JPH035918A - Substrate for magnetic recording medium - Google Patents
Substrate for magnetic recording mediumInfo
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- JPH035918A JPH035918A JP14017789A JP14017789A JPH035918A JP H035918 A JPH035918 A JP H035918A JP 14017789 A JP14017789 A JP 14017789A JP 14017789 A JP14017789 A JP 14017789A JP H035918 A JPH035918 A JP H035918A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、L磁気記録媒体用基板に関し、より詳細には
、合成樹脂基板の表面にN i−Pを主成分とする合金
)喫;漠を形成してなる磁気記録媒体用基板に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a substrate for L magnetic recording media, and more specifically, an alloy containing Ni-P as a main component on the surface of a synthetic resin substrate. The present invention relates to a magnetic recording medium substrate formed by forming a magnetic recording medium.
[従来の技術]
近年、磁気記録媒体用基板として、合成樹脂基板を使用
する検討がなされている。合成樹脂基板は、アルミニウ
ム合金基板よりも軽量で、衝撃に強く、かつ、加工が容
易であるという特徴を有する。また、合成樹脂基板にお
いては、基板表面の硬度を向上させて十分なCSS特性
や耐擦傷性を得るため、基板の表面に高硬度の被膜を形
成する試みがなされている。従来、表面に高硬度の被膜
を形成した合成樹脂基板としては、例えば、以下のよう
なものが知られていた。[Prior Art] In recent years, studies have been made to use synthetic resin substrates as substrates for magnetic recording media. Synthetic resin substrates are lighter than aluminum alloy substrates, more resistant to impact, and easier to process. Furthermore, in the case of synthetic resin substrates, attempts have been made to form a highly hard coating on the surface of the substrate in order to improve the hardness of the substrate surface and obtain sufficient CSS characteristics and scratch resistance. Conventionally, the following types of synthetic resin substrates having a highly hard coating formed on their surfaces have been known, for example.
■特開昭59−213025号公報に開示された技術
これは、基板を形成する合成樹脂としてABS樹脂およ
び/またはMBS樹脂とポリカーボネート樹脂の混合組
成物を用い、Ni−Pを主成分とする合金被膜を湿式メ
ツキ法により該合成樹脂基板上に形成したものである。■Technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-213025 This uses a mixed composition of ABS resin and/or MBS resin and polycarbonate resin as the synthetic resin forming the substrate, and an alloy mainly composed of Ni-P. A film is formed on the synthetic resin substrate by a wet plating method.
すなわち、基板を形成する合成樹脂としてABS樹脂等
とポリ力−ボネート樹脂の混合組成物を用いることによ
り、アルミ合金性基板の表面硬度を向上させるための被
膜として以前より知られていたNi−P合金被膜を表面
被膜として使用することを可能としたものである。That is, by using a mixed composition of ABS resin or the like and polycarbonate resin as the synthetic resin forming the substrate, Ni-P, which has been known for a long time as a coating for improving the surface hardness of aluminum alloy substrates, can be used. This makes it possible to use the alloy coating as a surface coating.
Ni−Pを主成分とする合金被膜は、高硬度かつ非磁性
であることや、量産性に優れた湿式メツキが可能である
こと等の特徴を有している。An alloy film containing Ni--P as a main component has characteristics such as being highly hard and non-magnetic, and being wet-plated with excellent mass productivity.
■特開昭61−187117号公報に開示された技術
これは、TiもしくはTi化合物の被膜をイオンブレー
ティング法を用いて合成樹脂基板の表面に形成するもの
である。このような方法によっても、基板表面の硬度お
よび粗度を向上させることができる。(2) Technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 187117/1983 This technique forms a film of Ti or a Ti compound on the surface of a synthetic resin substrate using an ion blasting method. Such a method can also improve the hardness and roughness of the substrate surface.
[発明が解決しようとする課題]
しかし、上述のごとき従来の磁気記録媒体用基板には、
以下のような課題があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, the conventional magnetic recording medium substrates described above have the following problems:
The following issues were encountered.
■特開昭59−213025号公報に開示された技術に
は、基板の形成に使用する樹脂が、KBS樹脂および/
またはMBS樹脂とポリカーボネート樹脂の混合組成物
に限定されるため、より成形性に優れた樹脂や耐熱性に
(炎れた樹脂の使用が制限されてしまうという課題があ
った。■The technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 59-213025 has a technique in which the resin used for forming the substrate is KBS resin and/or KBS resin.
Alternatively, since it is limited to a mixed composition of MBS resin and polycarbonate resin, there is a problem that the use of resins with better moldability and heat resistance (flamed resins) is restricted.
また、基板原料としてABS樹脂を混合させると基板の
耐熱性を低下させるため、記録膜の形成に際して、スパ
ッタ法等の耐熱性を要求される方法を使用することが困
難であるという課題もあった。In addition, when ABS resin is mixed as a substrate raw material, the heat resistance of the substrate decreases, so there is a problem that it is difficult to use a method that requires heat resistance such as sputtering when forming a recording film. .
さらに、この磁気記録媒体用基板はメツキ層形成中に基
体表面が粗面化されることによって基体とメツキ層の密
着性を向上させているが、このような方法で得られる密
着力では磁気記録媒体として実使用に供するには充分と
はいえず、密着性の向上が望まれていた。Furthermore, in this magnetic recording medium substrate, the surface of the substrate is roughened during the formation of the plating layer to improve the adhesion between the substrate and the plating layer, but the adhesion obtained by this method is insufficient for magnetic recording. It cannot be said that it is sufficient for practical use as a medium, and improvement in adhesion has been desired.
■特開昭61−187117に示される技術では、磁気
記録媒体として使用される際に必要な硬度を得るには数
μm程度のTiもしくはTi化合物の被膜を形成する必
要があるが、このような被膜をイオンブレーティング法
で形成するためにはjF−常な長時間を必要とするため
、コスト高の原因となるという課題を有していた。また
、被膜形成時に樹脂製磁気記録用基板が被る熱的障害も
多大であり、基板の変形等の原因となるという課題もあ
った。■The technology shown in JP-A No. 61-187117 requires the formation of a Ti or Ti compound coating of several micrometers in order to obtain the necessary hardness when used as a magnetic recording medium. In order to form a film by the ion blasting method, a long time is required, which causes a problem of high cost. Furthermore, there is also a problem in that the resin magnetic recording substrate suffers from a great deal of thermal damage during film formation, which causes deformation of the substrate.
本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものであ
り、耐熱性や密着性に優れ、表面硬度の高い合成樹脂製
の磁気記録媒体用基板を安価に提供することを目的とす
る。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a synthetic resin substrate for a magnetic recording medium that is excellent in heat resistance and adhesion and has high surface hardness at a low cost.
[課題を解決するための手段]
本発明の要旨は、合成樹脂製基板上に少なくともN i
−Pを主成分とする合金被膜を形成してなる6fi気記
録媒体用基板であって、当該合成樹脂製基板の表面近傍
に少なくとも1種類以上の金属イオンが注入されて金属
イオン注入層が形成され、当該金属イオン注入層上に前
記Ni−Pを主成分とする合金被1摸が形成されたこと
を特徴とする磁気記録媒体用基板に存在する。[Means for Solving the Problems] The gist of the present invention is to provide at least Ni
- A substrate for a 6fi recording medium formed with an alloy film mainly composed of P, wherein at least one type of metal ion is implanted near the surface of the synthetic resin substrate to form a metal ion implantation layer. A substrate for a magnetic recording medium is provided, characterized in that a sample of the alloy containing Ni--P as a main component is formed on the metal ion implantation layer.
以下、本発明の構成について、詳細に説明する。Hereinafter, the configuration of the present invention will be explained in detail.
(合成樹脂基板)
本発明に使用される合成樹脂基板としては、例えば、ア
クリル系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、エポキ
シ系などの1種もしくは2f!以上の混合樹脂により形
成されたものが使用可能である。また、ガラスiaf&
、アルミナ粒子などの充填剤を含んでもよい。(Synthetic resin substrate) The synthetic resin substrate used in the present invention may be one of acrylic, polycarbonate, polyimide, epoxy, etc. or 2F! Those formed from the above mixed resins can be used. Also, glass iaf &
, fillers such as alumina particles.
(金属イオンの注入) 本発明では、上記合成樹脂基板にイオン注入を行なう。(Injection of metal ions) In the present invention, ions are implanted into the synthetic resin substrate.
イオン化可能は、t X 10−5Torr〜l X
10Torr程度の真空下で行うことが望ましい。Ionizability is tX 10-5Torr~lX
It is preferable to perform this under a vacuum of about 10 Torr.
注入されるイオン種は、イオン化可能な金属であれば何
でもよいが、非磁性金属を用いることが好ましい。これ
は、本発明の磁気記録媒体用基板を用いて形成した磁気
記録媒体を実使用する際の陽気記録再生特性を損なわな
いためである。ざらに、後述する工程によりN i−P
を主成分とする合金被膜を形成する際に湿式メツキ法を
用いるため、浴を汚染することの少ないイオン種を注入
することか好ましい。浴を汚染することの少ないイオン
種としては、A℃、Au、Cu、Moなどが挙げられる
。The ion species to be implanted may be any metal as long as it can be ionized, but it is preferable to use a nonmagnetic metal. This is to avoid impairing the positive recording and reproducing characteristics when a magnetic recording medium formed using the magnetic recording medium substrate of the present invention is actually used. Roughly, by the steps described below, N i-P
Since a wet plating method is used to form an alloy film mainly composed of , it is preferable to implant ionic species that are less likely to contaminate the bath. Examples of ion species that rarely contaminate the bath include A.degree. C., Au, Cu, and Mo.
イオン注入の際の加速電圧は10kV〜IOMVの範囲
内にすることが好ましい。なぜなら、10kV以下であ
るとイオンに与えられるエネルギーが小さすぎて充分な
イオン注入を行うことができず、また、IOMV以上で
はイオン注入した表面が脆弱となってNi−Pを主成分
とする合金被1模との密着性が低下するからである。こ
のような条件下でのイオン注入量は10′3個/Cm2
〜1020個/ c m 2の範囲内であることが好ま
しい。The acceleration voltage during ion implantation is preferably within the range of 10 kV to IOMV. This is because if it is less than 10 kV, the energy given to the ions is too small and sufficient ion implantation cannot be performed, and if it is more than IOMV, the ion-implanted surface becomes brittle and the This is because the adhesion to the first pattern decreases. The amount of ions implanted under these conditions is 10'3/Cm2
It is preferably within the range of ~1020 pieces/cm2.
イオン注入により形成されるイオン注入層の厚みは、5
00〜t oooo人の範囲内であることが好ましい。The thickness of the ion implantation layer formed by ion implantation is 5
Preferably, the number is within the range of 00 to 000 people.
なぜなら、500人未満では所望の性能(表面硬度、C
SS特性、Ni−Pメツキ層との密着性等)が発揮され
ず、また、t ooo。This is because the desired performance (surface hardness, C
SS characteristics, adhesion with Ni-P plating layer, etc.) were not exhibited, and too.
人を超えてもそれ以上性能は向上しないばかりか却って
生産性が悪化するからである。This is because even if you surpass humans, not only will your performance not improve any further, but your productivity will actually deteriorate.
(Ni−Pを主成分とする合金被膜)
次に、本発明では、イオン注入をした合成樹脂基板上に
Ni−Pを主成分とする合金被膜を形成する。(Alloy coating mainly composed of Ni-P) Next, in the present invention, an alloy coating mainly composed of Ni-P is formed on the ion-implanted synthetic resin substrate.
Ni−Pを主成分とする合金被膜の形成方法としては、
例えば湿式メツキ法が使用可能である。中でも特に、均
一な厚さのM膜を量産製良く形成することが可能な、無
電解メツキ法が好ましい。As a method for forming an alloy film containing Ni-P as the main component,
For example, a wet plating method can be used. Among these, the electroless plating method is particularly preferred because it allows mass production of an M film with a uniform thickness.
Ni−Pを主成分とする合金被膜の厚みは2μm〜20
μmであることが好ましい。なぜなら、2μm以上では
所望の性能(表面硬度、C3S特性等)が発揮されず、
20μmを超えてもそれ以上性能は向上しないばかりか
却って生産性が悪化するからである。The thickness of the alloy film mainly composed of Ni-P is 2 μm to 20 μm.
Preferably it is μm. This is because the desired performance (surface hardness, C3S properties, etc.) cannot be achieved with a thickness of 2 μm or more.
This is because, even if the thickness exceeds 20 μm, not only the performance will not improve any further, but also the productivity will deteriorate.
なお、C5S特性をより優れたものとするために、テク
スチャリング処理を施しても良い。Note that texturing processing may be performed to improve the C5S characteristics.
[作用]
本発明によれば、合成樹脂により形成した基板の表面に
金属イオンを注入したので、当該基板の表面にNi−P
を主成分とする合金被膜を湿式メツキ法により密着性よ
く形成することができる。すなわち、密着性に優れた高
硬度の表面被膜を有するiB磁気記録媒体用基板得るこ
とか可能となる。なお、イオン注入では過大な熱が発生
しないので、合成樹脂基板の熱変形等の障害は発生しな
い。[Function] According to the present invention, since metal ions are implanted into the surface of the substrate formed of synthetic resin, Ni-P is added to the surface of the substrate.
An alloy film mainly composed of can be formed with good adhesion by a wet plating method. That is, it becomes possible to obtain a substrate for an iB magnetic recording medium having a highly hard surface coating with excellent adhesion. Note that, since excessive heat is not generated during ion implantation, problems such as thermal deformation of the synthetic resin substrate do not occur.
さらに、本発明の磁気記録媒体用基板は、従来のアルミ
合金製基板の製造に使用されているNi−Pメツキプロ
セスを大きく変更することなしに製造することが可能で
あるので、非常に安価に製造することができる。Furthermore, the magnetic recording medium substrate of the present invention can be manufactured at a very low cost because it can be manufactured without major changes to the Ni-P plating process used to manufacture conventional aluminum alloy substrates. can be manufactured.
[実施例]
以下、本発明の1実施例について説明する。なお、本実
施例においては、磁気記録媒体用基板の一例として、t
n気気ディスク基板の場合について説明する。[Example] Hereinafter, one example of the present invention will be described. In this example, as an example of a magnetic recording medium substrate, t
The case of an n-air disk substrate will be explained.
第1図は、本実施例に係るla気気ディスク基板を示す
模式的断面図である。図において、1は合成樹脂基板と
してのポリエーテルイミド製基板、2は合成樹脂基板の
金属イオンを主人J包(金属イオンとしてはA℃イオン
を用いた)、3はNL−P合金被膜である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an LA air disk substrate according to this embodiment. In the figure, 1 is a polyetherimide substrate as a synthetic resin substrate, 2 is a J envelope containing metal ions of the synthetic resin substrate (A°C ions were used as metal ions), and 3 is an NL-P alloy coating. .
本実施例に係わる磁気ディスク用基板は、以下のように
して作製した。The magnetic disk substrate according to this example was manufactured as follows.
■ポリエーテルイミド製基板を、射出成形法により作製
した。■A polyetherimide substrate was produced by injection molding.
■この基板に、イオン注入装置を用いて、ALLイオン
を注入し、厚さ5000人のイオン注入層を形成した。(2) ALL ions were implanted into this substrate using an ion implantation device to form an ion implantation layer with a thickness of 5,000 ions.
A℃イオンの注入は、I X 10−6Tartの真空
雰囲気下で、加速電圧800kVで行ない、注入量は1
0′6個/ c m ’ とした。A℃ ion implantation was performed in a vacuum atmosphere of I x 10-6 Tart at an accelerating voltage of 800 kV, and the implantation amount was 1.
0'6 pieces/cm'.
■この基板に厚さ10μmのN i 85wt%−P1
5wt%の合金被膜を、無電解めっき法を用いて形成し
た。■Ni 85wt%-P1 with a thickness of 10μm on this substrate
A 5 wt % alloy film was formed using an electroless plating method.
以上の工程によって、本実施例に係る磁気ディスク基板
を得た。Through the above steps, a magnetic disk substrate according to this example was obtained.
このようにして得られた磁気ディスク基板の表面硬度を
マイクロビッカース法により測定した結果、荷重25g
において750であった。As a result of measuring the surface hardness of the thus obtained magnetic disk substrate by the micro-Vickers method, it was found that the load was 25 g.
It was 750.
次に、JIS H8504けい線試験方法および引き
はがし試験方法(テープ試験方法;−辺2mmの条痕付
き)により、本実施例に係る磁気ディスク基板のNi−
P合金被膜の密着強度の評価を行なった。なお、比較の
ために、イオン注入をおこなわずにNi−P合金?!膜
を形成した磁気ディスク基板(すなわち、上記工程■を
経ずに作成し、他の条件はすべて同じとした磁気ディス
ク基板)についても同様の評価を行なった。これらの結
果を第1表に示す。Next, the Ni-
The adhesion strength of the P alloy film was evaluated. For comparison, Ni-P alloy without ion implantation? ! A similar evaluation was performed on a magnetic disk substrate on which a film was formed (that is, a magnetic disk substrate prepared without going through the above step (2) and with all other conditions being the same). These results are shown in Table 1.
第1表より明らかなように、本実施例の61気記録媒体
用基板はNi−P合金被膜の剥離が全く生じず、その密
着強度は非常に優れていることがわかった。As is clear from Table 1, in the 61-air recording medium substrate of this example, the Ni--P alloy coating did not peel off at all, and its adhesion strength was found to be very excellent.
第1表
磁気ディスク用基板の場合を例にとって説明したが、他
の磁気記録媒体に用いる基板においても同様の結果を得
た。Although the case of the magnetic disk substrate shown in Table 1 has been explained as an example, similar results were obtained with substrates used for other magnetic recording media.
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、合成樹脂基体の
表面に密着性に優れた高硬度のNi−Pを主成分とする
合金被膜を形成することかできるので、軽量で信頼性に
優れ、量産性の良いtl磁気記録媒体用基板提供するこ
とが可能となる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, it is possible to form a high-hardness alloy film mainly composed of Ni-P with excellent adhesion on the surface of a synthetic resin substrate, which makes it lightweight. Therefore, it becomes possible to provide a substrate for a TL magnetic recording medium that has excellent reliability and is easy to mass-produce.
第1図は、本実施例に係る磁気ディスク用基板を示す模
式的断面図である。
1・・・合成樹脂基板としてのポリエーテルイミド製基
板、2・・・合成樹脂基板の金属イオン注入層、3・・
・Ni−P合金被膜。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a magnetic disk substrate according to this embodiment. 1... Polyetherimide substrate as a synthetic resin substrate, 2... Metal ion implantation layer of synthetic resin substrate, 3...
・Ni-P alloy coating.
Claims (2)
とする合金被膜を形成してなる磁気記録媒体用基板であ
って、当該合成樹脂製基板の表面近傍に少なくとも1種
類以上の金属イオンが注入されて金属イオン注入層が形
成され、当該金属イオン注入層上に前記Ni−Pを主成
分とする合金被膜が形成されていることを特徴とする磁
気記録媒体用基板。(1) A magnetic recording medium substrate formed by forming an alloy film containing at least Ni-P as a main component on a synthetic resin substrate, wherein at least one type of metal ion is present near the surface of the synthetic resin substrate. 1. A substrate for a magnetic recording medium, characterized in that a metal ion implantation layer is formed by implanting Ni--P, and an alloy film containing Ni--P as a main component is formed on the metal ion implantation layer.
性金属のイオンであることを特徴とする請求項1に記載
の磁気記録媒体用基板。(2) The substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the metal ions injected into the synthetic resin substrate are nonmagnetic metal ions.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14017789A JPH035918A (en) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | Substrate for magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14017789A JPH035918A (en) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | Substrate for magnetic recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035918A true JPH035918A (en) | 1991-01-11 |
Family
ID=15262684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14017789A Pending JPH035918A (en) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | Substrate for magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH035918A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7160571B2 (en) | 2001-12-25 | 2007-01-09 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a magnetic recording medium |
| EP1760699A1 (en) * | 2005-08-30 | 2007-03-07 | Konica Minolta Opto, Inc. | Substrate for magnetic information recording medium, and producing method of substrate for magnetic information recording medium |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP14017789A patent/JPH035918A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7160571B2 (en) | 2001-12-25 | 2007-01-09 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a magnetic recording medium |
| EP1760699A1 (en) * | 2005-08-30 | 2007-03-07 | Konica Minolta Opto, Inc. | Substrate for magnetic information recording medium, and producing method of substrate for magnetic information recording medium |
| JP2007066390A (en) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Konica Minolta Opto Inc | Substrate for magnetic recording medium and method for manufacturing substrate for magnetic recording medium |
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