JPH0358417A

JPH0358417A - ウェハ洗浄装置

Info

Publication number: JPH0358417A
Application number: JP19261889A
Authority: JP
Inventors: Masao Matsumura; 正夫松村
Original assignee: Ebara Corp
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 1989-07-27
Filing date: 1989-07-27
Publication date: 1991-03-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野１本発明は、ＩＣやトランジスタの基板となる円板状のウ
ェハの洗浄装置に関する。ここで、該ウェハはインゴッ
ｌ・と呼ばれる円柱状のシリコンなどの単結晶体を薄く
輪切りに１、て形或されている。

［従来の技術コ従来のかかる洗浄装置は、ウオータジェット洗浄機と乾
燥機との組合せで構成されていた。例えば第２図で示す
ように、前処理施設３２においてブラシ及びリンス機構
３４で処理されたウェハＤは、洗浄装置３６においてウ
オータジェット洗浄機３８、３８によって洗浄され、図
示しない乾燥機により符号４０で示すようにスピン乾燥
されている。

ここで、乾燥機としては、第２図で示すように遠心力に
より洗浄液を振り切る方式の遠心式乾燥機と、真空によ
り洗浄液を蒸発して除去せしめる真空乾燥機とが知られ
ている。

［発明が解決しようとする課題］上記遠心式乾燥機においては、振り切った洗浄液が乾燥
し、再び周囲の汚染を持ち込む形でウェハに付着するな
どの欠点があった。

これに対し、真空乾燥機では、洗浄液の蒸発及び蒸気の
強制排気という二重の効果を奏するので、理論的には、
上述の遠心式乾燥機における問題点を除去することがで
きる。そのため真空乾燥機は、回路部品などの洗浄に一
部利用されている。

しかし、従来の真空乾燥機では真空機構に格別な工夫は
為されていないため、ロードロック機構等を採用する必
要があり、設備が大掛かりになってしまい、小形化及び
省スペース化という要請に応えることが出来なかった。

また、ロードロツク機構を採用しても依然として真空引
きに時間を要してしまう等、生産性に問題があった。

本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みて提案され
たもので、短時間に清浄な洗浄・乾燥を行うウェハ洗浄
装置の提供を目的としている。

［課題を解決するための手段］本発明のウェハ洗浄装置は、ジェット噴流によリウェハ
表面の洗浄を行うウォータジェット洗浄機と、一方が上
下動するウェハ支持台とカバーとを含み且ついずれか一
方に真空室が画成されている真空乾燥機と、該真空乾燥
機に前記ウォータジェット洗浄機で洗浄されたウェハを
自動的に搬送するウェハ搬送機とを備えている。

上記ウォータジェット洗浄機及び洗浄用ウェハ支持台と
真空乾燥機とは、クリーンルームで構成され、開閉自在
に仕切壁で画成された洗浄室と乾燥室にそれぞれ配設し
、更に、洗浄室に隣接１，て洗浄室と同様な準備室を設
け、準備室と乾燥室とに、それぞれリフトで上下動され
るウェハカセットを配設し、準備室のウェハカセットと
洗浄用ウェハ支持台との間を自動的に往復動ずる第１の
ウェハ搬送機と、洗浄用ウェハ支持台と真空乾燥機及び
乾燥室のウェハカセットとの間を自動的に巡回往復動ず
る第２のウェハ搬送機とを設けるのが好ましい。

また、前記真空乾燥機は、ウェハ支持台とカバーのいず
れか一方に画成されている真空室が真空源或いは大気へ
選択的に接続されるように構成されるのが好ましい。

［作用］上記のように構成された本発明のウェハ洗浄装置によれ
ば、先ず第１のウェハ搬送機により準備室のウェハカセ
ットからウェハを取り出し、洗浄用ウェハ支持台に自動
的にセットする。次いで、ウォータジェット洗浄機の純
水などのジェット噴流でウェハ表面を洗浄する。そして
、第２のウ工ハ搬送機でウェハ支持台から洗浄済みのウ
ェハを取り出し、真空乾燥機のウ゛エハ支持台に自動的
にセットする。次いで、上下動自在な例えばウェハ支持
台を上昇してカバーに密着し、切換弁を作動している真
空ポンプに接続し、真空室を急速に真空化し、ウェハに
付着している洗浄液を急速に蒸発し、その上記を強制排
気し、ウェハ表面を短時間で乾燥する。

その後、切換弁を乾燥室大気側に切換えて支持台を下降
し、第２の搬送機でウェハを取り出し、乾燥室内のウェ
ハカセットに自動的に搬送して収納する。

［実施例］以下図面を参照して本発明の実施例を説明する。

第１図において、全体を符号１で示すウェハ洗浄装置に
は、公知技術によるクリーンルームで構成された準備室
Ａ１洗浄室Ｂ及び乾燥室Ｃが隔壁２、３により画成され
、これら隔壁２、３に形或された開口部２ａ，３ａは、
昇降自在な仕切壁４、５により開閉されるようになって
いる。

準備室Ａ１乾燥室Ｃの一方の壁側には、図示（，ないリ
フトにより上下動されるウェハＤを収納したウェハカセ
ット６、７がそれぞれ設けられている。

洗浄室Ｂの中央部には、洗浄用ウェハ支持台８が設けら
れ、一方の壁側には、既存のウォータジェット洗浄機９
が設けられている。

乾燥室Ｃの仕切壁５に対向する壁側には、真空乾燥機１
０が設けられている。その乾燥機１０には、図示しない
昇降自在なウェハ支持台と、この支持台に対向するカバ
ー１１とにより支持台が上昇しカバー１．１に密着して
画成される小容積の真空室１２が設けられ、その真空室
１２は排気バイプ１３により切換弁１４を介して真空ポ
ンプ１５又は室内大気側に選択的に接続されるようにな
っている。

そして、ウェハカセット６とウェハ支持台８との間には
、両者６、８間を鎖線Ｅで示すように往復動ずる第１の
ウェハ搬送機１６が設けられ、ウェハ支持台８と真空乾
燥機１０及びウェハヵセット７との間には、二者８、１
、０、７間を鎖線Ｆで示すように自動的に巡回往復動す
る第２のウエ／＼搬送機１７が設けられている。

洗浄に際し、リフ１・により準備室Ａの定位置にヒッｌ
・されたウェハカセット６から第１の搬送機１６で自動
的に｝シェハ１）を取り出し、仕切壁４を開いτ洗浄室
）１に搬送（、、該リ工Ｉ＼をｌ′７：Ｌノへ芝持台８
上ニセット１６　（ｒ′７　．ハＤ　１　），次いで、
ウォ、−９ジェット洗浄機９を作動し、純水等のジ五ソ
１・噴流Ｊでウくハ１）　１の表面を洗浄する．，次い
で、仕切壁５を１川き、第２の搬送．機１７に上リウ１
ハＤ１を自動的に取り出（９て乾燥室Ｃ（ご搬送し、真
空乾燥機１，００カー・ハ支持台｛二に該ウエノ１をセ
・・）１・する（ウェハＩ）２）。次いで、該支持台を
上ｕｉｕＬでカバ−１１−に密着させ、切換弁１３を作
動し，でいる真空ボンブｌ４に接続する５，、：れによ
り真空室１２を急激に真空化し、ウエ’＼１）２に付着
Ｌ＝−（いる洗浄液を急速に蒸発させ、その蒸気を強制
的に排気し、ウェハＤ２を短時間で乾燥する。

次いで、切換弁１４を室内大気側に切換え、ウ工ハ支持
台を下降し、第２のウェハ搬送機１７でｒ１動的にウェ
ハＤ２を取り出してウェハカセット７に搬送し、該ウェ
ハをウェハカセッ１・７に収納する（ウェハＤ３）。以
下同様の手順を繰り返し、ウェハＤ（Ｄｉ、Ｄ２、Ｄ３
）の洗浄、乾燥を行い、ウェハカセット６が空になり、
ウ，ｒハカセ・・ノト７が一杯になったら、それぞれリ
フトを作動して交換を行う。したがって、バ′＋．，．
−・ムブレーク時極めて清浄なガス空気を用いることも
できる。

なお、図示の実施例ではウェハ支持台が上下動可能に構
成されているが、カバーを上下動可能に構威しても良い
。

［発明の効果］本発明は、以上説明したように構成されているので、ク
リーンな環境で洗浄液を飛散５＼せることなく急速に蒸
発１，て蒸気を強制排気し、つエハ表面を清浄に短時間
で洗浄、乾燥することができろ。

また、洗浄装置が大掛かりになることもなく、小形化及
び軽景化の要請にも応えることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す平面図、第２図は従来
の洗浄装置の１例を示す平面図である。Ａ・・・準備室　　Ｂ・・・洗浄室　　Ｃ・・―乾燥室
　　１）、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３壽・・ウェハ〕・・φンエ
ッ１・噴流　　９◆滲・ウォータジェット洗浄機　　】
０・・・真空乾燥機　　１１・・・カバー　　１２・・
・真空室　　ｌ４・・・切換弁　　１５・・・真空ボン
ブ　　１６・・・第ｌのウェハ搬送機　　１７・・・第
２のウェハ搬送機３２第２図３６

Claims

【特許請求の範囲】

ジェット噴流によりウェハ表面の洗浄を行うウォータジ
ェット洗浄機と、一方が上下動するウェハ支持台とカバ
ーとを含み且ついずれか一方に真空室が画成されている
真空乾燥機と、該真空乾燥機に前記ウォータジェット洗
浄機で洗浄されたウェハを自動的に搬送するウェハ搬送
機とを備えたことを特徴とするウェハ洗浄装置。