JPH0561191A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C245/00—Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
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Abstract
(57)【要約】
【構成】支持体上に下記一般式(I)及び(II) の繰り
返し単位を有する共重合体であるジアゾニウム化合物お
よび酸価20以上250未満の親油性高分子化合物を含
有する感光層を有する感光性平版印刷版。 【効果】耐刷性、現像性に優れ、印刷汚れを生じない。
返し単位を有する共重合体であるジアゾニウム化合物お
よび酸価20以上250未満の親油性高分子化合物を含
有する感光層を有する感光性平版印刷版。 【効果】耐刷性、現像性に優れ、印刷汚れを生じない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版に関
するものである。
するものである。
【0002】
【従来の技術】感光性平版印刷版は、一般に、アルミニ
ウム板等の支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画等を
通して紫外線等の活性光線を照射し、光が照射された部
分を重合あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、光の非
照射部分を現像液に溶出させ、それぞれの部分を、水を
反発して油性インキを受容する画像部、および水を受容
して油性インキを反発する非画像部とすることにより得
られる。
ウム板等の支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画等を
通して紫外線等の活性光線を照射し、光が照射された部
分を重合あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、光の非
照射部分を現像液に溶出させ、それぞれの部分を、水を
反発して油性インキを受容する画像部、および水を受容
して油性インキを反発する非画像部とすることにより得
られる。
【0003】この場合における感光性組成物としては、
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂が広く用いられてきた。一方、こ
れらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を露光後現
像する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アル
カリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44
202号に記載されている、ベンジルアルコール、アニ
オン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液から
なる現像液組成物、特開昭55−155355号に記載
されている、水に対する溶解度が常温において10重量
%以下である有機溶剤とアルカリ剤と水を含有する現像
液組成物等が挙げられる。
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂が広く用いられてきた。一方、こ
れらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を露光後現
像する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アル
カリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44
202号に記載されている、ベンジルアルコール、アニ
オン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液から
なる現像液組成物、特開昭55−155355号に記載
されている、水に対する溶解度が常温において10重量
%以下である有機溶剤とアルカリ剤と水を含有する現像
液組成物等が挙げられる。
【0004】これらは、いずれも有機溶剤、界面活性剤
等の有機物を、現像液組成物中に含有している。しかし
ながら有機溶媒は、一般に毒性及び臭気があり、また火
災に対する危険性を持っており、さらに廃液においても
BOD規制を受けるなどの多くの欠点を有し、コストも
高くなる。これらの有機溶媒を実質上含まない現像液組
成物により、ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現
像しようとする試みは特開昭57−192952号、特
開昭58−27141号に記載されている。
等の有機物を、現像液組成物中に含有している。しかし
ながら有機溶媒は、一般に毒性及び臭気があり、また火
災に対する危険性を持っており、さらに廃液においても
BOD規制を受けるなどの多くの欠点を有し、コストも
高くなる。これらの有機溶媒を実質上含まない現像液組
成物により、ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現
像しようとする試みは特開昭57−192952号、特
開昭58−27141号に記載されている。
【0005】上記特許に記載されている現像液組成物
は、o−ナフトキノンジアジド化合物を感光性化合物と
して含むポジ型感光性平版印刷版を現像する際に用いら
れており、pH12以上の強アルカリ水である。しかし、
従来用いられているような縮重合により合成されたジア
ゾ樹脂を含む感光性平版印刷版を強アルカリ性の現像液
で現像すると、画像部が支持体から剥離したり平版印刷
版を印刷機にかけた場合多量の印刷枚数が得られないい
わゆる耐刷不良がおこった。
は、o−ナフトキノンジアジド化合物を感光性化合物と
して含むポジ型感光性平版印刷版を現像する際に用いら
れており、pH12以上の強アルカリ水である。しかし、
従来用いられているような縮重合により合成されたジア
ゾ樹脂を含む感光性平版印刷版を強アルカリ性の現像液
で現像すると、画像部が支持体から剥離したり平版印刷
版を印刷機にかけた場合多量の印刷枚数が得られないい
わゆる耐刷不良がおこった。
【0006】さらに特開平2−29650号にはP−ジ
アゾジフェニルアミンとカルボキシル基を有する化合物
(例えばp−ヒドロキシ安息香酸)との共縮合によりア
ルカリ現像液に対する親和性をもたせたジアゾ樹脂に関
する記載がある。しかし一般にこの様なジアゾ樹脂は分
子量が低く耐刷性に劣るのが常である。このp−ジアゾ
ジフェニルアミンより得られるジアゾ樹脂とは別に、特
開昭54−30121号には、主鎖にポリエステル基を
有するジアゾ化合物に関する記載があるが、その製造方
法は、極めて特殊なもので汎用性が無い。さらに又、主
鎖のエステル基が開裂しやすいために、物質の保存中お
よび、支持体に塗布した後の保存中に感度の低下をもた
らし、製品の付加価値を著るしく低下させるものであ
る。
アゾジフェニルアミンとカルボキシル基を有する化合物
(例えばp−ヒドロキシ安息香酸)との共縮合によりア
ルカリ現像液に対する親和性をもたせたジアゾ樹脂に関
する記載がある。しかし一般にこの様なジアゾ樹脂は分
子量が低く耐刷性に劣るのが常である。このp−ジアゾ
ジフェニルアミンより得られるジアゾ樹脂とは別に、特
開昭54−30121号には、主鎖にポリエステル基を
有するジアゾ化合物に関する記載があるが、その製造方
法は、極めて特殊なもので汎用性が無い。さらに又、主
鎖のエステル基が開裂しやすいために、物質の保存中お
よび、支持体に塗布した後の保存中に感度の低下をもた
らし、製品の付加価値を著るしく低下させるものであ
る。
【0007】これらの欠点を改善するため、前記一般式
(I)の繰り返し単位を有するジアゾニウム化合物が、
特開昭59−101644号に記載されているが、その
ジアゾニウム化合物は、アルカリ可溶性基を有していな
いか、あるいは少ないためそれを含有する感光性組成物
に対して露光後、アルカリ現像液にて現像する際、現像
性、特にアンダー条件下での現像性が良好でなく、ま
た、現像液の支持体表面上にジアゾニウム化合物が膜状
に残るいわゆるジアゾ残りを生じ、印刷遍性の低下を招
く問題がある。
(I)の繰り返し単位を有するジアゾニウム化合物が、
特開昭59−101644号に記載されているが、その
ジアゾニウム化合物は、アルカリ可溶性基を有していな
いか、あるいは少ないためそれを含有する感光性組成物
に対して露光後、アルカリ現像液にて現像する際、現像
性、特にアンダー条件下での現像性が良好でなく、ま
た、現像液の支持体表面上にジアゾニウム化合物が膜状
に残るいわゆるジアゾ残りを生じ、印刷遍性の低下を招
く問題がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的
は、感度が高く、耐刷性に優れ、しかも、アルカリ現像
液にて現像する際に、現像性に優れ、ジアゾ残りのない
新規な感光性平版印刷版を提供することである。
は、感度が高く、耐刷性に優れ、しかも、アルカリ現像
液にて現像する際に、現像性に優れ、ジアゾ残りのない
新規な感光性平版印刷版を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者は鋭意検討した結果、ジアゾニウム化合物
としては下記一般式(I)で示されるような繰り返し単
位と下記一般式(II)で示されるアルカリ可溶性基を有
する繰り返し単位とを有する共重合体を用い、バインダ
ーとしては酸価20以上250未満の親油性高分子化合
物を用いた感光層を有する感光性平版印刷版により上記
目的が達成できることを見出し本発明を完成するにいた
った。
に、本発明者は鋭意検討した結果、ジアゾニウム化合物
としては下記一般式(I)で示されるような繰り返し単
位と下記一般式(II)で示されるアルカリ可溶性基を有
する繰り返し単位とを有する共重合体を用い、バインダ
ーとしては酸価20以上250未満の親油性高分子化合
物を用いた感光層を有する感光性平版印刷版により上記
目的が達成できることを見出し本発明を完成するにいた
った。
【0010】
【化2】
【0011】式中、R1 は水素原子又はメチル基を示
し、Zは2価の連結基を示し、R2 、R3 、R4 、R5
は同一でも相違していてもよく、それぞれ水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は水酸基を示
し、Yは−NH−、−O−、又は−S−を示し、X- は
アニオンを示し、Wはカルボキシル基、少なくとも1個
のカルボキシル基を有する基、少なくとも1個のスルホ
ン酸基を有する基又は、少なくとも1個のリンの酸素酸
基を有する基を示す。
し、Zは2価の連結基を示し、R2 、R3 、R4 、R5
は同一でも相違していてもよく、それぞれ水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は水酸基を示
し、Yは−NH−、−O−、又は−S−を示し、X- は
アニオンを示し、Wはカルボキシル基、少なくとも1個
のカルボキシル基を有する基、少なくとも1個のスルホ
ン酸基を有する基又は、少なくとも1個のリンの酸素酸
基を有する基を示す。
【0012】リンの酸素酸基としては下記一般式(III)
又は(IV)のいずれかで示される基が好ましい。 −O−PO(OR6)(OR7) (III) −PO(OR6)(OR7) (IV) 式中、R6 は水素原子、R7 は水素原子、アルキル基又
はアリール基を示す。
又は(IV)のいずれかで示される基が好ましい。 −O−PO(OR6)(OR7) (III) −PO(OR6)(OR7) (IV) 式中、R6 は水素原子、R7 は水素原子、アルキル基又
はアリール基を示す。
【0013】親油性高分子化合物の酸価が20未満の場
合は印刷において汚れ性が悪化する。一方250以上の
場合は十分な耐刷力が得られなくなる。以下、本発明を
さらに詳細に説明する。前記一般式(I)で示される繰
り返し単位において、Zは2価の連結基を示し、好まし
くは重合性部位がアクリル酸骨格、メタクリル酸骨格又
はスチレン骨格となるものである。
合は印刷において汚れ性が悪化する。一方250以上の
場合は十分な耐刷力が得られなくなる。以下、本発明を
さらに詳細に説明する。前記一般式(I)で示される繰
り返し単位において、Zは2価の連結基を示し、好まし
くは重合性部位がアクリル酸骨格、メタクリル酸骨格又
はスチレン骨格となるものである。
【0014】R2 、R3 、R4 、R5 は同一でも相違し
てもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜8のアルキル
基又はアルコキシ基、塩素原子、臭素原子又は水酸基を
示す。Yは2価の連結基であり好ましくは−NH−であ
る。X- は本発明において使用されるジアゾニウム化合
物と安定に塩を形成し、かつ該ジアゾニウム化合物を有
機溶媒に可溶となすアニオンを示す。このようなアニオ
ンの具体例としては、例えば、デカン酸および安息香酸
等の有機カルボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸お
よびスルホン酸を含み、典型的な例としては、ハロゲン
化水素酸、例えば弗化水素酸、塩化水素酸、臭化水素
酸;硫酸、硝酸、リン酸(5価のリン)、特にオルトリ
ン酸、無機イソ−及びヘテロ多酸、例えばリンタングス
テン酸、リンモリブデン酸、脂肪族又は芳香族ホスホン
酸あるいはその半エステル、アルソン酸、ホスフィン
酸、トリフルオロ酢酸などのフルオロカルボン酸、アミ
ドスルホン酸、セレン酸、弗硼化水素酸、ヘキサフルオ
ロリン酸、過塩素酸、更に脂肪族及び芳香族スルホン
酸、例えばメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルス
ルホン酸、ジオクチルスクホコハク酸、ジシクロヘキシ
ルスルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキ
シ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−3−
プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンス
ルホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ジアミノフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチル
フェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキ
シ−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベ
ンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン
酸、スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスル
ホン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ
−o−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベン
ゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスル
ホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼン
スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキシベ
ンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン
酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸、イソプロピルナフタレンスルホン
酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレン
スルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシ
ナフタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスル
ホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナ
フタレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフト
ール−5−スルホン酸、ナフタリン−1−スルホン酸、
ナフタリン−2−スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフ
タリン−3,6−ジスルホン酸、4,4′−ジアジド−
スチルベン−3,3′−ジスルホン酸、1,2−ナフト
キノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸及び1,2−
ナフトキノン−1−ジアジド−4−スルホン酸のアニオ
ンもしくは、これらのアニオンの混合物が含まれる。こ
れらのアニオンの中で特に好ましいものは、ヘキサフル
オロリン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ドデシル
ベンゼンスルホン酸又は2−メトシキ−4−ヒドロキシ
−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸のアニオンであ
る。
てもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜8のアルキル
基又はアルコキシ基、塩素原子、臭素原子又は水酸基を
示す。Yは2価の連結基であり好ましくは−NH−であ
る。X- は本発明において使用されるジアゾニウム化合
物と安定に塩を形成し、かつ該ジアゾニウム化合物を有
機溶媒に可溶となすアニオンを示す。このようなアニオ
ンの具体例としては、例えば、デカン酸および安息香酸
等の有機カルボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸お
よびスルホン酸を含み、典型的な例としては、ハロゲン
化水素酸、例えば弗化水素酸、塩化水素酸、臭化水素
酸;硫酸、硝酸、リン酸(5価のリン)、特にオルトリ
ン酸、無機イソ−及びヘテロ多酸、例えばリンタングス
テン酸、リンモリブデン酸、脂肪族又は芳香族ホスホン
酸あるいはその半エステル、アルソン酸、ホスフィン
酸、トリフルオロ酢酸などのフルオロカルボン酸、アミ
ドスルホン酸、セレン酸、弗硼化水素酸、ヘキサフルオ
ロリン酸、過塩素酸、更に脂肪族及び芳香族スルホン
酸、例えばメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルス
ルホン酸、ジオクチルスクホコハク酸、ジシクロヘキシ
ルスルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキ
シ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−3−
プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンス
ルホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ジアミノフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチル
フェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキ
シ−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベ
ンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン
酸、スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスル
ホン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ
−o−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベン
ゼンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスル
ホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼン
スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキシベ
ンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン
酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸、イソプロピルナフタレンスルホン
酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレン
スルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシ
ナフタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスル
ホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナ
フタレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフト
ール−5−スルホン酸、ナフタリン−1−スルホン酸、
ナフタリン−2−スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフ
タリン−3,6−ジスルホン酸、4,4′−ジアジド−
スチルベン−3,3′−ジスルホン酸、1,2−ナフト
キノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸及び1,2−
ナフトキノン−1−ジアジド−4−スルホン酸のアニオ
ンもしくは、これらのアニオンの混合物が含まれる。こ
れらのアニオンの中で特に好ましいものは、ヘキサフル
オロリン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ドデシル
ベンゼンスルホン酸又は2−メトシキ−4−ヒドロキシ
−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸のアニオンであ
る。
【0015】他方、前記一般式(II) で示す繰り返し単
位としては、具体的には、例えば、アクリル酸、メタク
リル酸、ビニル安息香酸、スルホプロピルメタクリレー
ト、スルホエチルアクリレート、スルホプロピルメタク
リルアミド、スルホメチルアクリルアミド、スチレンス
ルホン酸、4−ビニルフェニルリン酸、4−ビニルフェ
ニルホスホン酸等があげられるが、これらに限られるも
のではない。
位としては、具体的には、例えば、アクリル酸、メタク
リル酸、ビニル安息香酸、スルホプロピルメタクリレー
ト、スルホエチルアクリレート、スルホプロピルメタク
リルアミド、スルホメチルアクリルアミド、スチレンス
ルホン酸、4−ビニルフェニルリン酸、4−ビニルフェ
ニルホスホン酸等があげられるが、これらに限られるも
のではない。
【0016】また、本発明のジアゾニウム化合物は、前
記一般式(I)及び(II) の繰り返し単位の他に共重合
可能なモノマーを共重合させて用いることができる。共
重合に用いるモノマーの例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸のアルキルエステル(例えばメチルメタアクリ
レート、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリ
レート、プロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリ
レート、2−エチルヘキシルアクリレート、デシルアク
リレート、β−シアノエチルアクリレート、β−クロロ
エチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート
など)、ビニールエステル類(例えば酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、酪酸ビニルなど)、ビニルエーテル類
(例えばメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オレイルビニルエーテルなど)、ビニルケトン類
(例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトンな
ど)、スチレン類(例えばスチレン、メチルスチレン、
ジメチルスチレン、2,4,6−トリメチルスチレン、
エチルスチレン、ラウリルスチレン、クロロスチレン、
メトキシスチレン、シアノスチレン、クロロメチルスチ
レン、α、メチルスチレンなど)、ビニルヘテロ環化合
物(例えばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニル
イミダゾールなど)、アクリロニトリル、塩化ビニル、
ビニリデンクロライド、エチレン、プロピレン、ブタジ
エン、ジイソブチレン、イソプレン、クロロプレンなど
が挙げられる。本発明は、以上の共重合性モノマーに限
定するものではなく、重合可能ならばいかなる共重合体
でもよい。
記一般式(I)及び(II) の繰り返し単位の他に共重合
可能なモノマーを共重合させて用いることができる。共
重合に用いるモノマーの例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸のアルキルエステル(例えばメチルメタアクリ
レート、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリ
レート、プロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリ
レート、2−エチルヘキシルアクリレート、デシルアク
リレート、β−シアノエチルアクリレート、β−クロロ
エチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート
など)、ビニールエステル類(例えば酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、酪酸ビニルなど)、ビニルエーテル類
(例えばメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オレイルビニルエーテルなど)、ビニルケトン類
(例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトンな
ど)、スチレン類(例えばスチレン、メチルスチレン、
ジメチルスチレン、2,4,6−トリメチルスチレン、
エチルスチレン、ラウリルスチレン、クロロスチレン、
メトキシスチレン、シアノスチレン、クロロメチルスチ
レン、α、メチルスチレンなど)、ビニルヘテロ環化合
物(例えばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニル
イミダゾールなど)、アクリロニトリル、塩化ビニル、
ビニリデンクロライド、エチレン、プロピレン、ブタジ
エン、ジイソブチレン、イソプレン、クロロプレンなど
が挙げられる。本発明は、以上の共重合性モノマーに限
定するものではなく、重合可能ならばいかなる共重合体
でもよい。
【0017】又、共重合比および分子量は、ジアゾニウ
ム化合物の感度、解像力、有機溶媒その他への溶解性を
満足する範囲内で任意に選択できる。前記繰り返し単位
(I)と(II)の共重合比は、仕込み比で1:0.1〜0.
1:1、好ましくは1:0.2〜0.2:1、より好ましく
は1:0.5〜0.2:1である。さらに、得られるジアゾ
化合物としての酸含量(カルボン酸、スルホン酸、リン
の酸素酸等のアルカリ可溶性基が、化合物1g中に含ま
れるミリ等量数をもって表わす)としては、0.2〜10
meq /g、好ましくは0.5〜5meq /g、より好ましく
は0.5〜3meq /gとなることである。
ム化合物の感度、解像力、有機溶媒その他への溶解性を
満足する範囲内で任意に選択できる。前記繰り返し単位
(I)と(II)の共重合比は、仕込み比で1:0.1〜0.
1:1、好ましくは1:0.2〜0.2:1、より好ましく
は1:0.5〜0.2:1である。さらに、得られるジアゾ
化合物としての酸含量(カルボン酸、スルホン酸、リン
の酸素酸等のアルカリ可溶性基が、化合物1g中に含ま
れるミリ等量数をもって表わす)としては、0.2〜10
meq /g、好ましくは0.5〜5meq /g、より好ましく
は0.5〜3meq /gとなることである。
【0018】また、分子量は、重合条件を種々変えるこ
とにより、任意の値として得ることができるが、本発明
の目的とする使途に有効に供するためには、重量平均分
子量が約1000乃至100,000のものが使用可能で
あるが、好ましくは、約1500乃至50,000のもの
が適当である。次に前記一般式(I)で表わされる繰り
返し単位の具体例を示すが、本発明は、これらに限定す
るものではない。
とにより、任意の値として得ることができるが、本発明
の目的とする使途に有効に供するためには、重量平均分
子量が約1000乃至100,000のものが使用可能で
あるが、好ましくは、約1500乃至50,000のもの
が適当である。次に前記一般式(I)で表わされる繰り
返し単位の具体例を示すが、本発明は、これらに限定す
るものではない。
【0019】
【化3】
【0020】
【化4】
【0021】
【化5】
【0022】
【化6】
【0023】
【化7】
【0024】本発明の前記一般式(I)で示される。繰
り返し単位は、以下の操作により合成できる。例えば一
般式(V)で示されるクロロメチルスチレン(m−、p
−体混合)の誘導体のような活性ハロゲン基および重合
性基を有する化合物と、下記一般式(VI) で示されるジ
フェニルアミン誘導体(ここで、R2 、R3 、R4 、R
5 、Yは、一般式(I)における意味と同じである。D
は、−NO2 、−NO、−N2 + X - 、−NHCOCH3 、−H等の
ジアゾニウム基もしくは、還元、ジアゾ化等によりジア
ゾニウム基へと誘導可能な置換基を表わす。)を、例え
ば Organic Functional Group Preparations (S. R. Sa
ndler. W. Karo著、Academic Press)第1巻102頁、
に記載の方法で反応させることにより、下記一般式(VI
I)で表わされる重合性モノマーを合成する。
り返し単位は、以下の操作により合成できる。例えば一
般式(V)で示されるクロロメチルスチレン(m−、p
−体混合)の誘導体のような活性ハロゲン基および重合
性基を有する化合物と、下記一般式(VI) で示されるジ
フェニルアミン誘導体(ここで、R2 、R3 、R4 、R
5 、Yは、一般式(I)における意味と同じである。D
は、−NO2 、−NO、−N2 + X - 、−NHCOCH3 、−H等の
ジアゾニウム基もしくは、還元、ジアゾ化等によりジア
ゾニウム基へと誘導可能な置換基を表わす。)を、例え
ば Organic Functional Group Preparations (S. R. Sa
ndler. W. Karo著、Academic Press)第1巻102頁、
に記載の方法で反応させることにより、下記一般式(VI
I)で表わされる重合性モノマーを合成する。
【0025】
【化8】
【0026】この重合性モノマーをエチレンジクロリ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテー
ト、N,N−ジメチルホルムアミド、トルエン、酢酸メ
チル、乳酸メチル、乳酸エチル等の溶媒中でラジカル重
合又はカチオン重合等の開始剤により重合せしめ、ジア
ゾポリマー又は、ジアゾ前駆体ポリマーを得る。ジアゾ
前駆体ポリマーからジアゾポリマーへは常法に従って変
換できる。特に一級アミノ基を有するポリマーのジアゾ
化は、例えば Organic FunctionalGroup Preparations
(S. R. Sandler. W. Karo著、Academic Press) 第1巻
404頁、Biochem. J. 第77巻、12頁(1960)
(L. H.Kentら著) 等を参考にすることができる。
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテー
ト、N,N−ジメチルホルムアミド、トルエン、酢酸メ
チル、乳酸メチル、乳酸エチル等の溶媒中でラジカル重
合又はカチオン重合等の開始剤により重合せしめ、ジア
ゾポリマー又は、ジアゾ前駆体ポリマーを得る。ジアゾ
前駆体ポリマーからジアゾポリマーへは常法に従って変
換できる。特に一級アミノ基を有するポリマーのジアゾ
化は、例えば Organic FunctionalGroup Preparations
(S. R. Sandler. W. Karo著、Academic Press) 第1巻
404頁、Biochem. J. 第77巻、12頁(1960)
(L. H.Kentら著) 等を参考にすることができる。
【0027】ここで、一般式(VI) で示される化合物
は、例えばp−アミノフェノールと2−クロロ−5−ニ
トロベンゼンスルホン酸を縮合した後、脱スルホン酸を
行なう方法(F. UllmannらBer.第42巻、102頁、F.
L. BuchらJ. Med. Chem. 第10巻、102頁(196
7)など)や、4−アセチルアミノ−4′−メトキシジ
フェニルアミンに三臭化ホウ素等を作用させてフェノー
ル性水酸基に誘導する方法(J. F. McOmieら、Org. Syn
th. V 、412頁、R. J. Molyneuxら、Chem. Commun.
1974、318頁などを参考とすることができる。)
を利用することによって合成しうる。
は、例えばp−アミノフェノールと2−クロロ−5−ニ
トロベンゼンスルホン酸を縮合した後、脱スルホン酸を
行なう方法(F. UllmannらBer.第42巻、102頁、F.
L. BuchらJ. Med. Chem. 第10巻、102頁(196
7)など)や、4−アセチルアミノ−4′−メトキシジ
フェニルアミンに三臭化ホウ素等を作用させてフェノー
ル性水酸基に誘導する方法(J. F. McOmieら、Org. Syn
th. V 、412頁、R. J. Molyneuxら、Chem. Commun.
1974、318頁などを参考とすることができる。)
を利用することによって合成しうる。
【0028】また、一般式(V)の重合体又は共重合体
と、一般式(VI) で示される化合物を反応させる方法
(高分子反応)によっても合成は可能であり、ここでは
特定の合成法に限定するものではない。以下に代表的な
化合物の合成例を示す。 合成例1 原料の合成 三つ口フラスコに攪拌装置、冷却管、温度計を付け、4
−オキシ−4′−アセチルアミノジフェニルアミン24.
2g(0.1モル)、クロロメチルスチレン(m−、p−
体混合)15.2g(0.1モル)、炭酸カリウム6.9g
(0.05モル)、N,N−ジメチルホルムアミド100
mlおよびヨウ化ナトリウム2gを加え、70℃にて6時
間加熱攪拌を行なった。反応終了後、系内の液を約1リ
ットルの水中に注いだ。析出した生成物をエタノールに
て再結晶し、下記重合性モノマーを得た。
と、一般式(VI) で示される化合物を反応させる方法
(高分子反応)によっても合成は可能であり、ここでは
特定の合成法に限定するものではない。以下に代表的な
化合物の合成例を示す。 合成例1 原料の合成 三つ口フラスコに攪拌装置、冷却管、温度計を付け、4
−オキシ−4′−アセチルアミノジフェニルアミン24.
2g(0.1モル)、クロロメチルスチレン(m−、p−
体混合)15.2g(0.1モル)、炭酸カリウム6.9g
(0.05モル)、N,N−ジメチルホルムアミド100
mlおよびヨウ化ナトリウム2gを加え、70℃にて6時
間加熱攪拌を行なった。反応終了後、系内の液を約1リ
ットルの水中に注いだ。析出した生成物をエタノールに
て再結晶し、下記重合性モノマーを得た。
【0029】
【化9】
【0030】収量は25.3g(71%)であった。上記
化合物の構造確認は、元素分析(N%;found 7.79
%、calcd 7.82%)、NMRスペクトル(−COCH3 δ
2.0ppm ;CH2 =CH−δ5.23ppm 、5.8ppm および6.
8ppm ;−CH2 −O−δ5.0ppm in (CD3)2SO)、赤外吸
収スペクトル等により行なった。 (ジアゾニウム化合物1の合成)攪拌装置、冷却管、窒
素導入管付きの三つ口フラスコに合成例1で合成した重
合性モノマー17.9g(0.0500mol)、メタクリル酸
4.30g(0.0500mol)及びN,N−ジメチルホルム
アミド35gを入れ、内温を65℃に加熱攪拌した。し
ばらく窒素雰囲気下で攪拌を行なった後、α,α′−ア
ゾビスイソブチロニトリル1.23gのN,N′−ジメチ
ルホルムアミド5g溶液を加え、8時間重合を行なっ
た。その後、内容物を2リットルの水の中に注ぎ析出し
た沈殿を濾過、乾燥して、重合物21.2gを得た。
化合物の構造確認は、元素分析(N%;found 7.79
%、calcd 7.82%)、NMRスペクトル(−COCH3 δ
2.0ppm ;CH2 =CH−δ5.23ppm 、5.8ppm および6.
8ppm ;−CH2 −O−δ5.0ppm in (CD3)2SO)、赤外吸
収スペクトル等により行なった。 (ジアゾニウム化合物1の合成)攪拌装置、冷却管、窒
素導入管付きの三つ口フラスコに合成例1で合成した重
合性モノマー17.9g(0.0500mol)、メタクリル酸
4.30g(0.0500mol)及びN,N−ジメチルホルム
アミド35gを入れ、内温を65℃に加熱攪拌した。し
ばらく窒素雰囲気下で攪拌を行なった後、α,α′−ア
ゾビスイソブチロニトリル1.23gのN,N′−ジメチ
ルホルムアミド5g溶液を加え、8時間重合を行なっ
た。その後、内容物を2リットルの水の中に注ぎ析出し
た沈殿を濾過、乾燥して、重合物21.2gを得た。
【0031】得られたポリマーを攪拌装置、冷却管付き
の三ッ口フラスコに入れ、エタノール40ml、水40ml
及び濃塩酸20mlを加え、75℃にて6時間攪拌を行な
った。その後、内容物をアセトン1リットル中に注ぎ、
粉末状のポリマーを得た。このポリマーがp−位にアミ
ノ基を有し、アセチルアミノ基が消失していることは、
NMRスペクトル、赤外吸収スペクトルにより確認し
た。
の三ッ口フラスコに入れ、エタノール40ml、水40ml
及び濃塩酸20mlを加え、75℃にて6時間攪拌を行な
った。その後、内容物をアセトン1リットル中に注ぎ、
粉末状のポリマーを得た。このポリマーがp−位にアミ
ノ基を有し、アセチルアミノ基が消失していることは、
NMRスペクトル、赤外吸収スペクトルにより確認し
た。
【0032】次に上記ポリマー、濃塩酸35ml、水16
0mlを攪拌装置および滴下ロート付きの三ツ口フラスコ
に入れ系内の温度を0℃に冷却した。激しく攪拌しなが
ら亜硝酸ナトリウム3.45g(0.0500mol)の水20
ml溶液を系内の温度が5℃を越えないように徐々に滴下
した。その後、内温が5℃を越えないようにしたまま、
さらに1時間攪拌を続けた。反応終了後、一部の不溶解
分を濾去し、濾液をジブチルナフタレンスルホン酸ナト
リウム17.2gの水400ml中に滴下し、析出したポリ
マーを濾取、乾燥してジアゾポリマー(本発明のジアゾ
ニウム化合物(1))を得た。
0mlを攪拌装置および滴下ロート付きの三ツ口フラスコ
に入れ系内の温度を0℃に冷却した。激しく攪拌しなが
ら亜硝酸ナトリウム3.45g(0.0500mol)の水20
ml溶液を系内の温度が5℃を越えないように徐々に滴下
した。その後、内温が5℃を越えないようにしたまま、
さらに1時間攪拌を続けた。反応終了後、一部の不溶解
分を濾去し、濾液をジブチルナフタレンスルホン酸ナト
リウム17.2gの水400ml中に滴下し、析出したポリ
マーを濾取、乾燥してジアゾポリマー(本発明のジアゾ
ニウム化合物(1))を得た。
【0033】得られたジアゾニウム化合物を1−フェニ
ル−3−メチル−5−ピラゾロンとカップリングさせた
後、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下G
PCと略す)にて分子量を測定したところ、重量平均で
6200であった。 (ジアゾニウム化合物2〜13の合成)以下のジアゾニ
ウム化合物2〜13も前記合成例と同様の方法で合成し
た。なお一般式(I)で表されるくり返し単位は表1に
示すように前記具体例(1)〜(7)の物を用いた。
ル−3−メチル−5−ピラゾロンとカップリングさせた
後、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下G
PCと略す)にて分子量を測定したところ、重量平均で
6200であった。 (ジアゾニウム化合物2〜13の合成)以下のジアゾニ
ウム化合物2〜13も前記合成例と同様の方法で合成し
た。なお一般式(I)で表されるくり返し単位は表1に
示すように前記具体例(1)〜(7)の物を用いた。
【0034】 表 1 ──────────────────────────────────── ジアゾ ポリマー中のモノマーの比 ニウム ──────────────────────────── MW 化合物 繰り返し単位(I) 繰り返し単位(II) No. (1) (2) (3) (4) (5) (6) (7) ──────────────────────────────────── 2 45 メタクリル酸 55 5420 3 55 〃 45 6880 4 50 〃 50 6110 5 55 〃 45 7130 6 50 〃 50 5920 7 50 〃 50 5370 8 60 〃 40 8140 9 50 ビニル安息香酸50 5650 10 50 スルホプロピル50 5710 メタクリレート 11 50 スチレンスルホ50 5890 ン酸 12 50 4−ビニルフェ50 6260 ニルリン酸 13 50 4−ビニルフェ50 6130 ニルホスホン酸 ──────────────────────────────────── 次に比較のため以下のジアゾニウム化合物14、15を
合成した。 (ジアゾニウム化合物14の合成)p−ジアゾジフェニ
ルアミン硫酸塩14.5g(50ミリモル)を氷冷下で4
0.9gの濃硫酸に溶解した。この反応液に1.5g(50
ミリモル)のパラホルムアルデヒドをゆっくり滴下し
た。この際、反応温度が10℃を超えないように添加し
ていった。その後、2時間氷冷下かくはんを続けた。
合成した。 (ジアゾニウム化合物14の合成)p−ジアゾジフェニ
ルアミン硫酸塩14.5g(50ミリモル)を氷冷下で4
0.9gの濃硫酸に溶解した。この反応液に1.5g(50
ミリモル)のパラホルムアルデヒドをゆっくり滴下し
た。この際、反応温度が10℃を超えないように添加し
ていった。その後、2時間氷冷下かくはんを続けた。
【0035】この反応混合物を氷冷下、50mlのエタノ
ールに滴下し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗
浄後、この沈殿物を100mlの純水に溶解し、この液に
6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生
じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを15
0mlの純水に溶解した。この液に16.8gのジブチルナ
フタレンスルホン酸ソーダを溶解した冷濃厚水溶液を加
えた。生じた沈殿を濾取し水洗した後、30℃、1昼夜
乾燥してジアゾニウム化合物14を得た。
ールに滴下し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗
浄後、この沈殿物を100mlの純水に溶解し、この液に
6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生
じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを15
0mlの純水に溶解した。この液に16.8gのジブチルナ
フタレンスルホン酸ソーダを溶解した冷濃厚水溶液を加
えた。生じた沈殿を濾取し水洗した後、30℃、1昼夜
乾燥してジアゾニウム化合物14を得た。
【0036】このジアゾニウム化合物14をGPCによ
り分子量を測定したところ、5量体が約50モル%含ま
れていた。 (ジアゾニウム化合物15の合成)p−ヒドロキシ安息
香酸3.5g(0.025モル)および4−ジアゾジフェニ
ルアミン硫酸塩22.0g(0.025モル)を氷冷下で9
0gの濃硫酸に溶解した。この反応液に2.7gのパラホ
ルムアルデヒド(0.09モル)をゆっくり添加した。こ
の際、反応温度が10℃を超えないように添加していっ
た。その後、2時間氷冷下かくはんを続けた。この反応
混合物に氷冷下、11のエタノールに注入し、生じた沈
殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この沈殿物を20
0mlの純水に溶解し、この液に10.5gの塩化亜鉛を溶
解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した後
エタノールで洗浄し、これを300mlの純水に溶解し
た。この液に13.7gのヘキサフルオロリン酸アンモニ
ウムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾
別し水洗した後、30℃、1昼夜乾燥してジアゾニウム
化合物15を得た。
り分子量を測定したところ、5量体が約50モル%含ま
れていた。 (ジアゾニウム化合物15の合成)p−ヒドロキシ安息
香酸3.5g(0.025モル)および4−ジアゾジフェニ
ルアミン硫酸塩22.0g(0.025モル)を氷冷下で9
0gの濃硫酸に溶解した。この反応液に2.7gのパラホ
ルムアルデヒド(0.09モル)をゆっくり添加した。こ
の際、反応温度が10℃を超えないように添加していっ
た。その後、2時間氷冷下かくはんを続けた。この反応
混合物に氷冷下、11のエタノールに注入し、生じた沈
殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この沈殿物を20
0mlの純水に溶解し、この液に10.5gの塩化亜鉛を溶
解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した後
エタノールで洗浄し、これを300mlの純水に溶解し
た。この液に13.7gのヘキサフルオロリン酸アンモニ
ウムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾
別し水洗した後、30℃、1昼夜乾燥してジアゾニウム
化合物15を得た。
【0037】このジアゾニウム化合物15をGPCによ
り分子量を測定したところ、重量平均分子量で約180
0であった。本発明に使用するジアゾニウム化合物は感
光性組成物の固形分中に通常1〜70重量%、好ましく
は3〜40重量%含有させる。本発明の感光層中にはさ
らに、本発明のジアゾニウム化合物以外に重縮合によっ
て合成された従来型のジアゾニウム化合物を全ジアゾニ
ウム化合物重量に対して0〜50重量%添加してもよ
い。
り分子量を測定したところ、重量平均分子量で約180
0であった。本発明に使用するジアゾニウム化合物は感
光性組成物の固形分中に通常1〜70重量%、好ましく
は3〜40重量%含有させる。本発明の感光層中にはさ
らに、本発明のジアゾニウム化合物以外に重縮合によっ
て合成された従来型のジアゾニウム化合物を全ジアゾニ
ウム化合物重量に対して0〜50重量%添加してもよ
い。
【0038】次に、本発明に係る感光材料において、上
記ジアゾニウム化合物とともに感光性層中に含有される
親油性高分子化合物について説明する。この親油性高分
子化合物は、感光性組成物を構成する際のバインダーと
して機能できるものである。本発明において、感光性層
には、酸価20から250の親油性高分子化合物が含有
される。
記ジアゾニウム化合物とともに感光性層中に含有される
親油性高分子化合物について説明する。この親油性高分
子化合物は、感光性組成物を構成する際のバインダーと
して機能できるものである。本発明において、感光性層
には、酸価20から250の親油性高分子化合物が含有
される。
【0039】本発明において親油性高分子化合物の酸価
とは、その高分子化合物1gを中和するのに必要な水酸
化カリウムのmg数である。酸価は次のように測定するこ
とができる。試料をメチルセロソルブで50倍に希釈
し、0.1規定の水酸化カリウム水溶液で滴定する。この
時、中和点はpHメーターを用いて求めたpH曲線の変曲点
とする。この中和点に至るまでに要する水酸化カリウム
水溶液の量から、上記酸価を算出する。
とは、その高分子化合物1gを中和するのに必要な水酸
化カリウムのmg数である。酸価は次のように測定するこ
とができる。試料をメチルセロソルブで50倍に希釈
し、0.1規定の水酸化カリウム水溶液で滴定する。この
時、中和点はpHメーターを用いて求めたpH曲線の変曲点
とする。この中和点に至るまでに要する水酸化カリウム
水溶液の量から、上記酸価を算出する。
【0040】本発明の親油性高分子化合物としては、酸
価20以上250未満で下記(1)〜(14)に示す群
より選ばれたモノマーをその構造単位とする共重合体が
挙げられる。 (1)芳香属水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル類及びヒドロキシスチレン類、例えばN−(4−ヒ
ドロキシフェニル)アクリルアミド又はN−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、p−
ヒドロキシフェニルアクリレート又はメタクリレート、
o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、(2)m−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(p
−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等の不飽和ス
ルホンアミド、(3)脂肪族水酸基を有するアクリル酸
エステル類、およびメタクリル酸エステル類、例えば2
−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、(4)アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸、(5)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、アクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アクリレート、
(6)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)メタクリレート、(7)アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メ
チロールメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミ
ド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシ
ルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミ
ド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニル
アクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルア
ミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド類、
(8)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、(9)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテー
ト、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエス
テル類、(10)スチレン、メチルスチレン、クロロメチ
ルスチレン等のスチレン類、(11)メチルビニルケト
ン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェ
ニルビニルケトン等のビニルケトン類、(12)エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のオレフィン類、(13)N−ビニルピロリドン、N
−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル等、(14)マレイミド、
N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタク
リルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−
(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和
イミド。
価20以上250未満で下記(1)〜(14)に示す群
より選ばれたモノマーをその構造単位とする共重合体が
挙げられる。 (1)芳香属水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル類及びヒドロキシスチレン類、例えばN−(4−ヒ
ドロキシフェニル)アクリルアミド又はN−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、p−
ヒドロキシフェニルアクリレート又はメタクリレート、
o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、(2)m−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(p
−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等の不飽和ス
ルホンアミド、(3)脂肪族水酸基を有するアクリル酸
エステル類、およびメタクリル酸エステル類、例えば2
−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、(4)アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸、(5)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、アクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アクリレート、
(6)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)メタクリレート、(7)アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メ
チロールメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミ
ド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシ
ルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミ
ド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニル
アクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルア
ミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド類、
(8)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、(9)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテー
ト、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエス
テル類、(10)スチレン、メチルスチレン、クロロメチ
ルスチレン等のスチレン類、(11)メチルビニルケト
ン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェ
ニルビニルケトン等のビニルケトン類、(12)エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のオレフィン類、(13)N−ビニルピロリドン、N
−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル等、(14)マレイミド、
N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタク
リルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−
(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和
イミド。
【0041】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルメタク
リレート、グリシジルアクリレート等によって修飾した
ものも含まれるがこれらに限られるものではない。特に
好適な高分子化合物としては、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸又はマレイン酸を必須成分として含む共
重合体、例えば特開昭50−118802号公報に記載
されているような2−ヒドロキシエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリロニト
リル又はメタクリロニトリル、アクリル酸又はメタクリ
ル酸及び必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多
元共重合体、特開昭53−120903号公報に記載さ
れているような末端がヒドロキシ基であり、かつジカル
ボン酸エステル残基を含む基でエステル化されたアクリ
ル酸又はメタクリル酸、アクリル酸、又はメタクリル酸
及び必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共
重合体、特開昭54−98614号公報に記載されてい
るような芳香族性水酸基を有する単量体(例えば、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドなど)、
アクリル酸又はメタクリル酸及び必要に応じて他の共重
合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭56−41
44号公報に記載されているようなアルキルアクリレー
ト、アクリロニトリル又はメタクリロニトリル及び不飽
和カルボン酸よりなる多元共重合体、EP−33023
9(A2)に記載されているスルホンアミド基を有する
多元共重合体を挙げることが出来る。
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルメタク
リレート、グリシジルアクリレート等によって修飾した
ものも含まれるがこれらに限られるものではない。特に
好適な高分子化合物としては、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸又はマレイン酸を必須成分として含む共
重合体、例えば特開昭50−118802号公報に記載
されているような2−ヒドロキシエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリロニト
リル又はメタクリロニトリル、アクリル酸又はメタクリ
ル酸及び必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多
元共重合体、特開昭53−120903号公報に記載さ
れているような末端がヒドロキシ基であり、かつジカル
ボン酸エステル残基を含む基でエステル化されたアクリ
ル酸又はメタクリル酸、アクリル酸、又はメタクリル酸
及び必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共
重合体、特開昭54−98614号公報に記載されてい
るような芳香族性水酸基を有する単量体(例えば、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドなど)、
アクリル酸又はメタクリル酸及び必要に応じて他の共重
合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭56−41
44号公報に記載されているようなアルキルアクリレー
ト、アクリロニトリル又はメタクリロニトリル及び不飽
和カルボン酸よりなる多元共重合体、EP−33023
9(A2)に記載されているスルホンアミド基を有する
多元共重合体を挙げることが出来る。
【0042】上記共重合体には(4)に掲げた不飽和カ
ルボン酸を含有することが好ましい。上記共重合体の好
ましい分子量は1〜15万である。また、好適に用いら
れる高分子化合物としてポリウレタンをアルカリ可溶化
した特公昭54−19773号、特開昭57−9474
7号、同60−182437号、同62−58242
号、同62−123452号、同62−123453
号、同63−113450号、特開平2−146042
号に記載の高分子化合物も有用である。
ルボン酸を含有することが好ましい。上記共重合体の好
ましい分子量は1〜15万である。また、好適に用いら
れる高分子化合物としてポリウレタンをアルカリ可溶化
した特公昭54−19773号、特開昭57−9474
7号、同60−182437号、同62−58242
号、同62−123452号、同62−123453
号、同63−113450号、特開平2−146042
号に記載の高分子化合物も有用である。
【0043】このような高分子化合物を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えばエチレンジクロリド、シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタ
ノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−
メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパ
ノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド、トルエン、酢酸エチル、乳
酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。
いられる溶媒としては、例えばエチレンジクロリド、シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタ
ノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−
メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパ
ノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド、トルエン、酢酸エチル、乳
酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。
【0044】これらの親油性高分子化合物は、単独で用
いてもよく、混合して用いてもよい。 高分子化合物は
感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量%、好ま
しくは50〜95重量%含有させる。また必要に応じ
て、さらにポリビニルブチラール樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加
してもよい。
いてもよく、混合して用いてもよい。 高分子化合物は
感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量%、好ま
しくは50〜95重量%含有させる。また必要に応じ
て、さらにポリビニルブチラール樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加
してもよい。
【0045】次に、上記の親油性高分子化合物の合成例
を示す。 (親油性高分子化合物1の合成)攪拌機、冷却管、滴下
ロートを備えた1リットル三ツ口フラスコに4−アミノ
ベンゼンスルホンアミド170.2g(1.0mol)及びテト
ラヒドロフラン700mlを入れ、氷水浴下攪拌した。こ
の混合物にメタクリル酸クロリド52.3g(0.5mol)を
約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後
氷水浴をとり去り、30分間室温下で攪拌し、さらに、
オイルバスを用いて60℃に加熱しながら1時間攪拌し
た。反応終了後、この反応混合物を水3リットルに攪拌
下投入し、30分間攪拌した後、濾過する事によりN−
(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの
白色固体が得られた。この白色固体は、エタノール−ア
セトンの混合溶媒より再結晶することにより精製する事
ができる(収量39.3g)。
を示す。 (親油性高分子化合物1の合成)攪拌機、冷却管、滴下
ロートを備えた1リットル三ツ口フラスコに4−アミノ
ベンゼンスルホンアミド170.2g(1.0mol)及びテト
ラヒドロフラン700mlを入れ、氷水浴下攪拌した。こ
の混合物にメタクリル酸クロリド52.3g(0.5mol)を
約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後
氷水浴をとり去り、30分間室温下で攪拌し、さらに、
オイルバスを用いて60℃に加熱しながら1時間攪拌し
た。反応終了後、この反応混合物を水3リットルに攪拌
下投入し、30分間攪拌した後、濾過する事によりN−
(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの
白色固体が得られた。この白色固体は、エタノール−ア
セトンの混合溶媒より再結晶することにより精製する事
ができる(収量39.3g)。
【0046】次に、N−(4−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド8.47g(0.0350mol)、アク
リロニトリル2.55g(0.0480mol)、メタクリル酸
3.01g(0.0350mol)、ベンジルアクリレート13.
28g(0.0820mol)、α,α′−アゾビスイソブチ
ロニトリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド
25gを、攪拌機、冷却管を備えた100ml三つ口フラ
スコに入れ、64℃に暖めながら5時間攪拌した。この
反応混合物を水2リットルに攪拌下投入し、30分間攪
拌後濾過、乾燥することにより、22gの親油性高分子
化合物1が得られた。
ル)メタクリルアミド8.47g(0.0350mol)、アク
リロニトリル2.55g(0.0480mol)、メタクリル酸
3.01g(0.0350mol)、ベンジルアクリレート13.
28g(0.0820mol)、α,α′−アゾビスイソブチ
ロニトリル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド
25gを、攪拌機、冷却管を備えた100ml三つ口フラ
スコに入れ、64℃に暖めながら5時間攪拌した。この
反応混合物を水2リットルに攪拌下投入し、30分間攪
拌後濾過、乾燥することにより、22gの親油性高分子
化合物1が得られた。
【0047】この高分子化合物1の酸価は143、GP
Cによる重量平均分子量は32,000であった。 (親油性高分子化合物2の合成)N−(4−アミノスル
ホニルフェニル)アクリルアミド5.45g(0.0240
mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート6.25g
(0.0480mol)、メタクリル酸2.06g(0.0240
mol)、エチルアクリレート10.4g(0.104mol)、
α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.41g及び
N,N−ジメチルホルムアミド29gを、攪拌機、冷却
管を備えた100ml三つ口フラスコに入れ、64℃に暖
めながら5時間攪拌した。この反応混合物を水2リット
ルに攪拌下投入し、30分間攪拌後濾過、乾燥する事に
より、19gの親油性高分子化合物2が得られた。
Cによる重量平均分子量は32,000であった。 (親油性高分子化合物2の合成)N−(4−アミノスル
ホニルフェニル)アクリルアミド5.45g(0.0240
mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート6.25g
(0.0480mol)、メタクリル酸2.06g(0.0240
mol)、エチルアクリレート10.4g(0.104mol)、
α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.41g及び
N,N−ジメチルホルムアミド29gを、攪拌機、冷却
管を備えた100ml三つ口フラスコに入れ、64℃に暖
めながら5時間攪拌した。この反応混合物を水2リット
ルに攪拌下投入し、30分間攪拌後濾過、乾燥する事に
より、19gの親油性高分子化合物2が得られた。
【0048】この高分子化合物2の酸価は111であ
り、GPCによる重量平均分子量は27,000であっ
た。 (親油性高分子化合物3の合成)N−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタクリルアミド39g、アクリロニトリル
13g、ベンジルアクリレート51.8g、メタクリル酸
18.9gおよびアゾビスイソブチロニトリル1.642g
をアセトン−メタノール1:1混合溶液112mlに溶解
し、窒素置換した後60℃で8時間加熱した。
り、GPCによる重量平均分子量は27,000であっ
た。 (親油性高分子化合物3の合成)N−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタクリルアミド39g、アクリロニトリル
13g、ベンジルアクリレート51.8g、メタクリル酸
18.9gおよびアゾビスイソブチロニトリル1.642g
をアセトン−メタノール1:1混合溶液112mlに溶解
し、窒素置換した後60℃で8時間加熱した。
【0049】反応終了後、反応液を水5リットルに攪拌
下注ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して親油性高分子化
合物3を99g得た。この高分子化合物3の酸価は17
5、重量平均分子量は65,000であった。 (親油性高分子化合物4の合成)アクリロニトリル4.0
0g(0.0754mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート10.0g(0.0768mol)、メタクリル酸1.00
g(0.0116mol)、エチルメタクリレート5.00g
(0.0438mol)、α,α′−アゾビスイソブチロニト
リル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド29g
を、攪拌機、冷却管を備えた100ml三つ口フラスコに
入れ、64℃に暖めながら5時間攪拌した。この反応混
合物を水2リットルに攪拌下投入し、30分間攪拌後濾
過、乾燥する事により、19gの親油性高分子化合物4
が得られた。
下注ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して親油性高分子化
合物3を99g得た。この高分子化合物3の酸価は17
5、重量平均分子量は65,000であった。 (親油性高分子化合物4の合成)アクリロニトリル4.0
0g(0.0754mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート10.0g(0.0768mol)、メタクリル酸1.00
g(0.0116mol)、エチルメタクリレート5.00g
(0.0438mol)、α,α′−アゾビスイソブチロニト
リル0.41g及びN,N−ジメチルホルムアミド29g
を、攪拌機、冷却管を備えた100ml三つ口フラスコに
入れ、64℃に暖めながら5時間攪拌した。この反応混
合物を水2リットルに攪拌下投入し、30分間攪拌後濾
過、乾燥する事により、19gの親油性高分子化合物4
が得られた。
【0050】この高分子化合物4の酸価は32であり,
GPCによる重量平均分子量は33,000であった。 (親油性高分子化合物5の合成)N−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタクリルアミド2.00g(0.0113mo
l)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート4.00g(0.
0307mol)、メタクリル酸2.00g(0.0230mo
l)、メチルメタクリレート7.00g(0.069mol)、ア
クリロニトリル5.00g(0.0942mol)、α,α′−
アゾビスイソブチロニトリル0.41g及びN,N−ジメ
チルホルムアミド29gを、攪拌機、冷却管を備えた1
00ml三つ口フラスコに入れ、64℃に暖めながら5時
間攪拌した。この反応混合物を水2リットルに攪拌下投
入し、30分間攪拌後濾過、乾燥する事により、18g
の親油性高分子化合物5が得られた。
GPCによる重量平均分子量は33,000であった。 (親油性高分子化合物5の合成)N−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタクリルアミド2.00g(0.0113mo
l)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート4.00g(0.
0307mol)、メタクリル酸2.00g(0.0230mo
l)、メチルメタクリレート7.00g(0.069mol)、ア
クリロニトリル5.00g(0.0942mol)、α,α′−
アゾビスイソブチロニトリル0.41g及びN,N−ジメ
チルホルムアミド29gを、攪拌機、冷却管を備えた1
00ml三つ口フラスコに入れ、64℃に暖めながら5時
間攪拌した。この反応混合物を水2リットルに攪拌下投
入し、30分間攪拌後濾過、乾燥する事により、18g
の親油性高分子化合物5が得られた。
【0051】この高分子化合物5の酸価は65であり、
GPCによる重量平均分子量は48,000であった。次
に比較のために以下の親油性高分子化合物を合成した。 (親油性高分子化合物6の合成)高分子化合物4の合成
においてモノマー成分の仕込量をアクリロニトリル2.1
2g(0.040mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート13.00g(0.100mol)、エチルメタクリレート
6.61g(0.058mol)、メタクリル酸0.17g(0.0
02mol)とした以外は高分子化合物4と同様にして17.
5gの親油性高分子化合物6を得た。この高分子化合物
の酸価は6.5であり重量平均分子量は35,000であっ
た。 (親油性高分子化合物7の合成)高分子化合物1の合成
においてモノマー成分の仕込量をN−(4−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド14.4g(0.060
mol)、アクリロニトリル1.86g(0.035mol)、メタ
クリル酸6.02g(0.070mol)、ベンジルアクリレー
ト5.67g(0.035mol)とした以外は高分子化合物1
と同様にして24.2gの親油性高分子化合物7を得た。
この高分子化合物の酸価は260であり重量平均分子量
は27,000であった。
GPCによる重量平均分子量は48,000であった。次
に比較のために以下の親油性高分子化合物を合成した。 (親油性高分子化合物6の合成)高分子化合物4の合成
においてモノマー成分の仕込量をアクリロニトリル2.1
2g(0.040mol)、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート13.00g(0.100mol)、エチルメタクリレート
6.61g(0.058mol)、メタクリル酸0.17g(0.0
02mol)とした以外は高分子化合物4と同様にして17.
5gの親油性高分子化合物6を得た。この高分子化合物
の酸価は6.5であり重量平均分子量は35,000であっ
た。 (親油性高分子化合物7の合成)高分子化合物1の合成
においてモノマー成分の仕込量をN−(4−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド14.4g(0.060
mol)、アクリロニトリル1.86g(0.035mol)、メタ
クリル酸6.02g(0.070mol)、ベンジルアクリレー
ト5.67g(0.035mol)とした以外は高分子化合物1
と同様にして24.2gの親油性高分子化合物7を得た。
この高分子化合物の酸価は260であり重量平均分子量
は27,000であった。
【0052】本発明の感光性組成物には、さらに色素を
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。該色素としては、フリーラジカルま
たは酸と反応して色調を変化するものが好ましく使用で
きる。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の
色調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調
への変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩
を形成して色調を変化するものである。
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。該色素としては、フリーラジカルま
たは酸と反応して色調を変化するものが好ましく使用で
きる。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の
色調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調
への変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩
を形成して色調を変化するものである。
【0053】例えば、ビクトリアピュアブルーBOH
〔保土谷化学社製〕、オイルブルー#603(オリエン
ト化学工業社製〕、パテントピュアブルー〔住友三国化
学社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリ
ーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチ
ルグリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マ
ラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールバー
ブル、、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチル
アミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチ
ルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフ
ェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、
キサンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメテン系ま
たはアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異
なる有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられ
る。
〔保土谷化学社製〕、オイルブルー#603(オリエン
ト化学工業社製〕、パテントピュアブルー〔住友三国化
学社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリ
ーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチ
ルグリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マ
ラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールバー
ブル、、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチル
アミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチ
ルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフ
ェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、
キサンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメテン系ま
たはアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異
なる有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられ
る。
【0054】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、P,P′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジ−アニリノエチレン、P,
P′,P″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタ
ン、P,P′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチル
イミン、P,P′,P″−トリアミノ−o−メチルトリ
フェニルメタン、P,P′−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニル−4−アニリノナフチルメタン、P,P′,P″
−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級ま
たは第2級アリールアミン系色素が挙げられる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、P,P′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジ−アニリノエチレン、P,
P′,P″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタ
ン、P,P′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチル
イミン、P,P′,P″−トリアミノ−o−メチルトリ
フェニルメタン、P,P′−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニル−4−アニリノナフチルメタン、P,P′,P″
−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級ま
たは第2級アリールアミン系色素が挙げられる。
【0055】特に好ましくはトリフェニルメタン系、ジ
フェニルメタン系色素が有効に用いられ、さらに好まし
くはトリフェニルメタン系色素であり、特にビクトリア
ピュアブルーBOHである。上記色素は、感光性組成物
中に通常約0.5〜約10重量%が好ましくより好ましく
は約1〜5重量%含有させる。
フェニルメタン系色素が有効に用いられ、さらに好まし
くはトリフェニルメタン系色素であり、特にビクトリア
ピュアブルーBOHである。上記色素は、感光性組成物
中に通常約0.5〜約10重量%が好ましくより好ましく
は約1〜5重量%含有させる。
【0056】本発明の感光性組成物には、更に種々の添
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニオ
ン系界面活性剤(特にフッ素系界面活性剤が好まし
い)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤
(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で
特にリン酸トリクレジルが好ましい)、画像部の感脂性
を向上させるための感脂化剤(例えば特開昭55−52
7号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のア
ルコールによるハーフエステル化物、p−t−ブチルフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹
脂、p−ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸エステル
等)、安定剤{例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸(ク
エン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、4−メ
トキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸、酒石酸)}、現像促進剤(例えば高級アルコール、
酸無水物等)等が好ましく用いられる。
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニオ
ン系界面活性剤(特にフッ素系界面活性剤が好まし
い)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤
(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で
特にリン酸トリクレジルが好ましい)、画像部の感脂性
を向上させるための感脂化剤(例えば特開昭55−52
7号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のア
ルコールによるハーフエステル化物、p−t−ブチルフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹
脂、p−ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸エステル
等)、安定剤{例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸(ク
エン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、4−メ
トキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸、酒石酸)}、現像促進剤(例えば高級アルコール、
酸無水物等)等が好ましく用いられる。
【0057】これらの添加剤の添加量は使用対象、目的
によって異なるが、一般に全固形分に対して、0.01〜
30重量%である。上述の感光性組成物を支持体上に設
けるには、感光性ジアゾニウム化合物、親油性高分子化
合物、及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な
溶媒(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ
−2−プロパノール、メチルセロソルブアセテート、ア
セトン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノ
ン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳
酸エチル、エチレンジクロライド、ジメチルスルホキシ
ド、水またはこれらの混合物等)中に溶解させ感光性組
成物の塗布液を調整し、これを支持体上に塗布、乾燥す
ればよい。
によって異なるが、一般に全固形分に対して、0.01〜
30重量%である。上述の感光性組成物を支持体上に設
けるには、感光性ジアゾニウム化合物、親油性高分子化
合物、及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な
溶媒(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ
−2−プロパノール、メチルセロソルブアセテート、ア
セトン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノ
ン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳
酸エチル、エチレンジクロライド、ジメチルスルホキシ
ド、水またはこれらの混合物等)中に溶解させ感光性組
成物の塗布液を調整し、これを支持体上に塗布、乾燥す
ればよい。
【0058】用いられる溶媒は単独でもよいが、メチル
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メ
チルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチル
ケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好
ましい。塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。この場合、感
光性組成物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m2
(乾燥重量)程度とすればよくさらに好ましくは、0.5
〜3g/m2 とするとよい。
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メ
チルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチル
ケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好
ましい。塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。この場合、感
光性組成物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m2
(乾燥重量)程度とすればよくさらに好ましくは、0.5
〜3g/m2 とするとよい。
【0059】このような感光性組成物を、適当な支持体
上に塗設して感光性平版印刷版とする。このような支持
体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)ラミネート紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチックの
フィルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着さ
れた紙もしくはプラスチックフィルム、アルミニウムも
しくはクロームメッキが施された銅版等が挙げられ、こ
れらのうち特に、アルミニウム及びアルミニウム被覆さ
れた複合支持体が好ましい。
上に塗設して感光性平版印刷版とする。このような支持
体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)ラミネート紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチックの
フィルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着さ
れた紙もしくはプラスチックフィルム、アルミニウムも
しくはクロームメッキが施された銅版等が挙げられ、こ
れらのうち特に、アルミニウム及びアルミニウム被覆さ
れた複合支持体が好ましい。
【0060】好ましく用いられるアルミニウム板の厚み
は、0.1mm〜0.6mmである。尚、本発明の感光性平版印
刷版は、片面のみ使用できるものであっても、両面とも
同様な処理によって使用できるものであってもよい。以
下は片面の場合に限って説明するが、両面使用できる感
光性平版印刷版を作製する場合は同様な処理を両面に施
せばよい。
は、0.1mm〜0.6mmである。尚、本発明の感光性平版印
刷版は、片面のみ使用できるものであっても、両面とも
同様な処理によって使用できるものであってもよい。以
下は片面の場合に限って説明するが、両面使用できる感
光性平版印刷版を作製する場合は同様な処理を両面に施
せばよい。
【0061】アルミニウム材の表面は、保水性を高め、
感光層との密着性を向上させる目的で表面処理されてい
ることが望ましい。例えば、粗面化方法として、一般に
公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、
化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等
の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好ましくはブ
ラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング及び液
体ホーニングが挙げられ、これらのうちで、特に電解エ
ッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さらに、
特開昭54−63902号に1載されているようにブラ
シ研磨した後、電解エッチングする方法も好ましい。
感光層との密着性を向上させる目的で表面処理されてい
ることが望ましい。例えば、粗面化方法として、一般に
公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、
化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等
の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好ましくはブ
ラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング及び液
体ホーニングが挙げられ、これらのうちで、特に電解エ
ッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さらに、
特開昭54−63902号に1載されているようにブラ
シ研磨した後、電解エッチングする方法も好ましい。
【0062】また、電解エッチングの際に用いられる電
解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水
溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。
解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水
溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。
【0063】こうして得られたアルミニウム板は、陽極
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙げられる。ま
た、更に必要に応じて米国特許第2,714,066号明細
書や米国特許第3,181,461号明細書に記載されてい
る珪酸塩処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウ
ム)、米国特許第2,946,638号明細書に記載されて
いる弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,2
01,247号明細書に記載されているホスホモリブデー
ト処理、英国特許第1,108,559号に記載されている
アルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号
明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許
第1,134,093号明細書や英国特許第1,230,447
号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、
特公昭44−6409号公報に記載されているホスホン
酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載され
ているフイチン酸処理、または特開昭58−16893
号や特開昭58−18291号の各公報に記載されてい
る親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処
理等が好ましく用いられる。
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙げられる。ま
た、更に必要に応じて米国特許第2,714,066号明細
書や米国特許第3,181,461号明細書に記載されてい
る珪酸塩処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウ
ム)、米国特許第2,946,638号明細書に記載されて
いる弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,2
01,247号明細書に記載されているホスホモリブデー
ト処理、英国特許第1,108,559号に記載されている
アルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号
明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許
第1,134,093号明細書や英国特許第1,230,447
号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、
特公昭44−6409号公報に記載されているホスホン
酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載され
ているフイチン酸処理、または特開昭58−16893
号や特開昭58−18291号の各公報に記載されてい
る親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処
理等が好ましく用いられる。
【0064】その他の親水化処理方法としては米国特許
第3,658,662号明細書に記載されているシリケート
電着をも挙げることができる。また、砂目立て処理及び
陽極酸化後、封孔処理を施したものも好ましい。かかる
封孔処理は熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液
への浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。
第3,658,662号明細書に記載されているシリケート
電着をも挙げることができる。また、砂目立て処理及び
陽極酸化後、封孔処理を施したものも好ましい。かかる
封孔処理は熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液
への浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。
【0065】本発明に用いられるのに、適した支持体に
ついてさらに詳しくいうと鉄を0.1〜0.5%、ケイ素を
0.03〜0.3%、銅を0.001〜0.03%、更にチタン
を0.002〜0.1%含有する1Sアルミ板を、アルカリ
好ましくは、1〜30%の水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の水溶液
に、20〜80℃の温度で5秒〜250秒間浸漬してエ
ッチングする。エッチング浴には、アルミをアルカリの
5分の1程度加えても良い。ついで、10〜30%硝酸
または硫酸水溶液に20〜70℃の温度で5秒〜250
秒間浸漬して、アルカリエッチング後の中和及びスマッ
ト除去を行う。
ついてさらに詳しくいうと鉄を0.1〜0.5%、ケイ素を
0.03〜0.3%、銅を0.001〜0.03%、更にチタン
を0.002〜0.1%含有する1Sアルミ板を、アルカリ
好ましくは、1〜30%の水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の水溶液
に、20〜80℃の温度で5秒〜250秒間浸漬してエ
ッチングする。エッチング浴には、アルミをアルカリの
5分の1程度加えても良い。ついで、10〜30%硝酸
または硫酸水溶液に20〜70℃の温度で5秒〜250
秒間浸漬して、アルカリエッチング後の中和及びスマッ
ト除去を行う。
【0066】このアルミニウム合金板の表面清浄化後、
以下に示す粗面化処理が行われる。粗面化処理として
は、ブラシ研磨または/および電解エッチング処理が適
している。ブラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロ
ンブラシとを用いるのが好ましく平均表面粗さは0.25
〜0.9μが好ましい。
以下に示す粗面化処理が行われる。粗面化処理として
は、ブラシ研磨または/および電解エッチング処理が適
している。ブラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロ
ンブラシとを用いるのが好ましく平均表面粗さは0.25
〜0.9μが好ましい。
【0067】電解エッチング処理に使用される電解液は
塩酸、または硝酸の水溶液であり、濃度は0.01〜3重
量%の範囲で使用することが好ましく、0.05〜2.5重
量%であれば更に好ましい。また、この電解液には必要
に応じて硝酸塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、
アルデヒド類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸ア
ンモニウム塩等の腐蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目
の均一化剤などを加えることが出来る。また電解液中に
は、適当量(1〜10g/l)のアルミニウムイオンを
含んでいてもよい。
塩酸、または硝酸の水溶液であり、濃度は0.01〜3重
量%の範囲で使用することが好ましく、0.05〜2.5重
量%であれば更に好ましい。また、この電解液には必要
に応じて硝酸塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、
アルデヒド類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸ア
ンモニウム塩等の腐蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目
の均一化剤などを加えることが出来る。また電解液中に
は、適当量(1〜10g/l)のアルミニウムイオンを
含んでいてもよい。
【0068】電解液の温度は通常10〜60℃で処理さ
れる。この際に使用される交流電流は、正負の極性が交
互に交換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波
いずれのものも用いることができ、通常の商用交流の単
相及び三相交流電流を用いることができる。また電流密
度は、5〜100A/dm2 で、10〜300秒間処理
することが望ましい。
れる。この際に使用される交流電流は、正負の極性が交
互に交換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波
いずれのものも用いることができ、通常の商用交流の単
相及び三相交流電流を用いることができる。また電流密
度は、5〜100A/dm2 で、10〜300秒間処理
することが望ましい。
【0069】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μmと
する。このように砂目立だてされたアルミニウム合金
は、10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なア
ルカリ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したス
マットが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した
場合は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に
浸漬して中和する。
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μmと
する。このように砂目立だてされたアルミニウム合金
は、10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なア
ルカリ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したス
マットが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した
場合は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に
浸漬して中和する。
【0070】表面のスマット除去を行った後、陽極酸化
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることが出来るが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それに次いで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用で
ある。
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることが出来るが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それに次いで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用で
ある。
【0071】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2 の酸化
皮膜が設けられる。この電解液には、アルミニウムイオ
ンが含まれている方が好ましい。さらにこのときの電流
密度は1〜20A/dm2 が好ましい。
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2 の酸化
皮膜が設けられる。この電解液には、アルミニウムイオ
ンが含まれている方が好ましい。さらにこのときの電流
密度は1〜20A/dm2 が好ましい。
【0072】リン酸法の場合には、5〜50%の濃度、
30〜60℃の温度で、10〜30秒間、1〜15A/
dm2 の電流密度で処理される。このようにして処理さ
れたアルミニウム支持体には、さらに米国特許第2,71
4,066号明細書に記載されたようなシリケート類によ
る表面処理を行うのが望ましい。なおアルミニウム支持
体の裏面には、現像時のアルミニウムの陽極酸化皮膜の
溶出を抑えるため、および重ねた場合の感光層の傷付き
をふせぐための有機高分子化合物からなる被覆層(以後
この被覆層をバックコート層と称す)が設けられてもよ
い。バックコートの素材としては、特願平2−3271
11に記載されているようなアルカリ性現像液に不溶の
有機高分子化合物が用いられる。バックコート層の厚さ
は基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出
を抑えられる厚さがあればよく、0.01〜50μmの範
囲が好ましく、より好ましくは0.05〜10μmが好ま
しい。バックコート層をアルミニウム支持体の裏面に被
覆する方法としては種ゝの方法が適用できるが、上記の
塗布量を確保する上で最も好ましいのは溶液にして塗
布、乾燥する方法である。
30〜60℃の温度で、10〜30秒間、1〜15A/
dm2 の電流密度で処理される。このようにして処理さ
れたアルミニウム支持体には、さらに米国特許第2,71
4,066号明細書に記載されたようなシリケート類によ
る表面処理を行うのが望ましい。なおアルミニウム支持
体の裏面には、現像時のアルミニウムの陽極酸化皮膜の
溶出を抑えるため、および重ねた場合の感光層の傷付き
をふせぐための有機高分子化合物からなる被覆層(以後
この被覆層をバックコート層と称す)が設けられてもよ
い。バックコートの素材としては、特願平2−3271
11に記載されているようなアルカリ性現像液に不溶の
有機高分子化合物が用いられる。バックコート層の厚さ
は基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出
を抑えられる厚さがあればよく、0.01〜50μmの範
囲が好ましく、より好ましくは0.05〜10μmが好ま
しい。バックコート層をアルミニウム支持体の裏面に被
覆する方法としては種ゝの方法が適用できるが、上記の
塗布量を確保する上で最も好ましいのは溶液にして塗
布、乾燥する方法である。
【0073】さらに支持体表面に下記のような化合物の
下塗りを行うのも好ましい。下塗りに用いられる化合物
としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン
酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、
置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン
酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリ
セロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンや
β−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノール
アミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの
塩酸塩、特開昭59−101651号公報に記載されて
いるスルホン酸基を有する水溶性重合体、及び特開昭6
0−64352号公報に記載されている酸性染料等が好
ましく用いられる。
下塗りを行うのも好ましい。下塗りに用いられる化合物
としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン
酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、
置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン
酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリ
セロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンや
β−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノール
アミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの
塩酸塩、特開昭59−101651号公報に記載されて
いるスルホン酸基を有する水溶性重合体、及び特開昭6
0−64352号公報に記載されている酸性染料等が好
ましく用いられる。
【0074】この下塗層は、水、メタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどもしくはそれらの混合溶剤
に上記の化合物を溶解させ支持体上に塗布、乾燥して設
けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再現
性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗
層の乾燥後の被覆量は2〜200mg/m2 が適当であ
り、好ましくは5〜100mg/m2である。
ル、メチルエチルケトンなどもしくはそれらの混合溶剤
に上記の化合物を溶解させ支持体上に塗布、乾燥して設
けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再現
性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗
層の乾燥後の被覆量は2〜200mg/m2 が適当であ
り、好ましくは5〜100mg/m2である。
【0075】さらに塗布された感光層上には相互に独立
して設けられた突起物により構成されるマット層がある
のが好ましい。マット層の目的は密着露光におけるネガ
画像フィルムと感光性平板印刷版との真空密着性を改良
することにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不
良による露光時の微小網点のつぶれを防止することであ
る。
して設けられた突起物により構成されるマット層がある
のが好ましい。マット層の目的は密着露光におけるネガ
画像フィルムと感光性平板印刷版との真空密着性を改良
することにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不
良による露光時の微小網点のつぶれを防止することであ
る。
【0076】マット層の塗布方法としては、特開昭55
−12974号に記載されているパウダリングされた固
体粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号
に記載されているポリマー含有水をスプレーして乾燥さ
せる方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自
体が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に
溶解するか、あるいはこれにより除去可能な物が望まし
い。
−12974号に記載されているパウダリングされた固
体粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号
に記載されているポリマー含有水をスプレーして乾燥さ
せる方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自
体が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に
溶解するか、あるいはこれにより除去可能な物が望まし
い。
【0077】支持体上に塗布された本発明の感光性組成
物は線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光
し、ついで水性アルカリ現像液で現像することにより、
原価に対してネガのレリーフ像を与える。本発明にかか
る感光性印刷版の現像処理に用いられる現像液は公知の
いずれであってもよいが、好ましくは以下のものがよ
い。
物は線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光
し、ついで水性アルカリ現像液で現像することにより、
原価に対してネガのレリーフ像を与える。本発明にかか
る感光性印刷版の現像処理に用いられる現像液は公知の
いずれであってもよいが、好ましくは以下のものがよ
い。
【0078】例えば、現像液は少なくとも1種のアルカ
リ剤と、水とを必須成分として含有する。現像液中に必
須成分として含有されるアルカリ剤としては、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、第二または第三リン酸のナトリ
ウム、カリウム、またはアンモニウム塩、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、アンモニア等の無機アルカリ剤、モノ、ジ、ま
たはトリメチルアミン、モノ、ジまたはトリエチルアミ
ン、モノまたはジイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノ、ジまたはトリエタノールアミン、モノ、ジま
たはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジイミン等の有機アミン化合物等があげられる。
上記アルカリ剤は単独で用いても良いし、2種以上混合
してもよい。
リ剤と、水とを必須成分として含有する。現像液中に必
須成分として含有されるアルカリ剤としては、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、第二または第三リン酸のナトリ
ウム、カリウム、またはアンモニウム塩、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、アンモニア等の無機アルカリ剤、モノ、ジ、ま
たはトリメチルアミン、モノ、ジまたはトリエチルアミ
ン、モノまたはジイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノ、ジまたはトリエタノールアミン、モノ、ジま
たはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジイミン等の有機アミン化合物等があげられる。
上記アルカリ剤は単独で用いても良いし、2種以上混合
してもよい。
【0079】これらのアルカリ剤の現像液中における含
有量は0.05〜10重量%で、好ましくは0.5〜5重量
%である。0.05重量%より少ないと現像が不良とな
り、10重量%を超えると平版印刷版としての印刷性能
に悪影響を及ぼす。また、上記必須成分以外に、該現像
液中に特開昭50−51324号公報に記載されている
ような、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、特開
昭59−75255号公報、同60−111246号公
報に記載されているような非イオン性界面活性剤のうち
少なくとも1種、または特開昭55−95946号公
報、同56−142528号公報に記載されているよう
な高分子電解質を含有させることにより、感光性組成物
への濡れ性を高めたり、階調性をさらに高めることがで
きる。上記の中でもアニオン活性剤が好ましい。
有量は0.05〜10重量%で、好ましくは0.5〜5重量
%である。0.05重量%より少ないと現像が不良とな
り、10重量%を超えると平版印刷版としての印刷性能
に悪影響を及ぼす。また、上記必須成分以外に、該現像
液中に特開昭50−51324号公報に記載されている
ような、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、特開
昭59−75255号公報、同60−111246号公
報に記載されているような非イオン性界面活性剤のうち
少なくとも1種、または特開昭55−95946号公
報、同56−142528号公報に記載されているよう
な高分子電解質を含有させることにより、感光性組成物
への濡れ性を高めたり、階調性をさらに高めることがで
きる。上記の中でもアニオン活性剤が好ましい。
【0080】かかる界面活性剤、高分子電解質の添加量
には特に制限はないが、0.003〜5重量%が好まし
く、特に0.006〜1重量%の濃度が好ましい。また、
本発明に係わる感光性印刷版を現像する現像液は、必要
に応じて水溶性亜硫酸塩を含有していてもよい。このよ
うな水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のアルカリまたは
アルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシ
ウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液組成物にお
ける含有量は0〜4重量%で好ましくは、0.1〜1重量
%である。
には特に制限はないが、0.003〜5重量%が好まし
く、特に0.006〜1重量%の濃度が好ましい。また、
本発明に係わる感光性印刷版を現像する現像液は、必要
に応じて水溶性亜硫酸塩を含有していてもよい。このよ
うな水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のアルカリまたは
アルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシ
ウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液組成物にお
ける含有量は0〜4重量%で好ましくは、0.1〜1重量
%である。
【0081】また、上記水溶性亜硫酸塩の代わりにアル
カリ可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール
化合物、またはメチルレゾルシン等のようなヒドロキシ
芳香族化合物を含有させてもよい。勿論、これらの化合
物の水溶性亜硫酸塩を併用することもできる。また、更
に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を
含有させることもできる。消泡剤としてはシリコン系の
物が好ましく、硬水軟化剤としては例えば、ポリ燐酸塩
やアミノポリカルボン酸類を挙げることが出来る。この
ような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度およびその使
用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用量を示
せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、より好ま
しくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有させられる。
カリ可溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール
化合物、またはメチルレゾルシン等のようなヒドロキシ
芳香族化合物を含有させてもよい。勿論、これらの化合
物の水溶性亜硫酸塩を併用することもできる。また、更
に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を
含有させることもできる。消泡剤としてはシリコン系の
物が好ましく、硬水軟化剤としては例えば、ポリ燐酸塩
やアミノポリカルボン酸類を挙げることが出来る。この
ような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度およびその使
用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用量を示
せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、より好ま
しくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有させられる。
【0082】本発明に係わる感光性印刷版を現像する現
像液は、必要に応じて、特定の有機溶媒を含有していて
もよい。有機溶媒としては、現像液中に含有せしめたと
き上述の感光性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解
または膨潤することができ、しかも常温で水に対する溶
解度が10重量%以下の有機溶媒が好ましい。このよう
な有機溶媒としては、次のものが挙げられる。例えば酢
酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エチレングリコ
ールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブ
チルのようなカルボン酸エステル;メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノンのようなケトン類;エチレング
リコールモノブチルエーテル、エチレングリコールベン
ジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビノー
ル、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコールの
ようなアルコール類;アルキル置換芳香族炭化水素、及
びハロゲン化炭化水素などがある。これら有機溶媒を二
種類以上を組み合わせて用いてもよい。上記有機溶媒の
中では、エチレングリコールモノフェニルエーテルとベ
ンジルアルコールが特に有効である。また、これら有機
溶媒の現像液中における含有量は、0〜20重量%であ
り、特に2〜10重量%のときより好ましい結果を得
る。
像液は、必要に応じて、特定の有機溶媒を含有していて
もよい。有機溶媒としては、現像液中に含有せしめたと
き上述の感光性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解
または膨潤することができ、しかも常温で水に対する溶
解度が10重量%以下の有機溶媒が好ましい。このよう
な有機溶媒としては、次のものが挙げられる。例えば酢
酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エチレングリコ
ールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブ
チルのようなカルボン酸エステル;メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノンのようなケトン類;エチレング
リコールモノブチルエーテル、エチレングリコールベン
ジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビノー
ル、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコールの
ようなアルコール類;アルキル置換芳香族炭化水素、及
びハロゲン化炭化水素などがある。これら有機溶媒を二
種類以上を組み合わせて用いてもよい。上記有機溶媒の
中では、エチレングリコールモノフェニルエーテルとベ
ンジルアルコールが特に有効である。また、これら有機
溶媒の現像液中における含有量は、0〜20重量%であ
り、特に2〜10重量%のときより好ましい結果を得
る。
【0083】また、上述の有機溶媒の水への溶解を助け
るために一定の可溶化剤を含有させることもできる。こ
のような可溶化剤としては、用いる有機溶媒より水易溶
性で低分子のアルコール、ケトン類を用いるのがよい。
また、アニオン活性剤、両性活性剤等も用いる事が出来
る。活性剤としては例えばイソプロピルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ベンタデシルアミ
ノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩
等が好ましい。
るために一定の可溶化剤を含有させることもできる。こ
のような可溶化剤としては、用いる有機溶媒より水易溶
性で低分子のアルコール、ケトン類を用いるのがよい。
また、アニオン活性剤、両性活性剤等も用いる事が出来
る。活性剤としては例えばイソプロピルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ベンタデシルアミ
ノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩
等が好ましい。
【0084】しかし、有機溶剤等を含有すると、作業時
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安
全性の問題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公
害等の問題、コストの問題等が発生するため、実質上有
機溶媒を含まないものが更に好ましい。尚、「実質上有
機溶媒を含まない」とは、前述の環境衛生、安全性、作
業性等の点からみて不都合を生じる程度までは有機溶媒
を含有しない。の意であり、本発明においては、該物質
の組成物中に占める割合が2重量%以下である事をい
い、好ましくは、1重量%以下である。
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安
全性の問題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公
害等の問題、コストの問題等が発生するため、実質上有
機溶媒を含まないものが更に好ましい。尚、「実質上有
機溶媒を含まない」とは、前述の環境衛生、安全性、作
業性等の点からみて不都合を生じる程度までは有機溶媒
を含有しない。の意であり、本発明においては、該物質
の組成物中に占める割合が2重量%以下である事をい
い、好ましくは、1重量%以下である。
【0085】このような、実質上有機溶媒を含まない水
性アルカリ現像液として例えば特開昭59−84241
号、特開昭57−192952号及び特開昭62−24
263号公報等に記載されている。ポジ型平版印刷版を
画像露光後、現像する際に用いられる現像液組成物を使
用することが出来る。本発明の感光性組成物を用いた感
光性平版印刷版は、特開昭54−8002号、同55−
115045号、特開昭59−58431号の各公報に
記載されている方法で製版処理しても良い。即ち、現像
処理後、水洗してから不感脂化処理、またはそのまま不
感脂化処理、または酸を含む水溶液での処理、または酸
を含む水溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよい。
性アルカリ現像液として例えば特開昭59−84241
号、特開昭57−192952号及び特開昭62−24
263号公報等に記載されている。ポジ型平版印刷版を
画像露光後、現像する際に用いられる現像液組成物を使
用することが出来る。本発明の感光性組成物を用いた感
光性平版印刷版は、特開昭54−8002号、同55−
115045号、特開昭59−58431号の各公報に
記載されている方法で製版処理しても良い。即ち、現像
処理後、水洗してから不感脂化処理、またはそのまま不
感脂化処理、または酸を含む水溶液での処理、または酸
を含む水溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよい。
【0086】さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアル
カリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時間
運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため処
理能力が低下するが、その際、特開昭54−62004
号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させて
もよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載
されている方法で補充することが好ましい。
工程では処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアル
カリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時間
運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため処
理能力が低下するが、その際、特開昭54−62004
号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させて
もよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載
されている方法で補充することが好ましい。
【0087】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像液で行うことが好ましい。なお製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては
特公昭62−16834号、同62−25118号、同
63−52600号、特開昭62−7595号、同62
−11693号、同62−83194号の各公報に記載
されているものが好ましい。
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像液で行うことが好ましい。なお製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては
特公昭62−16834号、同62−25118号、同
63−52600号、特開昭62−7595号、同62
−11693号、同62−83194号の各公報に記載
されているものが好ましい。
【0088】なお現像処理後必要であれば画像部の不要
部分を市販のネガ用消去液で消去するか石棒で擦りとる
こともできる。
部分を市販のネガ用消去液で消去するか石棒で擦りとる
こともできる。
【0089】
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版はジアゾニウ
ム化合物が高分子量であるため耐刷性に優れ、またジア
ゾニウム化合物がアルカリ可溶性基を有しさらに酸価2
5以上250未満のアルカリ水に溶解しやすい親油性高
分子化合物をバンダーとしているため現像性がよく、印
刷で汚れが生じない。特に有機溶媒を含有しないアルカ
リ性現像液にも適している。
ム化合物が高分子量であるため耐刷性に優れ、またジア
ゾニウム化合物がアルカリ可溶性基を有しさらに酸価2
5以上250未満のアルカリ水に溶解しやすい親油性高
分子化合物をバンダーとしているため現像性がよく、印
刷で汚れが生じない。特に有機溶媒を含有しないアルカ
リ性現像液にも適している。
【0090】
【実施例】以下、本発明を、実施例により更に詳細に説
明するが、本発明の内容がこれにより限定されるもので
はない。 実施例1 99.5%アルミニウムに、銅を0.01%、チタンを0.0
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窯業製)の20wt%水性懸
濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)とを
用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
明するが、本発明の内容がこれにより限定されるもので
はない。 実施例1 99.5%アルミニウムに、銅を0.01%、チタンを0.0
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窯業製)の20wt%水性懸
濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)とを
用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
【0091】これを15wt%水酸化ナトリウム水溶液
(アルミニウム5wt%含有)に浸漬してアルミニウムの
溶解量が5g/m2 になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1wt%硝酸で、中和し次に0.7
wt%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5%含有)中で、陽
極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形波
交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−579
6号公報実施例に記載されている電流波形)を用いて1
60クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理
を行った。水洗後、40℃の10wt%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2
になるようにエッチングした後、水洗した。次に50℃
30%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後水洗
した。
(アルミニウム5wt%含有)に浸漬してアルミニウムの
溶解量が5g/m2 になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1wt%硝酸で、中和し次に0.7
wt%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5%含有)中で、陽
極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形波
交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−579
6号公報実施例に記載されている電流波形)を用いて1
60クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理
を行った。水洗後、40℃の10wt%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2
になるようにエッチングした後、水洗した。次に50℃
30%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後水洗
した。
【0092】さらに35℃の硫酸20wt%水溶液(アル
ミニウム0.8%含有)中で直流電流を用いて多孔性陽極
酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電流密度13A/
dm 2 で電解を行い、電解時間の調節により陽極酸化皮
膜重量2.0g/m2 とした。水洗後、70℃のケイ酸ナ
トリウムの3%水溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥
した。
ミニウム0.8%含有)中で直流電流を用いて多孔性陽極
酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電流密度13A/
dm 2 で電解を行い、電解時間の調節により陽極酸化皮
膜重量2.0g/m2 とした。水洗後、70℃のケイ酸ナ
トリウムの3%水溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥
した。
【0093】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.54μmであっ
た。次に上記支持体に特開昭59−101651号公報
実施例1に記載の方法と同様にして下塗りを施した。さ
らに下記感光液−1をバーコーターを用いて塗布し、1
20℃で30秒間乾燥させた。乾燥塗布量は、1.7g/
m2 であった。 (感光液−1) ジアゾニウム化合物−1 1.2 g 親油性高分子化合物−1 5.0 g 油溶性染料 0.15g (ビクトリアピュアブルー BOH) フッ素系界面活性剤 0.02g (メガファックF−177 大日本インキ化学工業(株)製) リン酸トリクレジル 0.2 g 亜リン酸 0.03g リンゴ酸 0.03g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 20 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g 感光層塗布後表面に特公平3−21902号公報実施例
1に記載の組成Bの液を静電スプレーにて塗布し、60
℃の雰囲気中に5秒間露して乾燥させることにより表面
にマット加工を施した。
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.54μmであっ
た。次に上記支持体に特開昭59−101651号公報
実施例1に記載の方法と同様にして下塗りを施した。さ
らに下記感光液−1をバーコーターを用いて塗布し、1
20℃で30秒間乾燥させた。乾燥塗布量は、1.7g/
m2 であった。 (感光液−1) ジアゾニウム化合物−1 1.2 g 親油性高分子化合物−1 5.0 g 油溶性染料 0.15g (ビクトリアピュアブルー BOH) フッ素系界面活性剤 0.02g (メガファックF−177 大日本インキ化学工業(株)製) リン酸トリクレジル 0.2 g 亜リン酸 0.03g リンゴ酸 0.03g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 20 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g 感光層塗布後表面に特公平3−21902号公報実施例
1に記載の組成Bの液を静電スプレーにて塗布し、60
℃の雰囲気中に5秒間露して乾燥させることにより表面
にマット加工を施した。
【0094】なお以上の支持体処理工程や塗布工程は連
続した一貫製造ラインで行った。さらに感光性平版印刷
版は表面保護のために合紙でカバーした。合紙としては
表面がポリエチレン加工されている物を用いた。このよ
うにして得られたネガ型感光性平版印刷版(ネガ型PS
版)に富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの距
離から1分間画像露光した。
続した一貫製造ラインで行った。さらに感光性平版印刷
版は表面保護のために合紙でカバーした。合紙としては
表面がポリエチレン加工されている物を用いた。このよ
うにして得られたネガ型感光性平版印刷版(ネガ型PS
版)に富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの距
離から1分間画像露光した。
【0095】さらに次に示す条件で現像処理を行った。
すなわちまず富士写真フィルム(株)製自現機スタブロ
ン900Dの第1浴に下記現像−1を第2浴に水を第3
浴に富士写真フィルム(株)製フィニッシャーFP−2
をそれぞれ仕込み、現像液温30℃、現像時間12秒の
現像処理条件にした。つぎに上記平版印刷版と画像露光
済の富士写真フィルム(株)製ポジ型PS版FPS−3
とを、菊判の大きさで交互に30枚を6時間にわたって
適宜時間間隔をあけて現像処理をした。
すなわちまず富士写真フィルム(株)製自現機スタブロ
ン900Dの第1浴に下記現像−1を第2浴に水を第3
浴に富士写真フィルム(株)製フィニッシャーFP−2
をそれぞれ仕込み、現像液温30℃、現像時間12秒の
現像処理条件にした。つぎに上記平版印刷版と画像露光
済の富士写真フィルム(株)製ポジ型PS版FPS−3
とを、菊判の大きさで交互に30枚を6時間にわたって
適宜時間間隔をあけて現像処理をした。
【0096】 (現像液−1) 1K珪酸カリウム 60 g 水酸化カリウム 12 g ホウ素系界面活性剤 0.1 g (東邦化学工業製エマルボンT−20) キレート剤 0.1 g (EDTA) シリコン系消泡剤 0.01g (東芝シリコーン(株)製TSA−731) 酢酸コバルト 0.04g 水 1200 g 現像液−1のpHは、13.1であった。 なお,現像液−1がこれらの処理または経時で疲労し、
現像能力が落ちた場合は下記補充液−1を補充すること
により現像能力を回復させた。
現像能力が落ちた場合は下記補充液−1を補充すること
により現像能力を回復させた。
【0097】 (補充液−1) 1K珪酸カリウム 60 g 水酸化カリウム 42 g ホウ素系界面活性剤 0.03g (東邦化学工業製エマルボンGB−24F) キレート剤 3.5 g (ライオン(株)製フェリオックス115) 水 1200 g このような処理の間、現像液はほぼ同じ現像活性を維持
していることがわかった。各PS版にはステップタブレ
ット(初段の光学濃度が0.10で、1段の濃度差が0.1
5であり、15段あるもの。)を焼きつけておいたが、
ベタ段数の差はすべて1段以内に収まっていた。
していることがわかった。各PS版にはステップタブレ
ット(初段の光学濃度が0.10で、1段の濃度差が0.1
5であり、15段あるもの。)を焼きつけておいたが、
ベタ段数の差はすべて1段以内に収まっていた。
【0098】上記ネガ型PS版を上記露光現像処理する
ことにより得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製印
刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本インキ(株)
製グラフGを用い湿し水はイソプロパノール10%に富
士写真フィルム(株)製EU−3を1%添加した物を用
いコート紙に印刷した。結果を表2に示す。 実施例2 実施例1と同様の表面処理をしたアルミニウム支持体の
裏面にポリウレタン樹脂(商品名エスタン#5715、
モンサント社製)0.2重量部を16重量部のエチレング
リコールモノメチルエーテルと24重量部のメチルエチ
ルケトンに溶解したバックコート液を乾燥重量にして0.
2g/m2 となるように塗布乾燥した。さらに表側の面
に実施例1と同様の下塗りを施した。
ことにより得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製印
刷機SOR−Mにかけた。インキは大日本インキ(株)
製グラフGを用い湿し水はイソプロパノール10%に富
士写真フィルム(株)製EU−3を1%添加した物を用
いコート紙に印刷した。結果を表2に示す。 実施例2 実施例1と同様の表面処理をしたアルミニウム支持体の
裏面にポリウレタン樹脂(商品名エスタン#5715、
モンサント社製)0.2重量部を16重量部のエチレング
リコールモノメチルエーテルと24重量部のメチルエチ
ルケトンに溶解したバックコート液を乾燥重量にして0.
2g/m2 となるように塗布乾燥した。さらに表側の面
に実施例1と同様の下塗りを施した。
【0099】次に下記感光液−2をバーコーターを用い
て塗布し、120℃で25秒間乾燥させた。乾燥塗布量
は、1.6g/m2 であった。 (感光液−2) ジアゾニウム化合物−2 1.2 g 親油性高分子化合物−1 5.0 g ビクトリアピュアブルーBOH 0.15g メガファックF−177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2 g フェニルフォスホン酸 0.03g ジピコリン酸 0.03g 亜リン酸 0.03g p−ヒドロキシスチレンのビバリン酸エステル 0.1 g (エステル化率50%) 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 18 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g 水 2 g 感光層塗布後表面に実施例1と同様のマット加工を施し
た。
て塗布し、120℃で25秒間乾燥させた。乾燥塗布量
は、1.6g/m2 であった。 (感光液−2) ジアゾニウム化合物−2 1.2 g 親油性高分子化合物−1 5.0 g ビクトリアピュアブルーBOH 0.15g メガファックF−177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2 g フェニルフォスホン酸 0.03g ジピコリン酸 0.03g 亜リン酸 0.03g p−ヒドロキシスチレンのビバリン酸エステル 0.1 g (エステル化率50%) 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 18 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g 水 2 g 感光層塗布後表面に実施例1と同様のマット加工を施し
た。
【0100】このようにして得られたネガ型感光性平版
印刷版を実施例1と同様に画像露光後、次に示す条件で
現像処理を行った。すなわちまず自現機スタブロン90
0Dの第1浴に実施例1と同じ現像液−1を第2浴に水
を第3浴に富士写真フィルム(株)製リンス液FR−3
をそれぞれ仕込み、上記平版印刷版と画像露光済のポジ
型PS版FPS−3とを実施例1と同様の方法で現像処
理をした。なお現像能力が落ちた場合は下記補充液−2
を補充した。
印刷版を実施例1と同様に画像露光後、次に示す条件で
現像処理を行った。すなわちまず自現機スタブロン90
0Dの第1浴に実施例1と同じ現像液−1を第2浴に水
を第3浴に富士写真フィルム(株)製リンス液FR−3
をそれぞれ仕込み、上記平版印刷版と画像露光済のポジ
型PS版FPS−3とを実施例1と同様の方法で現像処
理をした。なお現像能力が落ちた場合は下記補充液−2
を補充した。
【0101】 (補充液−2) 1K珪酸カリウム 120 g 水酸化カリウム 25 g キレート剤 0.3 g (キレスト化学(株)製NTA−C) 水 1200 g このようにして得られた平版印刷版の非画像部に不要部
分またはフィルムエッジがある場合ネガ型PS版は富士
写真フィルム(株)製消去液RN−2でボジ型PS版は
消去液RP−2で消去した。消去液を水洗後富士写真フ
ィルム(株)製ガムコーターG800を用い、富士写真
フィルム(株)製ガムGU−7による不感脂化処理を行
った。
分またはフィルムエッジがある場合ネガ型PS版は富士
写真フィルム(株)製消去液RN−2でボジ型PS版は
消去液RP−2で消去した。消去液を水洗後富士写真フ
ィルム(株)製ガムコーターG800を用い、富士写真
フィルム(株)製ガムGU−7による不感脂化処理を行
った。
【0102】得られた平版印刷版を用い実施例1と同様
の方法で印刷を行った。結果を表2に示す。 実施例3 実施例1における感光液1を下記感光液−3に変えた以
外は実施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくっ
た。 (感光液−3) ジアゾニウム化合物3 1.2 g p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの 0.05g 縮合物の4−メトキシ−2−ヒドロキシブンゾフェノン −5−スルホン酸塩 親油性高分子化合物−1 5.0 g ビクトリアピュアブルー BOH 0.15g メガファックF−177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2 g リンゴ酸 0.03g アニオン界面活性剤(花王アトラス製ペレックスNBL) 0.1 g ポリアクリル酸(ジュリマーAC−10L) 0.3 g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 20 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g 実施例1と同様に画像露光後、次に示す条件で現像処理
を行った。すなわちまず富士写真フィルム(株)製自現
機800E II Bの第1浴に実施例1と同じ現像液
−1を、第2浴に特願平2−30474号明細書実施例
1に記載のフィニッシャーをそれぞれ仕込み、現像液温
25℃、現像時間30秒の現像処理条件にした。つぎに
上記平版印刷版と画像露光済みのFPS−3とを、菊判
の大きさで交互に30枚を3時間にわたって適宜時間間
隔をあけて現像処理をした。なお、現像液の現像能力が
落ちた場合は補充液−1を補充した。このとき現像開始
時間から1時間経過するごとに390mlの補充液を添加
し、かつPS版を1枚現像するごとに補充液を37ml添
加した。
の方法で印刷を行った。結果を表2に示す。 実施例3 実施例1における感光液1を下記感光液−3に変えた以
外は実施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくっ
た。 (感光液−3) ジアゾニウム化合物3 1.2 g p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの 0.05g 縮合物の4−メトキシ−2−ヒドロキシブンゾフェノン −5−スルホン酸塩 親油性高分子化合物−1 5.0 g ビクトリアピュアブルー BOH 0.15g メガファックF−177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2 g リンゴ酸 0.03g アニオン界面活性剤(花王アトラス製ペレックスNBL) 0.1 g ポリアクリル酸(ジュリマーAC−10L) 0.3 g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 20 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g 実施例1と同様に画像露光後、次に示す条件で現像処理
を行った。すなわちまず富士写真フィルム(株)製自現
機800E II Bの第1浴に実施例1と同じ現像液
−1を、第2浴に特願平2−30474号明細書実施例
1に記載のフィニッシャーをそれぞれ仕込み、現像液温
25℃、現像時間30秒の現像処理条件にした。つぎに
上記平版印刷版と画像露光済みのFPS−3とを、菊判
の大きさで交互に30枚を3時間にわたって適宜時間間
隔をあけて現像処理をした。なお、現像液の現像能力が
落ちた場合は補充液−1を補充した。このとき現像開始
時間から1時間経過するごとに390mlの補充液を添加
し、かつPS版を1枚現像するごとに補充液を37ml添
加した。
【0103】このようにして処理して得られた現像結果
はほぼ同等であり、現像液は現像処理中はほぼ同じ現像
活性を維持していることが認められた。得られた平版印
刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行った。結果
を表2に示す。 実施例4〜13 実施例1における感光液においてジアゾニウム化合物1
をそれぞれジアゾニウム化合物4〜13に替えた以外は
実施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。さ
らに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い得られ
た平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。結果を表2に示す。
はほぼ同等であり、現像液は現像処理中はほぼ同じ現像
活性を維持していることが認められた。得られた平版印
刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行った。結果
を表2に示す。 実施例4〜13 実施例1における感光液においてジアゾニウム化合物1
をそれぞれジアゾニウム化合物4〜13に替えた以外は
実施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。さ
らに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い得られ
た平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。結果を表2に示す。
【0104】実施例14〜17 実施例1における感光液において親油性高分子化合物1
をそれぞれ親油性高分子化合物2〜5に替えた以外は実
施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。さら
に実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い得られた
平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。結果を表2に示す。
をそれぞれ親油性高分子化合物2〜5に替えた以外は実
施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。さら
に実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い得られた
平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。結果を表2に示す。
【0105】実施例18 実施例5において現像液−1を下記現像液−2に替え補
充液1を下記補充液3にかえた以外は実施例1と同様に
して平版印刷版をつくった。得られた平版印刷版を用い
実施例1と同様の方法で印刷を行った。結果を表2に示
す。 (補充液−2) 炭酸ナトリウム1水和物 5.9 g 炭酸水素ナトリウム 3.2 g アニオン界面活性剤 ペレックス NBL 15.3 g ニューコール B4SN 2.7 g EDTA 0.8 g 水 300 g 現像液−2のpHは9.9であった。 (補充液−3) 炭酸ナトリウム1水和物 7.4 g 炭酸水素ナトリウム 1.0 g アニオン界面活性剤 ペレックス NBL 25.0 g ニューコール B4SN 2.7 g EDTA 0.8 g 水 250 g 補充液3のpHは10.85であった。
充液1を下記補充液3にかえた以外は実施例1と同様に
して平版印刷版をつくった。得られた平版印刷版を用い
実施例1と同様の方法で印刷を行った。結果を表2に示
す。 (補充液−2) 炭酸ナトリウム1水和物 5.9 g 炭酸水素ナトリウム 3.2 g アニオン界面活性剤 ペレックス NBL 15.3 g ニューコール B4SN 2.7 g EDTA 0.8 g 水 300 g 現像液−2のpHは9.9であった。 (補充液−3) 炭酸ナトリウム1水和物 7.4 g 炭酸水素ナトリウム 1.0 g アニオン界面活性剤 ペレックス NBL 25.0 g ニューコール B4SN 2.7 g EDTA 0.8 g 水 250 g 補充液3のpHは10.85であった。
【0106】実施例19 厚さ0.3mmのJISA1050アルミニウム板を5wt%
水酸化ナトリウム水溶液中で、65℃で1分間アルカリ
エッチングを行ったのち水洗し、10wt%硝酸水溶液中
で、25℃、1分間浸漬し中和したのち、水洗した。こ
のアルミニウム板を1wt%の硝酸水溶液中、30℃で、
交流で電流密度50A/dm2 で30秒間電解粗面化を
行ったのち、水洗槽中で10秒間水洗処理を行い、次に
10wt%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミ
ニウム溶解量が1g/m2 になるようにエッチングし
た。
水酸化ナトリウム水溶液中で、65℃で1分間アルカリ
エッチングを行ったのち水洗し、10wt%硝酸水溶液中
で、25℃、1分間浸漬し中和したのち、水洗した。こ
のアルミニウム板を1wt%の硝酸水溶液中、30℃で、
交流で電流密度50A/dm2 で30秒間電解粗面化を
行ったのち、水洗槽中で10秒間水洗処理を行い、次に
10wt%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミ
ニウム溶解量が1g/m2 になるようにエッチングし
た。
【0107】次に20%硫酸水溶液中で25℃、6A/
dm2 の条件で電解時間の調節により酸化皮膜重量1.2
g/m2 の陽極酸化処理を行った。次に湿度100%温
度98℃の水蒸気に20秒さらして封孔処理を行った。
更に70℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬処
理し水洗・乾燥させた。以上のようにして得られたアル
ミニウム支持体は、反射濃度は0.23で、中心線平均粗
さは0.42μmであった。
dm2 の条件で電解時間の調節により酸化皮膜重量1.2
g/m2 の陽極酸化処理を行った。次に湿度100%温
度98℃の水蒸気に20秒さらして封孔処理を行った。
更に70℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬処
理し水洗・乾燥させた。以上のようにして得られたアル
ミニウム支持体は、反射濃度は0.23で、中心線平均粗
さは0.42μmであった。
【0108】この支持体上に、実施例1と同様にして下
塗り、感光層塗布、及びマット加工を施して感光性平版
印刷版を得た。この感光性平版印刷版に、実施例1と同
様にして画像露光を行った。次いで特開昭62−599
58号公報に記載された水平搬送型の現像液使い捨て型
自動現像機を準備し、第1浴には実施例1と同じ現像液
を仕込み、第2浴には下記処方のリンス液を水で8倍に
希釈して8リットル仕込んだ。
塗り、感光層塗布、及びマット加工を施して感光性平版
印刷版を得た。この感光性平版印刷版に、実施例1と同
様にして画像露光を行った。次いで特開昭62−599
58号公報に記載された水平搬送型の現像液使い捨て型
自動現像機を準備し、第1浴には実施例1と同じ現像液
を仕込み、第2浴には下記処方のリンス液を水で8倍に
希釈して8リットル仕込んだ。
【0109】 リンス液処方 リン酸(85重量%水溶液) 48 g 水酸化ナトリウム 19.2 g ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム 24 g ドデシルフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム 24 g シリコーン消泡剤TSA−731 0.08g 水 875 g この自動現像機にて、上記露光済平版印刷版を現像し
た。さらに不要部分を富士写真フィルム(株)製消去液
RN−2で消去した。消去した部分に残存膜はなかっ
た。水洗を行った後、ガムGU−7による不感脂化処理
を行った。
た。さらに不要部分を富士写真フィルム(株)製消去液
RN−2で消去した。消去した部分に残存膜はなかっ
た。水洗を行った後、ガムGU−7による不感脂化処理
を行った。
【0110】得られた平版印刷版を用い実施例1と同様
の方法で印刷を行った。結果を表2に示す。 比較例1、2 実施例1における感光液においてジアゾニウム化合物−
1をジアゾニウム化合物14又は15に替えた以外は実
施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。さら
に実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い、得られ
た平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。結果を表2に示す。
の方法で印刷を行った。結果を表2に示す。 比較例1、2 実施例1における感光液においてジアゾニウム化合物−
1をジアゾニウム化合物14又は15に替えた以外は実
施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。さら
に実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い、得られ
た平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行っ
た。結果を表2に示す。
【0111】比較例3、4 実施例1における感光液において親油性高分子化合物−
1をそれぞれ親油性高分子化合物6又は7に替えた以外
は実施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。
さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い得ら
れた平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行
った。結果を表2に示す。
1をそれぞれ親油性高分子化合物6又は7に替えた以外
は実施例1と同様にして感光性平版印刷版をつくった。
さらに実施例1と同様の画像露光・現像処理を行い得ら
れた平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷を行
った。結果を表2に示す。
【0112】 表 2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ No. 使用したジアゾ 使用した親油性 使用した 印刷結果 ニウム化合物 高分子化合物 現像液 汚れ 耐刷 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例1 1 1 1 A 6.5万枚 2 2 1 1 A 5.5万 3 3 1 1 B 6.5万 4 4 1 1 A 6 万 5 5 1 1 B 7 万 6 6 1 1 A 6 万 7 7 1 1 A 5.5万 8 8 1 1 B 7.5万 9 9 1 1 B 5.5万 10 10 1 1 B 5.5万 11 11 1 1 A 5.5万 12 12 1 1 A 6 万 13 13 1 1 A 6 万 14 1 2 1 A 6.5万 15 1 3 1 A 5.5万 16 1 4 1 B 6 万 17 1 5 1 B 6.5万 18 5 1 2 B 7 万 19 1 1 1 B 6 万 比較例1 14 1 1 D 3.5万 2 15 1 1 A 2 万 3 1 6 1 D 5.5万 4 1 7 1 A 3 万 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 汚れ程度 A:全くなし B:ほとんどなし C:やや汚れあ
り D:汚れ多い 表2からわかるように本発明の実施例1〜19に示す平
版印刷版は比較例1〜4に示す平版印刷版にと比較して
印刷汚れがなく、しかも耐刷に優れた、非常に優れたも
のであった。
り D:汚れ多い 表2からわかるように本発明の実施例1〜19に示す平
版印刷版は比較例1〜4に示す平版印刷版にと比較して
印刷汚れがなく、しかも耐刷に優れた、非常に優れたも
のであった。
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体上に下記一般式(I)及び(II)
の繰り返し単位を有する共重合体であるジアゾニウム化
合物および酸価20以上250未満の親油性高分子化合
物を含有する感光層を有する感光性平版印刷版。 【化1】 式中、R1 は水素原子又はメチル基を示し、Zは2価の
連結基を示し、R2 、R3 、R4 、R5 は同一でも相違
していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、アル
コキシ基、ハロゲン原子又は水酸基を示し、Yは−NH
−、−O−、又は−S−を示し、X- はアニオンを示
し、Wはカルボキシル基、少なくとも1個のカルボキシ
ル基を有する基、少なくとも1個のスルホン酸基を有す
る基又は、少なくとも1個のリンの酸素酸基を有する基
を示す。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22442491A JPH0561191A (ja) | 1991-09-04 | 1991-09-04 | 感光性平版印刷版 |
| EP92115108A EP0530815A1 (en) | 1991-09-04 | 1992-09-03 | Presensitized plate for use in making lithographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22442491A JPH0561191A (ja) | 1991-09-04 | 1991-09-04 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0561191A true JPH0561191A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16813565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22442491A Pending JPH0561191A (ja) | 1991-09-04 | 1991-09-04 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0530815A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0561191A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4414897A1 (de) * | 1994-04-28 | 1995-11-02 | Hoechst Ag | Aromatische Diazoniumsalze und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen |
| GB9700883D0 (en) * | 1997-01-17 | 1997-03-05 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic plate precursor |
| JP5651538B2 (ja) * | 2011-05-31 | 2015-01-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| CN112275329B (zh) * | 2020-09-30 | 2022-08-05 | 石家庄惠洁科技有限公司 | 一种122型阳离子交换树脂的清洁生产工艺 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59101644A (ja) * | 1982-12-01 | 1984-06-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS61273538A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| JPS62109041A (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPH02189544A (ja) * | 1989-01-19 | 1990-07-25 | Mitsubishi Kasei Corp | 平版印刷版の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0415422A3 (en) * | 1989-08-31 | 1991-06-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming images |
-
1991
- 1991-09-04 JP JP22442491A patent/JPH0561191A/ja active Pending
-
1992
- 1992-09-03 EP EP92115108A patent/EP0530815A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59101644A (ja) * | 1982-12-01 | 1984-06-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS61273538A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| JPS62109041A (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPH02189544A (ja) * | 1989-01-19 | 1990-07-25 | Mitsubishi Kasei Corp | 平版印刷版の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0530815A1 (en) | 1993-03-10 |
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