物としては、以下の一般式（Ｉ）〜（ＸＩ
）で示される化合物が挙げられる。

１．　　　ＳｌｈＮ口−１＜” ＼Ｚ　−　ＣＯＮＦ［　一ＣＯ　−　Ｒ”　’Ｈ ？中、ｘ＋．　　ｘ！，　　Ｘ３はそれぞれ一〇一又は
ＮＲ２６−を示す。Ｒ’＋　　Ｒ’ｌ　　Ｒ’＋　　Ｒ
９＋　　Ｒ”ＲＩＡ　　Ｒｌ６　　Ｒｌｌｌ，　　Ｒ！
Ｏ，　　Ｒ２２，　Ｒ２４，　Ｒ２Ｊ，ｉソれぞれーＨ
又は−ＣＨ３を示す。Ｒ”ｌ　　Ｒ’ｌ　　Ｒ”はそれ
ぞれ置換基を有していてもよいＣ．−Ｃ，■のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレ
ン基を示す。Ｒ３とＲＩＳは水素原子又はＣ，〜Ｃ，の
アルキル基、シクロアルキル基又は置換基を有していて
もよい芳香族基を示す。Ｒムｌ　　Ｒ’ｌ　　Ｒ”ｌ　
ＲＩ！，　Ｒ′？，　Ｒｌ″ｌ　Ｒ”Ｒ２２は置換基を
有していてもよい、Ｃ，〜ＣｔＺのアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アラルキル基を示す。Ｚは、
置換基を有してもよい０１〜Ｃ１■のアルキレン基、シ
クロアルキレン基、置換されていてもよい芳香族環基を
示す。Ｙｌ？２はーＣ一又は−ＳＯ■一を示す。Ｙ３は
単結合又は一〇一を示す。そして、ＲＺ＆は水素原子又
は置換基を有していてもよい０１〜Ｃ１２のアルキル基
、シクロアルキル碁、アリール基、アラルキル基を示す
。

一般式（１）〜（ＸＩ）で示される化合物の内、本発明
において特に好適に使用されるものは、Ｒ２，Ｒ％ＲＩ
Ｏがそれぞれ０２〜Ｃ，のアルキレン基、シクロアルキ
レン基、又は置換基を有していても良いフェニレン基、
ナフチレン基であり、ＲコとＲｌｓは水素原子又はＣ，
〜Ｃ，のアルキル基、Ｚは置換基を有していてもよいフ
ェニレン基及びナフチレン碁、Ｒｔｂは水素原子又は置
換基を有していてもよい０１〜Ｃ４のアルキル基である
。

このような一般式（１）・及び（ＩＩ）で表わされる化
合物としては、例えばＮ−（ｏ−アミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアａド．．Ｎ−　（ｍ−アミノスルホ
ニルフェニル〉メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アξノス
ルホニルフェニル）メタクリルア泉ド、Ｎ　−　（　ｏ
−メチルア逅ノスルホニルフェニル）メタクリルアミド
、Ｎ−（ｍ−メチルアくノスルホニルフェニル）メタク
リルア貴ド、Ｎ一＜ｐ−メチルアミノスルホニルフユニ
ル）メタクリルアくド、Ｎ−（ｏ−エチルアミノスルホ
ニルフェニル〉メタクリルアミド、Ｎ一（ｍ一エチルア
逅ノスルホニルフェニル）メタクリルア壽ド、Ｎ−　（
ｐ一エチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−ｎ−プロビルアξノスルホニルフェニル
）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｎ−７’ロビルアくノ
スルホニルフェニル〉メタクリルア主ド、Ｎ−（ｐ−ｎ
−プロピルアミノスルホニルフェニル〉メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフェニル
）メタクリルアミド、Ｎ一　（ｍ−ｉ−プロピルアξノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ一（ｐ−ｉ
−７”ロピルアミノスルホニルフェニル〉メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｏ−ｎ−プチルアミノスルホニルフェニル
）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｎ−プチルアミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｎ−プ
チルアミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｏ−　ｉ　−　プチルアミノスルホニルフエニル）
メククリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｉ−ブチルアξノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｉ−ブチ
ルアξノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、ｐＪ
−（ｏ−ｓｅｃ−ブチルア逅ノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ　−（ｍ　−ｓｅｃ−ブチルア泉ノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド・Ｎ−（ｐ−ｓ
ｅｃ−ブチノレアミノスノレホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（０−ｔ−プチルアミノスルホニルフエ
ニル〉メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｔ−ブチルアξノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｔ
−ブチルア稟ノスルホニルフエニル）メタクリルアξド
、Ｎ−（０−フェニルア逅ノスルホニルフエニル）メタ
クリルアξド、Ｎ−（ｍ−フユニルアミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアξド、Ｎ−　（ｐ一フエニルアξ
ノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−
（α−ナフチルアミノスルホニル）フェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ　−　（ｍ一（α−ナフチルアミノスルホ
ニル）フエニル）メタクリルア主ド、Ｎ　−　（ｐ　−
　（α−ナフチルアミノスルホニル）フェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−　（ｏ　−　（β−ナフチルアミノス
ルホニル〉フエニル）メタクリルアミド、Ｎ　−　（ｍ
　−　（β−ナフチルア主ノスルホニル）フェニル）メ
タク．リルアミド、Ｎ　−　（ｐ　−（β−ナフチルア
ミノスルホニル）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−　
（１−（３−アくノスルホニル〉ナフチル）メタクリル
アもド、Ｎ−　（１−　（３−メチルアミノスルホニル
）ナフチル）メタクリルアミド、Ｎ−（１−（３−エチ
ルアミノスルホニル）ナフチル）メタクリルアξド、Ｎ
　−　（　ｏ−メチルスルホニルアミノフェニル）メタ
クリルアξド、Ｎ−（ｍ−メチルスルホニルアミノフェ
ニル）メタクリルアξド、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニル
アミノフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（０−エチル
スルホニルアミノフェニルブメタクリルアミド、Ｎ　　
（ｍ一エチルスルホニルアミノフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−　（ｐ一エチルスルホニルア主ノフェニル）
メタクリルアミド．．Ｎ−　（ｏ−フェニルスルホニル
ア稟ノフェニル）メタクリルアａド、Ｎ−（ｍ一フェニ
ルスルホニルアミノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｐ−フェニルスルホニルアミノフェニル）メタクリル
アξド、Ｎ−（ｏ−（ｐ−メチルフェニルスルホニルア
ミノ）フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−（ｐ−
メチルフェニルスルホニルアξ・ノ）フエニル）メタク
リルアミト、Ｎ　−　（Ｐ　−　（ｐ−メチルフェニル
スルホニルアミノ）フェニル〉メタクリルアミド、Ｎ−
（ｐ一（α−ナフチルスルホニルアミノ）フェニルメタ
クリルアミド、Ｎ−　（ｐ−　（β−ナフチルスルホニ
ルア逅ノ）フエニル）メタクリルアミド、Ｎ一（２−メ
チルスルホニルアミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−
　（２−エチルスルホニルアミノエチル）メタクリルア
ξド、Ｎ一（２−フェニルスルホニルアミノエチル）メ
タクリルアミド、Ｎ−　＜２−ｐ−メチルフェニルスル
ホニルアミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−　（２−
α−ナフチルスルホニルアξノエチル）メタクリルアξ
ド、Ｎ−（２−β−ナフチルスルホニルアミノ）エチル
メタクリルアξド等のメタクリルアξド類、上記と同様
の置換基を有するアクリルアξド類、また０−ア泉ノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−ア泉ノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、ｐ−アξノスルホ纂ルフェ
ニルメタクリレート、０−メチルアミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、ｍ−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、ｐ−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、〇一エチルア槃ノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、ｍ一エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、ｐ一エチルアミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、ｏ−ｎ−プロビルア藁ノスルホニ
ルフエニルメタクリレー｝、ｍ−ｎ−プロピルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−ｎ−プロビルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｏ−ｉ−プロ
ビルアミノスルホニルフェニルメタクリレ−１・、ｍ−
ｉ−プロビルアミノスルホニルフ美ニルメタクリレート
、ｏ−ｎ−ブチルアξノスルホニルフェニルメタクリレ
ー｝、ｍ−ｎ−プチルアミノスルホニルフェニルメタク
リレート、ｐ　−　ｎ　−　７’チルアミノスルホニル
フエニルメタクリレート、ｍ−ｉ一プチルアξノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、ｐ−ｉ−プチルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−ｓｅｃ−プチル
アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ　−ｓｅ
ｃ−プチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｍ−ｔ一プチルアミノスルホニルフェニルメタクリレー
｝、ｐ−ｔ−プチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、０−，フエニルアミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、ｍ−フェニルアミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、ｐ−フエニルアミノスルホニルフェニル
メタクリレー｝、ｍ−（α−ナフチルアミノスルホニル
フェニル）メタクリレー｝、ｐ−（α−ナフチルアξノ
スルホニルフェニル）メタクリレート、ｍ−（β−ナフ
チルアξノスルホニル）フェニルメタクリレート、ｐ−
（β−ナフチルアミノスルホニル）フエニルメタクリレ
ート、１−（３−アミノスルホニル）ナフチルメタクリ
レート、１−（３−メチルアミノスルホニル）ナフチル
メタクリレート、１−（３−エチルア稟ノスルホニル）
ナフチルメタクリレート、０−メチルスルホニルアくノ
フエニルメタクリレート、ｍ−メチルスルホニルアミノ
フェニルメタクリレート、ｐ−メチルスルホニルアミノ
フェニルメタクリレート、０−エチルスルホニルアミノ
フェニルメタクリレート、ｍ一エチルスルホニルアミノ
フェニルメタクリレート、ｐ−エチルスルホニルア果ノ
フェニルメタクリレート、０−フェニルスルホニルア漬
ノフェニルメタクリレート、ｍ−フェニルスルホニルア
ξノフェニルメタクリレート、ｐ−フェニルスルホニル
アミノフェニルメタクリレート、ｏ−（ｐ−メチルフエ
ニルスルホニルアミノ）フェニルメタクリレート、ｍ−
（ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）フェニルメタ
クリレート、ｐ一（ｐ−メチルフエニルスルホニルアミ
ノ）フエニルメタクリレート、ｐ−（α−ナフチルスル
ホニルアミノ）フエニルメタクリレート、ｐ一（β−ナ
フチルスルホニルアミノ）フェニルメタクリレート、２
−メチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、２−
エチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、２−フ
ェニルスルホニルアミノエチルメタクリレート、２−ｐ
−メチルフェニルスルホニルアミノエチルメタクリレー
ト、２−α−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリ
レート、２−β−ナフチルスルホニルアミノエチルメタ
クリレート等のメタクリル酸エステル類、上記と同様の
置換基を有するアクリル酸エステル類などが挙げられる
。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物としては、例えば、Ｎ
−メタクリロイルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−メタク
リロイル−ｐ−｝ルエンスルホン了ミド、Ｎ−メククリ
ロイル−ｍ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−メタクリロ
イルーｐ−メトキシフェニルスルホンアミド、Ｎ−メタ
クリロイルーｐ一ブトキシフェニルスルホンアミド、Ｎ
−メタクリロイルーｐ−メトキシフェニルスルホンアミ
ド、Ｎ−メタクリロイルーα−ナフチルスルホンア竃ド
、Ｎ−メタクリロイル一〇−ブトキシフェニルスルホン
アξド、Ｎ−アクリロイルーベンゼンスルホンアミド、
Ｎ−アクリロイル−ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−
アクリロイル一〇−トルエンスルホンアミド、Ｎ−アク
リロイル一〇−メトキシフェニルスルホンアミド、Ｎ−
アクリロイルーｐ−ｉ−アミルフェニルスルホンアミド
、Ｎ一アクリロイルー０−メトキシフェニルスルホンア
ミド、Ｎ−アクリロイルーα−ナフチルスルホンアミド
、Ｎ−アクリロイルーｍ−ブトキシフエニルスルホンア
ミドなどが挙げられる。

一般式（ＴＶ）で表わされる化合物としては、例ｔハＮ
　−　（ｐ　−　（ｐ−メチルフェニルスルホニルアも
ノ）スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ
＝（フェニルスルホニルアミノ）スルホニルフェニル）
メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−（ｐ−メトキシフェニル
スルホニルアミノ）スルホニルフェニル〉メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｏ−（ｏ−メトキシフエニルスルホニルア
ミノ）スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ　一
（ｐ　−　（ｐ−ｉ−プチルフエニルスルホニルアミノ
）スルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−
（α−ナフチルスルホニルアミノ）スルホニルフエニル
）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（β−ナフチルスルホ
ニルアミノ）スルホニルフェニル）メククリルアミド、
等のメタクリルアミド類、上記と両様の置換基を有する
アクリルアミド類、ｐ一（ｐ−メチルフェニルスルホニ
ルアミノ）スルホニルフェニルメタクリレー｝、ｍ−（
７エニルスルホニルアミノ）スルホニルフェニルメタク
リレ−１−、ｐ一（ｐ−メトキシフェニルスルホニルア
ミノ）スルホニルフェニルメタアクリレート、ｐ−（α
−ナフチルスルホニルアミノ）スルホニルフェニルメタ
クリレー｝、ｏ−（ｐ−メチルフエニルスルホニルアミ
ノ）スルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−（ｍ−ｉ
−プチルフェニルスルホニルアミノ）スルホニルフェニ
ル）メタクリレート、ｐ−（β−ナフチルスルホニルア
ミノ）スルホニルフェニルメタクリレート、等のメタク
リル酸エステル類、上記と同様の置換基を有する？クリ
ル酸エステル類などが挙げられる。

一ａ式（Ｖ）〜（ＸＩ）で表わされる化合物としては例
えば、ｐ−アミノスルホニルスチレン、ｐ−アミノスル
ホニルーα−メチルスチレン、ｐーアミノスルホニルフ
エニルアリルエーテル、ｐ−（Ｎ−メチルアミノスルホ
ニル）フエニルアリルエーテル、メチルスルホニルアミ
ノ酢酸ビニルエステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸
ビニルエステル、メチルスルホニルアミノ酢酸アリルエ
ステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸アリルエステル
、ｐ−メチルスルホニルアミノフェニルアリルエーテル
、Ｉ）　　（Ｎ−アセチルアミノスルホニル）スチレン
、ｐ−スチリルメチルスルホニルアミド、ｐ一エチルス
ルホニルアミノスチレン、ｐ一スチリルフェニルイミド
、ｐ−スチリルエチルイミド、マレインイミド、メチル
マレインイミドなどが挙げられる。

本発明において好適に用いられる−ＳＯ■−ＮＨ一結合
及び／又は−Ｃ口一ＮＨ−［’Ｏ一結合を有する化合物
は、１分子中に１つ以上の−Ｓ口ｗ　　ＮＨ一結合及？
／又はーＣＯ　−　ＮＨ　−　ＣＯ一結合と、１つ以上
の重合可能な不飽和結合とを有する上記一般式ＣＩ）〜
（ＸＩ）で示されるような化合物の単独重合体又はその
二種以上の化合物の共重合体であるが、好ましくは１つ
以上の重合可能な不飽和結合を有し、かつーＳＯ■ＮＨ
一結合及び／又は−ＧＯ　−　ＮＨ　−　ＣＯ一結合を
含まない化合物の一種以上との共重合体である。

このような重合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホ
ンアミド又はーＣｏ　−　ＮＨ　−　ＣＯ一結合を含ま
ない化合物としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸
、アクリル酸エステル類、アクリルアもド類、メタクリ
ル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、
ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、ク
ロトン酸エステル類などから選ばれる重合性不飽和結合
を有する化合物である。具体的には、例えば、アクリル
酸エステル類、例えばアルキル（アルキル基の炭素原子
数は１〜１０のものが好ましい）アクリレート（例えば
、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プ
ロビル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア逅ル、アクリ
ル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２，２−
ジメチルヒド口キシプロビルアクリレート、５−ヒドロ
キシベンチルアクリレート、トリメチロールブロバンモ
ノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、ペンジルアクリレート、
メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレー
ト、テトラヒド口フルフリルアクリレート、など）、ア
リールアクリレート（例えば、フェニルアクリレートな
ど）：メタクリル酸エステル類、例えば、アルキル（ア
ルキル基の炭素原子数は１〜１０のものが好ましい）メ
タクリレート（例えば、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロビルメタクリレーＩ・、イソブロ
ビルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシル
メタクリレート、シクロへキシルメタクリレート、ペン
ジルメタクリレ−１・、クロルベンジルメタクリレート
、オクチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタ
クリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、
２．２−ジメチル−３−ヒドロキシプ口ピルメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメ
タクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒド
口フルフリルメタクリレートなど）、了りールメタクリ
レート（例えば、フエニルメタクリレート、タレジルメ
タクリレート、ナフチルメタクリレートなど）：アクリ
ルアミド類、例えばアクリルア旦ド、Ｎ−アルキルアク
リルアミド（アルキル基としては、炭素原子数１〜１０
のもの、例えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシエチル基、などが
ある。）、Ｎ−アリールアクリルアミド（アリール基と
しては、例えばフエニル基、トリル基、ニトロフェニル
基、ナフチル基、ヒドロキシフエニル基などがある。）
、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基とし
ては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル基、エ
チル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル基、
シクロヘキシル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ジアリール
アクリルアミド（アリール基としては、例えばフェニル
基などがある。）、Ｎ−メチルーＮ−フェニルアクリル
アミド、Ｎ−ヒドロキシエチルーＮ−メチルアクリルア
ミド、Ｎ−２−アセトアミドエチルーＮ−アセチルアク
リルアミドなど：メタクリルアミド類、例えばメタクリ
ルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基
としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル基
、エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロ
キシエチル基、シクロヘキシル基などがある。〉、Ｎ−
アリールメタクリルアミド（アリール基としては、フェ
ニル基などがある。）、Ｎ，　Ｎ−ジアルキルメタクリ
ルアミド（アルキル基としては、エチル基、プロビル基
、ブチル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ジアリールメタク
リルアミドくアリール基としては、フェニル基などがあ
る。〉、Ｎ−ヒドロキシエチルーＮ−メチルメタクリル
アミド、Ｎ−メチルーＮ−フェニルメタクリルアミド、
Ｎ一エチルーＮ−フェニルメタクリルアミドなど：アリ
ル化合物、例えばアリルエステル類（例えば、酢酸アリ
ル、カブロン酸アリル、カブリル酸アリル、ラウリン酸
アリル、バルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安
息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなと）、
アリルオキシエタノールなど：ビニルエーテル類、例え
ばアルキルビニルエーテル（例えば、ヘキシルビニルエ
ーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテ
ル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビ
ニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロル
エチルビニルエーテル、１−メチル−２．２−ジメチル
プロビルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエー
テル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレング
リコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニル
エーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、プチ
ルアミノエチルビニルエーテル、ペンジルビニルエーテ
ル、テトラヒド口フルフリルビニルエーテルなど）、ビ
ニルアリールエーテル（例えば、ビニルフェニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエー
テル、ビニル−２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビ
ニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテルな
ど）：ビニルエステル類、例えばビニルブチレート、ビ
ニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビ
ニルジエチルアセテート、ビニルパレート、ビニルカブ
ロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルア
セテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシ
アセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセト
アセテート、ビニルラクテート、ビニルーβ−フェニル
ブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、
安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安患香酸ビ
ニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル
など：スチレン類、例えばスチレン、アルキルスチレン
（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメ
チルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イ
ソブロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレ
ン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ペンジ
ルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、ｐ−（ｐ−ヒドロキシベンゾイルオキシメ
チル〉スチレンなど）、ヒドロキシスチレン、アルコキ
シスチレン（例えば、メトキシスチレン、４−メトキシ
−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど）、ハ
ロゲン化スチレン（例えば、クロルスチレン、ジクロル
スチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン
、ペンタクロルスチレン、プロムスチレン、ジブロムス
チレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフル
オルスチレン、２−ブロムー４−トリフルオルメチルス
チレン、４−フルオルー３−トリフルオルメチルスチレ
ンなど〉：クロトン酸エステル類、例えば、クロトン酸
アルキル（例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキ
シノベグリセリンモノクロトネートなど）：イタコン酸
ジアルキル類（例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン
酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど）マレイン酸ある
いはフマール酸のジアルキル類（例えば、ジメチルマレ
エート、ジブチルフマレートなど）：アクロニトリル、
メタクリロニトリル等がある。

これらの重合性不飽和結合を有する低分子化合物のうち
、好適に使用されるのはメタクリル酸エステル類、アク
リル酸エステル類、メタクリルア泉ド類、アクリルアミ
ド類、アクリロトリル、メタクリロニトリル、メタクリ
ル酸、アクリル酸である． これらの重合性不飽和結合を有する化合物の１種以上と
、スルホンアミド基を含有し、かつ重合性不飽和結合を
有する化合物の１種以上との共重合体は、ブロック体、
ランダム体、グラフト体等いずれも用いることができる
。

これらの共重合体中で、スルホンアミド又はＣｏ　−　
Ｎｉｌ　−　Ｃｏ一結合を含有する化合物（構或単位）
は、共重合体を構或するすべての化合物（構或単位）に
対して５モル％以上含有することが好まし？、１０〜９
０モル％含有することが更に好ましい。

このような共重合体を合或する際に用いられる溶媒とし
ては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルア
セテート、１一メトキシ−２−プロバノール、１−メト
キシ−２−プロビルアセテート、Ｎ．Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸
エチルなどが挙げられる。

これらの溶媒は単独あるいは２種以上混合して用いられ
る。

また、本発明におけるーＳＯ■−ＮＨ一又は一〇〇−Ｎ
Ｈ−ＣＯ−結合を含有する化合物として、好適に使用さ
れるものとしてポリウレタン樹脂やボリスチレン樹脂が
挙げられる。

このようなポリウレタン樹脂は、好ましくはジイソシア
ナート化合物と、Ｎ上に少なくとも１つのＨ原子が結合
したスルホンア壽ド又は−〇〇ＮＨＣＯ−結合を含有す
るジオール化合物の反応生戊物を基本骨格とするポリウ
レタン樹脂である。

本発明で好適に使用されるジイソシアナート化合物とし
て具体的には以下に示すものが含まれる。

即ち、２．４−１リレンジイソシアナート、２，４−ト
リレンジイソシアナートの二量体、２．６一トリレンジ
イソシアナート、ｐ−キシリレンジイソシアナート、ｍ
−キシリレンジイソシアナー｝、４．４’−ジフェニル
メタンジイソシアナート、１，５−ナフチレンジイソシ
アナート、３，３′−ジメチルビフェニルー４，４′−
ジイソシアナート等の如き芳香族ジイソシアナート化合
物；ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルへキ
サメチレンジイソシアナート、リジンジイソシアナート
、ダイマー酸ジイソシアナ−１・等の如き脂肪族ジイソ
シアナート化合物；イソホロンジイソシアナート、４．
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアナート）
、メチルシクロヘキサンー２．４　（又は２．６）ジイ
ソシ了ナート、１．３−（イソシアナートメチル）シク
ロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアナート化合物；１
，３−ブチレングリコール１モルとト・リレンジイソシ
アナート２モルとの付加体等の如きジオールとジイソシ
アナートとの反応物であるジイソシアナート化合物等が
挙げられる。

一方、Ｎ上に少なくとも１つのＨ原子が結合したスルホ
ンアミド又は一〇〇ＮＨＣＯ一結合を含有するジオール
化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる
。

即ち、ｐ−　（１．１−ジヒドロキシメチルエチルカル
ボニルアξノ）ベンゼンスルホンアミド、ｐ−（１．１
−ジヒドロキシメチルエチルカルボニルアミノ）ベンゼ
ンスルホンアミドのＮ一エチル体、Ｎ−（ｍ−メチルス
ルホニルアミノフエニル）−２．２−ジヒドロキシメチ
ルブロパンア稟ド、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニルアミノ
フエニル）＝２，２−ジヒドロキシメチルブロバンアミ
ド、Ｎ−（ｍ−エチルスルホニルアミノフェニル）ー２
，２−ジヒドロキシメチルプロパンアミド、Ｎ一（ｐ一
エチルスルホニルアミノフェニル）一２２−ジヒドロヰ
シメチルプロパンアミド、Ｎ−（２．２−　（ジヒドロ
キシエチルアミノ力ルボニル）エチル）メタン冬ルホン
アミド、Ｎ−（２．２−（ジヒドロキシエチルアミノカ
ルボニル）エチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−　（２
．２一（ジヒドロキシエチルアミノカルボニル）エチル
−ｐ−｝ルエンスルホンアミド、等が挙げられる。

これらのスルホンアミド又は−ＣＯＮＨＣＯ一結合を含
有するジオール化合物は、単独又は２種以上組み合わせ
て使用することができる。

更に、スルホンアミド又は−ＣＯＮＨＣＯ−結合を有せ
ず、インシアナートと反応しない他の置換基を有してい
てもよいジオール化合物を併用することもできる。

このようなジオール化合物としては、具体的には、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、ブロビレング
リコール゛、ジプロピレングリコール、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ネオベンチルグ
リコール、１．３−ブチレングリコール、１．６−ヘキ
サンジオール、２−ブテンー１，４−ジオール、２，２
．４−トリメチル−１．３−ペンクンジオール、１，４
−ビスーβ−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シク
ロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノー
ル、水添ビスフェノールＡ１水添ビスフェノールＦ１ビ
スフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、ビスフェ
ノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノー
ルＦのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦの
プロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡの
エチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのプ
ロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシ
エチルエーテル、ｐ−キシリレングリコール、ジヒドロ
キシエチルスルホン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−
２．４−トリレンジ力ルバメート、２，４−トリレンー
ビス（２−ヒドロキシエチルカルバ藁ド）、ビス（２−
ヒドロキシエチル）−ｍ−キシリレンジ力ルバメート、
ビス（２−ヒドロキシエチル）イソフタレート、３．５
−ジヒドロキシ安息香酸、２．２−ビス（ヒドロキシメ
チル）プロビオン酸、２．２−ビス（２−ヒドロキシエ
チル）プロビオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシブ
口ピル）プロピオン酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸
、ビス（４一ヒドロキシフェニル）酢酸、４．４−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、酒石酸等が挙
げられる。

上記ポリウレタン樹脂は、上記ジイソシアナート化合物
及びジオール化合物を、非プロトン性溶媒中、それぞれ
の反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱する
ことにより合威される。使用するジイソシアナート及び
ジオール化合物のモル比は好ましくはＯ．ａ：Ｘ〜１．
２：１であり、ボリマー末端にイソシアネート基が残存
した場合、アルコール類又はアミン類等で処理すること
により、最終的にイソシアナート基が残存しない形で合
戊される。

本発明における−Ｓ（ｈ−ＮＨ一結合及び／又はましく
は重量平均で１，　０　０　０以上であり、数平均で５
００以上である。好ましくは重量平均で２，０００〜３
０万の範囲であり、数平均で１　，　０００〜２５万の
範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量
）は１以上が好ましく、特に好ましいのは１。１〜１０
の範囲である。

また、本発明における−ＳＱ．−ＮＨ一結合及び／又は
である場合には、未反応の単量体を含んでいてもよい，
この場合、単量体の高分子化合物中に占める割合は１５
重量％以下が望ましい。

本発明で使用されるキノジアジドスルホニルハライドは
、好ましくは１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−（又は−４−）スルホニルクロリドである， する化合物は、キノンジアジドスルホニルクロライドと
縮合反応させることによって、本発明の感光性組Ｉｉ．
物の一或分として供するこどができる。

かかる縮合反応は、脱塩化水素剤の存在下に脱塩化水素
縮合反応させることにより行なうことができる。この反
応は、脱塩化水素剤共存下であれば、水溶媒中、有機溶
媒中いずれでも進行する。水溶媒中の場合、脱塩化水素
剤としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が好適であ
る。有機溶媒中にて反応を行なう場合の有機溶媒として
は、ＯＨ基を有しない、例えばジエチルエーテル、ジイ
ソプロビルエーテル、アセトン、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、４塩化炭素、テ１・ラヒドロフラン、ジオキ
サン、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、アセトニトリ
ル等が好適である。

脱塩化水素剤としては、ビリジン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン、ｐ−（Ｎ，Ｎ一ジメチルアξノ）ビ
リジン等が好ましい．縮合反応は、−ＳＯ！−ＮＥＩ一
結合及び／又は合反応する基の１当量に対して、キノン
ジアジドスルホン酸クロライドを０．０５当量〜１．　
５当量、脱塩化水素剤０．　２〜３当量用いるのが好ま
しく、反応温度は１０〜４０℃が好ましい， なお、本発明における−Ｓｏｗ−ＮＯ＝結合及び／又は
ジドスルホン酸クロリドとが縮合反応する際、前例えば
、前者の化合物中にフェノール性水酸基があれば、６１
ｇとキノンジアジドスルホン酸クロリドとを縮合反応さ
せて、本発明の化合物を合威しても良い。また、得られ
るキノンジアジド化合物は、キノンジアジド基の導入率
（−ＳＯ２−ＮＨ−、す基に対する、キノンジアジドス
ルホン酸クロリドの縮合率）が３モル％以上であること
が好まし＜、特に好ましいのは、１５モル％〜９９モル
％である。

また、本発明の縮合反応生戒吻（キノンジアジド化合物
）は単独で用いても混合物として用いてもよい。感光性
組戒吻中に含まれる、これらのキノンジアジド化合物の
含有量は約５〜９５重量％であり、好ましくは約１０〜
８５重量％、特に好ましいのは３０〜６０重量％である
。

本発明の感光性組戒吻中には、ポジ型に作用する感光性
化合物として、本発明の化合物の他に、公知の０−ナフ
トキノンジアジド化合物を使用することができる。

本発明に使用される公知のＯ−ナフトキノンジアジド化
合物としては、特公昭４３−２８４０３号公報に記載さ
れている１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロラ
イドとビロガロールーアセトン樹脂とのエステルが好ま
しい。その他の好適な０−キノンジアジド化合物として
は、米国特許第３，０４６，　１２０号及び同第３．１
８８，２１０号明細書中に記載されている１．２−ジア
ゾナフトキノンスルホン酸クロライドとフェノールーホ
ルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。その他の有用
な０　−ナフトキノンジアジド化合物は、数多くの特許
で報告され、知られている。例えば、特開昭４７−５３
０３号、同昭４８−６３８０２号、同昭４８−６３８０
３号、同昭４８−９６５７５号、同昭４９−３８７０１
号、同昭４８−１３３５４号、特公昭３７−１８０１５
号、同昭４　１　−１１２２２号、同昭４５−９６１０
号、同昭４９−１７４８１号公報、米国特許第２，７９
７，２１３号、同第３．４５４，４００号、同第３，５
４４，３２３号、同第３．５７３，　９１７号、同第３
，６７４，４９５号、同第３．７８５，８２５号、英国
特許第１，２２７．６０２号、同第１，２５１，３４５
号、同第１，２６７．００５号、同第１，３２９，８８
８号、同第１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４
，　８９０号などの各明細書中に記載されているものを
挙げることができる。

本発明において特に好ましい公知の０−ナフトキノンジ
アジド化合物は、分子量１．０００以下のポリヒドロキ
シ化合物と、１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸ク
ロリドとの反応により得られる化合物である。このよう
な化合物の具体例は、特開昭５１−１３９４０２号、同
５　８　−１５０９４８号、同５８−２０３４３４号、
同５９−１６５０５３号、同６０−１２１４４５号、同
６　０　−１３４２３５号、同６０−１６３０４３号、
同６１−１１８７４４号、同６２−１０６４５号、同６
２−１０６４６号、同６２−１５３９５０号、同６　２
　−１７８５６２号、特願昭６２−２３３２９２号、米
国特許第３，１０２．８０９号、同第３．　１２６，　
２８１号、同第３，１３０，０４７号、同第３．１４８
．９８３号、同第３，１８４．３１０号、同第３，　１
８８．　２１０号、同第４，６３９．４０６号などの各
公報又は明細書に記載されているものを挙げることがで
きる。

これらの０−ナフトキノンジアジド化合物を合戒する際
は、ボリヒドロキシ化合物のヒドロキシル基に対して１
．２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドを０．　
２〜１．２当量反応させることが好ましく、更に０．　
３〜１．０当量反応させることが好ましい。

得られる０−ナフトキノンジアジド化合物は、１．２−
ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及び導
入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキシル
蟇がすべて１．２−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テルで転換された化合物がこの混合物中に占める割合（
エステル化率）が５モル％以上であることが好ましく、
更に好ましいのは２０〜９９モル％である。

外のボジ型に作用する感光性化合物としては、例えば特
公昭５６−２６９６号の明細書に記載されているオルト
ニト口カルビノールエステル基を有するボリマーも本発
明に使用することができる。

更に光分解により酸を発生する化合物と、酸により解離
する−Ｃ−Ｏ−Ｃ基又は一〇−０−Ｓｔ基を有する化合
物との組合せも本発明に使用することができる。

例えば光分解により酸を発生する化合物とアセタール又
は○，Ｎ−アセタール化合物との組合せ（特開昭４　８
−８　９　０　０　３号）、オルトエステル又はアミド
アセタール化合物との組合せく特開昭５１−１２０７１
４号〉、主鎮にアセタール又はケタール基を有するポリ
マーとの組合せく特開昭５３−１３３４２９号〉、エノ
ールエーテル化合物との組合せ（特開昭５５−１２９９
５号）、Ｎ一アシルイミノ炭素化合物との組合せく特開
昭５５−１２６２３６号）、主鎖にオルトエステル基を
有するポリマーとの組合せ（特開昭５６−１７３４５号
）、シリルエステル化合物との組合せく特開昭６（１−
１（１２４Ｔ号）及びシリルエーテル化合物との組合せ
（特開＠６０−３７５４９号ミ特開昭６０−１２１４４
６号）などが挙げられる。

本発明の感光性組底物中に占めるボジ型に作用する感光
性或分は、前述の本発明の縮合反応生或物と上記のよう
な公知のポジ型感光性化合物（上記のような組合せ系を
含む）の総量で５〜９５重量％、好ましくはｌＯ〜８５
重量％、特に好ましくは３０〜６０重量％であるが、こ
のボジ型感光性或分の総量を基準とした本発明の縮合反
応生底物の量は１０〜９０重量％、好ましくは３０〜７
０重量％とされる。

本発明の組成物中には、本発明におけるる化合物自体を
含有させることができる。特に、この化合物としては、
重量平均分子量が１，　Ｏ　Ｏ　Ｏ以上の重合体が好ま
しく、更に好まし《は３，　０００以上のものである。

本発明の感光性組底物には、その他高分子化合物として
、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ一クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、ｍ−／ｐ−ａ合’；ｙレゾールホルムアルデヒド
樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−Ｊｐ−、又はｍ−
／ｐ−混合のいずれでもよい〉混合ホルムアルデヒド樹
脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール
変性キシレン樹脂、ボリヒドロキシスチレン、ポリハロ
ゲン化ヒドロキシスチ１／ン等、公知のアルカリ可溶性
の高分子化合物を含有させることができる。

これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子
量が５００〜２０，０００で数平均分子量が２００〜５
０．０００のものが好ましい。

かかるアルカリ水可溶性の高分子化合物は全組或物の７
０重量％以下の添加量で用いられる。

更に、米国特許第４，　１２３，　２７９号明細書に記
載されているように、ｔ−プチルフェノールホルムアル
テヒト樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有
するフェノールとホルムアルデヒドとの縮金物を併用す
ることが画像の感脂性を向上させる上で好ましい。

本発明の感光性組或吻中には、感度を高めるために環状
酸無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、
画像着色剤として染料やその他のフィラーなどを加える
ことができる。環状酸無水物としては、米国特許第４，
　１１５．　１２８号明細書に記載されているような無
水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、３．６−エンドオキシーΔ４−テトラヒ
ド口無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マ
レイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マ
レイン酸、無水コハク酸、無水ビロメリット酸等が挙げ
られる。これらの環状酸無水物を全組或物中の１〜１５
重量％含有させることによって感度を最大３倍程度に高
めることができる。

露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光
によって酸を放出する感光性化合物と塩を形或し得る有
機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体
的には特開昭５　０　−３６２０９号公報、特開昭５３
−８１２８号公報に記載されているＱ−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形或性有機染料
の組合せや、特開昭５　３−３　６　２　２　３号、同
５４−７４７２８号、同６　０−３　６　２　６号、同
６１−１４３７４８号、同６　１−１　５　１　６　４
　４号、同６３−５８４４０号公報に記載されているト
リハロメチル化合物と塩形或性有機染料の組合せを挙げ
ることができる。

画像の着色剤として前記の塩形或性有機染料．以外に他
の染料も用いることができる。塩形或性有機染料を含め
て好適な染料として油溶性染料及び塩基染料を挙げるこ
とができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１３０、オイルビンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ，オイルブルーＢＯＳ，オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ，オイルブラックＢＳ，オイ
ルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業株式
会社製）、ビクトリアビュアブルー、クリスタルバイオ
レット　（Ｃ工４２５５５）、メチルバイオレット　（
ＣＩ４２５３５）、ローダミンＢ（ＣＩ４５１７０Ｂ）
、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブ
ル−（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。ま
た、特開昭６　２−２　９　３　２　４　７号公報に記
載されている染料は特に好ましい。

本発明の感光性組底物中には、現像性を高めまた現像後
露光部に感光性組或物中の染料等の添加物が残存しない
ように、ｐＫａ３．０以下の酸類、例えばスルホン酸類
、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、ホ
スフイン酸類を添加することができる。

具体的な例としては、ナフタレン−２−スルホン酸、ナ
フタレン−１−スルホン酸、ｐ一トルエンスルホン酸、
ドデシルベンゼンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ｍ−ベンゼンジスルホン酸、シクロヘキシルスル
フアミン酸、ｐ−｝ルイジン−２−スルホン酸、ピリジ
ン−３−スルホン酸、フェニルＪ酸、ｐ−｝ルエンスル
フィン酸、ペンジルスルフィン酸、メタンスルフィン酸
、フェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、クロルメチ
ルホスホン酸、ジメチルホスフィン酸、リン酸ジフェニ
ル、亜リン酸ジフエニル、エチル硫酸などが挙げられる
。その他、トリフルオロ酢酸、、トリクロル酢酸、２，
６−ジクロル安息呑酸、ビクリン酸などｐＫａの小さい
カルボン酸類、フェノール類も用いることができる。こ
れらの酸類は１種類又は２種類以上を混合して用いられ
、全感光性組或物に対して０．０５〜５重量％、好まし
くは０．２〜２重量％の範囲で使用される。

本発明の感光性組或物は、上記各戊分を溶解する溶媒に
溶かして塗布液とされ支持体上に塗布される。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−
２−プロパノーノペ　１−メトキシ−２−プロビルアセ
テート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルホルムアミド、水、Ｎ−メチルピロリドン、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセトン
アルコール、メタノール、エタノール、インブロバノー
ル、ジエチレンクリコールジメチルエーテルなどがあり
、これらの溶媒を単独あるいは混合物として使用される
。

塗布液中の感光性組戊物の濃度は、２〜５０重量％であ
る。また、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性
平版印刷版についていえば一般的に固形分として０．５
〜３．０ｇ／ｍ’が好ましい。塗布量が薄くなるにつれ
感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。

本発明の組或物中には、塗布性を良化するための界面活
性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載さ
れているようなフッ素系界面活性剤を添加することがで
きる。好ましい添加量は、全感光性組成物の０．０１〜
１重量％、更に好ましくは０．０５〜０．５重量％であ
る。

本発明の感光性組或物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、アルミニウム板が好ましい。

アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム
合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のも
のが使用でき、例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシ
ウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金
属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組或物
は、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得る
程度の量の不純物をも含むものである。

アルミニウム板は、必要に応じて表面処理される。例え
ば砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸
カリウム、リン酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽
極酸化処理などの表面処理がなされていることが好まし
い。また、英国特許第８５１，　８１９号明細書に記載
されているように、砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，
　１８１．　４６１号明細書に記載されているようにア
ルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属
ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用され
る。

上記陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸
、ホウ酸等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン
酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単
独又は二種以上を組み合わせた電界液中でアルミニウム
板を陽極として電流を流すことにより実施される。

また、米国特許第３．　６５８．　６６２号明細書に記
載されているようなシリケート電着も有効である。

これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組或物
との有害な反応を防ぐためや、感光層との密着性を向上
させるために施されるものである。

アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
。前者のためには、トリクロロエチレン等の溶剤、界面
活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナ
｝　ＩＪウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチン
グ剤を用いる方法が広く行われている。

砂目立て方法としては、機械的、化学的及び電気化学的
な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法として
は、ボール研磨法、プラスト研磨法、軽石のような研磨
剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラ
シ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭５４
−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアル
ミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、
電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれらの組合せ
のような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。

このような粗面化方法の内、特に特開昭５５−１３７９
９３号に記載されているような機械的粗面化と電気化学
的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体
への接着力が強いので好ましい。

上記のような方法による砂目立ては、アルミニウム板の
表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が０、３〜１．０μとな
るような範囲で施されることが好ましい。

このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に
応じて水洗及び化学的に・エッチングされる。

エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチン
グされた表面に、エッチング液戊分から誘導されるアル
ミニウムと異なる皮膜が形或されないものでなければな
らない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム
、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸
、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよ
りイオン化傾向の低い金属、例えば亜鉛、クロム、コバ
ルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な
被膜を形戊するから好ましくない。

これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間１分あたり０．　３から４０ｇ／ｍ′になるよう
に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるい
は下回るものであっても差支えない。

エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬
したり、該アルミニウム板にエッチング液を塗布するこ
と等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ／ｍ
’の範囲となるように処理されることが好ましい。

上記エッチング剤としては、そのエッチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが好ましい
。この場合、スマットが生或するので、通常デ゛スマッ
ト処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸
、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸
等が用いられる。

エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン
酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上
を組合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流
又は交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽
極酸化被膜を形或させることができる。

陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが、一般的には電解
液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電流密度
０．５〜６０アンペア／ｃｌｍ２、電圧ｌ〜ＩＯＯＶ，
電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。

これらの陽極酸化処理の内でも、特に英国特許第１，　
４１２，　７６８号明細書に記載されている硫酸中で高
電流密度で陽極酸化する方法、米国特許第４．　２１１
，　６１９号明細書に記載されているような低濃度の硫
酸中で陽極酸化する方法及び米国特許第３．　５１１．
　６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴とし
て陽極酸化する方法が好ましい。

上記のように粗面化され、更に陽極酸化されたアルミニ
ウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好
ましい例としては米国特許第２，　７１４，　０６６号
及び同第３，　１８１．　４６１号に開示されているよ
うなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水
溶液又は特公昭３　６−２　２　０　６　３号公報に開
示されているフッ化ジルコニウム酸カリウム及び米国特
許第４．　１５３．　４６１号明細書に開示されている
ようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。

また、上述のように粗面化され、陽極酸化され、更に必
要に応じて親水化処理されたアルミニウム板上には水溶
性化合物からなる下塗層を設けることができる。このよ
うな水溶性化合物の例としては特公昭５７−１６３４９
号公報に開示されている水溶性金属塩と親水性セルロー
スの組合せ（例えば、塩化亜鉛とカルボキシメチルセル
ロース、塩化マグネシウムとヒドロキシエチルセルロー
スなど）、米国特許第３，　５１１，　６６１号明細書
に開示されているポリアクリルアミド、特公昭４６−３
５６８５号公報に開示されているポリビニルホスホン酸
、特開昭６０−１４９４９１号公報に開示されているア
ミノ酸およびその塩類（Ｎａ塩、Ｋ塩等のアルカリ金属
塩、アンモニウム塩、塩酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、リ
ン酸塩等〉、特開昭６０−２３２９９８号公報に開示さ
れている水酸基を有するアミン類及びその塩類（塩酸塩
、シュウ酸塩、リン酸塩等）が挙げられ、中でもアミノ
酸及びその塩、水酸基をもつアミン及びその塩は特に好
ましい。このような水溶性化合物の下塗り層は固型分で
１■／ｍ′〜８０■／ｍ′の範囲で設けるのが好ましい
。

本発明の感光性組或物に対する現像液としては、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二
リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の
水溶液が適当であり、それらの濃度が０．　１〜１０重
量％、好ましくは０．　５〜５重量％になるように添加
される。

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。

露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。

〔発明の効果〕

本発明の感光性組底物は塗布、乾燥、画像露光後、露光
部を水性アルカリ現像液で使用する際の現像性に優れ、
幅広いラチチュードを有する。得られたレリーフ像は耐
摩耗性、支持体への密着性、耐処理薬品性が良く、印刷
版として使用した場合、良好な印刷物が多数枚得られる
。

更に、ＵＶインキを使用した印刷を行なった場合におい
ても良好な印刷物が多数枚得られる。

〔実施例〕

以下、本発明を合或例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。

合戒例１ 撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた１ｌ三ツ口フラス
コにｐ−アミノベンゼンスルホンアミド１７０．２ｇ（
１．０モル）及びテトラヒドロフラン７　０　０ｍを入
れ、氷水浴下撹拌した。この混合物にメタクリル酸クロ
リド５２．３ｇ（０．５モル）を約１時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、
３０分間室温下で撹拌し、更にオイルバスを用いて６０
℃に加熱しながら１時間撹拌した。反応終了後、この反
応混合物を水３ｌに撹拌下投入し、３０分間撹拌した後
、ろ過することにより、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた。この
白色固体は、水−アセトンの混合溶媒より再結晶するこ
とにより精製することができた（収量３９．３ｇ）。

このように得られたＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド９．　７　２　ｇ　（０．０４０
８モル）及びメタクリル酸メチル７．　９　３　ｇ　（
０．０７９２モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５
０ｍｌを撹拌機、冷却管を備えた２　０　０ｍｉ三ツ口
フラスコに入れ、渦水浴により６４″Ｃに加熱しながら
撹拌した。この混合物にα、α′−アゾビスイソブチロ
ニトリル０．　２　４　６　ｇを加え、６４℃に保ちな
がら窒素気流下５時間撹拌した。反応終了後、この反応
混合物を水２ｌに撹拌下投入し、３０分間撹拌した後、
ろ過、乾燥することにより、１６ｇの白色固体を得た。

ゲルバーミエーションクロマトグラフィーにより、この
高分子化合物の重量平均分子量（ポリスチレン標準）を
測定したところ、４９．０００であった（以下の第一表
の高分子化合物（ａ））。

高分子化合物（ａ）　１　３．　７　ｇ及び１．２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド９
．１ｇにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｆを加
え、撹拌しながら反応液が３０℃以上にならぬよう冷却
しながら、トリエチルアミン４．０ｇをＮ，　　Ｎ−ジ
メチルアセトアミドの２Ｍに溶解させた溶液を３０分間
で滴下した。２０〜３０℃にて更に１時間反応させた後
、反応液を水３００ｍＮに投入し、沈澱を濾集し、これ
を乾燥して、縮合生或吻（Ａ）を１６ｇ得た。

合或例２ 撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた５００ｒｎｆｌ三
ツ口フラスコにメタクリル酸３　Ｌ　Ｏ　ｇ（０．３６
モル）、クロロギ酸エチル３　９．　１　ｇ（０．３６
モル〉及びアセトニトリル２００ｍｊ！を入れ、氷水浴
下撹拌した。この混合物にトリエチルアミン３６．４ｇ
（０．３６モル）を約１時間かけて滴下ロートにより滴
下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室温下で３０
分間撹拌し、油浴を取り付けた。

この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンスルホンアミド
５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴にて７０℃に
温めながら１時間撹拌した。反応終了後、この混合物を
水１ｌに撹拌下に投入し、３０分間撹拌した。固体をろ
過により集め、更に水５００ｍｉ’にスラリー化した後
、ろ過、乾燥することによりＮ−（ｐ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られたく
収量４６．９ｇ）。

次に撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた２０〇一三ツ
口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル〉
メタクリルアミド４．　６　１　ｇ　（０．０１９２モ
ル）、メタクリル酸エチル２．９４ｇ　（０．０２５８
モル）、アクリロニトリル０．８　０　ｇ　（０．０　
１　５モル〉及びＮ．Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇ
を入れ、渦水浴により６５℃に加熱しながら撹拌した。

この混合物にＶ−６５　Ｃ２．２’−アゾビス−（２．
４−ジメチルバレロ）ニトリル〕（和光純薬味製）０．
１５ｇを加え、６５℃に保ちながら窒素気流下２時間撹
拌した。この反応混合物に更にＮ−（ｐ−アミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド４．６１ｇ，メタクリ
ル酸エチル２．９４ｇ１アクリロニトリル０．８０ｇＳ
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＶ−６５　　０．１
５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した
。滴下終了後更に６５℃で２時間撹拌した。反応終了後
メタノール４０ｇを加え冷却し、水２ｌに撹拌下投入し
、３０分間撹拌した後、ろ過乾燥することにより、１５
ｇの白色固体を得た。ゲルバーミエーションクロマトグ
ラフィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量（ポ
リスチレン標準〉を測定したところ５３，０００であっ
た（第１表の高分子化合物ね）〉。

ついで、高分子化合物わ）を合或例１と同様にして１，
２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロ
リドと反応させて縮合生或物（Ｂ）を得た。

合成例３、４ 合或例１又は２と同様にしてそれぞれ第１表に示した高
分子化合物（Ｃ）、（ｄ）を合戊した。これらの高分子
化合物の重量平均分子量（ボリスチレン標準）はいずれ
も、９．　Ｏ　Ｏ　Ｏ〜８０，０００であった。

これらの高分子化合物（Ｃ）、（ｄ）を用いて、合或例
１と同様な方法で１．２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−スルホニルクロリドと反応させて、それぞれ縮合
生或物（Ｃ）、（Ｄ＞を得た。

合成例５ Ｎ−メタクリルベンゼンスルホンアミド１０．０ｇ（０
．０４４モル）、メタクリル酸メチル４．４６ｇ（０．
０４４モル）を、２−メトキシエタノール２２一中で、
Ｖ−６５　［２．２’−アゾビスー（２，４−ジメチル
バレロ）ニトリル１　０．　０２１３ｇを開始剤として
、共重合を行なった。６０℃で７時間撹拌した後、２−
メトキシエタノール６〇一を加えて、水２ｌ中に再沈し
た。得られたポリマーをテトラヒドロフラン１００ｍｌ
に溶解した後、メタノール１．５２中に再沈することに
よりｉｔ表に示す高分子化合物（ｅ）　１　０．　２　
ｇを得た（Ｍｗ＝２００，０００、収率７０％）。構戊
モル比は’Ｈ一ＮＭＲより決定した。

次にこの高分子化合物（ｅ）を用いて、合或例１と同様
な方法で、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリドと反応させて縮合生戊吻（Ｅ）を得
た。

なお、合或例１〜５で示した縮合生底物（Ａ）〜（Ｅ）
は、分光光度計による測定より、ナフトキノンジアジド
基の導入率は、反応し得る−ＳＯ２ＮＬ基あるいは−Ｃ
ＯＮＨ−Ｓｏ２一基に対してすべて４０％〜８０％の範
囲であった。

実施例１〜５及び比較例１〜４ 厚さ０．　２　４　ｍｍのアルミニウム板をナイロンブ
ラシと４００メッシュのパミストンー水懸濁を用いその
表面を砂目立てした後、よく水で洗浄して基板ＣＩＥを
用意した。基板〔Ｉ〕を１０％水酸化ナトリウムに７０
℃で２０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗し
た後、２０％ＨＮＯ．で中和洗浄し、水洗し、１　２．
　７　Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いてＯ。

７％硝酸水溶液中で４００クーロン／ｄｍ２の電気量で
電解粗面化処理を行い、ついで水洗して基板（ｎ）を用
意した。

基板〔■〕を１０％水酸化ナトリウム水溶液中で表面の
溶解量が０．９ｇ／ｍ”になるように処理した。水洗後
、２０％硝酸溶液中で中和、洗浄してデスマッ１・を行
なった後、１８％硫酸水溶液中で、酸化皮膜量が３ｇ／
ｌＴｌ２になるように陽極酸化した。

次に、下記組或の感光液〔Ａ〕において、以下の第２表
に示すように本発明のキノンジアジド化合物（縮合生或
物〉の種類を代えた５種類の感光液（Ａ）−１〜ｌ：Ａ
］−５を調製した。比較例として、感光液〔Ａ〕で、本
発明のキノンジアジド化合物の代わりに、２，３．４−
トリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルホニルクロリドとのエステル化物
（エステル化率；６０モル％）を用いた感光液ＣＡ］−
６；本発明のキノンジアジド化合物の代わりに、第１表
の高分子化合物（ａ）、高分子化合物（ｅ）をそれぞれ
用いた感光液（Ａ）−７及び感光液（Ａ：］−８；本発
明のキノンジアジド化合物の代わりに、ｍ−クレゾール
ーホルムアルデヒド樹脂（重量平均分子量４，０００）
を用いた感光液〔Ａ〕−９を調魁した。

これらの感光液を基板（ＩＩ〕に塗布し、１００℃で２
分間乾燥して、感光性平版印刷版（ＡＥ　−１〜（Ａ〕
−９を作製した。塗布量は乾燥重量で２．３ｇ／一であ
った。

感光液〔Ａ］ ・２，３．４−｝リヒドロキシベン ゾフェノンとナフトキノン−１， ２−ジアジド−５−スルホニルク ロリドとのエステル化物 （エステル化率：６０モル）　　　　０．４５ｇ・本発
明のキノンジアジド化合物 （縮合生威物：第２表）　　　　　　０．　６　０　ｇ
・ｍ−クレゾールーホルムアルデヒド 樹脂 （重量平均分子量：４，０００）　　　０．４０ｇ・ナ
フタレン−１−スルホンＭ　　　　Ｏ．０１ｇ・２−（
ｐ−メトキシフェニル）一 ４．６−ビスくトリクロロメチル） 一Ｓ一トリアジン　　　　　　　　０．　０　２　ｇ・
ナフトキノン−１，２−ジアジド −４−スルホニルクロリド　　　　０．０１ｇ・ビクト
リアビ一アブルーＢＯＨ （保土谷化学＠製の染料）　　　　　０．０１５　ｇ・
メガファックＦ−１７７ （大日本インキ化学工業＠Ｉ！！ フッ素系界面活性剤）　　　　　　０．００４　ｇ・ジ
メチルアセトアミド　　　　　　　　４ｇ・ｌ−メトキ
シ−２−プロバノール　　　９ｇ・メチルエチルケトン
　　　　　　　　　７ｇ感光性平版印刷版ＣＡ〕−１〜
（Ａ：］−９の感光層上に線画及び網点画像のポジ透明
原画を密着させ、２ＫＷのメタルハライドランプで１ｍ
の距離から露光を行なった。露光された印刷版を以下の
組或の現像液Ａで２５℃において６０秒間浸漬現像した
。

組成： 耐刷性を磯べるため、ＵＶインキを用いて印刷して、正
常な印刷物が刷れる枚数を調べることによって比較した
。耐薬品性は薬品に浸漬し、画像部の侵食性を調べるこ
とにより評価した。

また、現像ラチチュードを調べるため、現像液の温度を
変えて現像し、ステップウエッジのべタ段数の変化のし
易さを調べた。これらの結果を第２表に示す。

第２表から明らかなように、本発明の感光性組戒物を用
いた感光性平版印刷版は、ＵＶインキの耐刷性、耐薬品
性及び現像ラチチュードがきわめて良好であった。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. −ＳＯ＿２−ＮＨ−結合及び／又は▲数式、化学式、表
   等があります▼結合を有する化合物と、キノンジアジド
   スルホニルハライドとの縮合反応生成物を含有すること
   を特徴とする感光性組成物。