JPH035918A - 磁気記録媒体用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、Ｌ磁気記録媒体用基板に関し、より詳細には
、合成樹脂基板の表面にＮ　ｉ−Ｐを主成分とする合金
）喫；漠を形成してなる磁気記録媒体用基板に関する。

［従来の技術］ 近年、磁気記録媒体用基板として、合成樹脂基板を使用
する検討がなされている。合成樹脂基板は、アルミニウ
ム合金基板よりも軽量で、衝撃に強く、かつ、加工が容
易であるという特徴を有する。また、合成樹脂基板にお
いては、基板表面の硬度を向上させて十分なＣＳＳ特性
や耐擦傷性を得るため、基板の表面に高硬度の被膜を形
成する試みがなされている。従来、表面に高硬度の被膜
を形成した合成樹脂基板としては、例えば、以下のよう
なものが知られていた。

■特開昭５９−２１３０２５号公報に開示された技術 これは、基板を形成する合成樹脂としてＡＢＳ樹脂およ
び／またはＭＢＳ樹脂とポリカーボネート樹脂の混合組
成物を用い、Ｎｉ−Ｐを主成分とする合金被膜を湿式メ
ツキ法により該合成樹脂基板上に形成したものである。

すなわち、基板を形成する合成樹脂としてＡＢＳ樹脂等
とポリ力−ボネート樹脂の混合組成物を用いることによ
り、アルミ合金性基板の表面硬度を向上させるための被
膜として以前より知られていたＮｉ−Ｐ合金被膜を表面
被膜として使用することを可能としたものである。

Ｎｉ−Ｐを主成分とする合金被膜は、高硬度かつ非磁性
であることや、量産性に優れた湿式メツキが可能である
こと等の特徴を有している。

■特開昭６１−１８７１１７号公報に開示された技術 これは、ＴｉもしくはＴｉ化合物の被膜をイオンブレー
ティング法を用いて合成樹脂基板の表面に形成するもの
である。このような方法によっても、基板表面の硬度お
よび粗度を向上させることができる。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、上述のごとき従来の磁気記録媒体用基板には、
以下のような課題があった。

■特開昭５９−２１３０２５号公報に開示された技術に
は、基板の形成に使用する樹脂が、ＫＢＳ樹脂および／
またはＭＢＳ樹脂とポリカーボネート樹脂の混合組成物
に限定されるため、より成形性に優れた樹脂や耐熱性に
（炎れた樹脂の使用が制限されてしまうという課題があ
った。

また、基板原料としてＡＢＳ樹脂を混合させると基板の
耐熱性を低下させるため、記録膜の形成に際して、スパ
ッタ法等の耐熱性を要求される方法を使用することが困
難であるという課題もあった。

さらに、この磁気記録媒体用基板はメツキ層形成中に基
体表面が粗面化されることによって基体とメツキ層の密
着性を向上させているが、このような方法で得られる密
着力では磁気記録媒体として実使用に供するには充分と
はいえず、密着性の向上が望まれていた。

■特開昭６１−１８７１１７に示される技術では、磁気
記録媒体として使用される際に必要な硬度を得るには数
μｍ程度のＴｉもしくはＴｉ化合物の被膜を形成する必
要があるが、このような被膜をイオンブレーティング法
で形成するためにはｊＦ−常な長時間を必要とするため
、コスト高の原因となるという課題を有していた。また
、被膜形成時に樹脂製磁気記録用基板が被る熱的障害も
多大であり、基板の変形等の原因となるという課題もあ
った。

本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものであ
り、耐熱性や密着性に優れ、表面硬度の高い合成樹脂製
の磁気記録媒体用基板を安価に提供することを目的とす
る。

［課題を解決するための手段］ 本発明の要旨は、合成樹脂製基板上に少なくともＮ　ｉ
−Ｐを主成分とする合金被膜を形成してなる６ｆｉ気記
録媒体用基板であって、当該合成樹脂製基板の表面近傍
に少なくとも１種類以上の金属イオンが注入されて金属
イオン注入層が形成され、当該金属イオン注入層上に前
記Ｎｉ−Ｐを主成分とする合金被１摸が形成されたこと
を特徴とする磁気記録媒体用基板に存在する。

以下、本発明の構成について、詳細に説明する。

（合成樹脂基板） 本発明に使用される合成樹脂基板としては、例えば、ア
クリル系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、エポキ
シ系などの１種もしくは２ｆ！以上の混合樹脂により形
成されたものが使用可能である。また、ガラスｉａｆ＆
、アルミナ粒子などの充填剤を含んでもよい。

（金属イオンの注入） 本発明では、上記合成樹脂基板にイオン注入を行なう。

イオン化可能は、ｔ　Ｘ　１０−５Ｔｏｒｒ〜ｌ　Ｘ　
１０Ｔｏｒｒ程度の真空下で行うことが望ましい。

注入されるイオン種は、イオン化可能な金属であれば何
でもよいが、非磁性金属を用いることが好ましい。これ
は、本発明の磁気記録媒体用基板を用いて形成した磁気
記録媒体を実使用する際の陽気記録再生特性を損なわな
いためである。ざらに、後述する工程によりＮ　ｉ−Ｐ
を主成分とする合金被膜を形成する際に湿式メツキ法を
用いるため、浴を汚染することの少ないイオン種を注入
することか好ましい。浴を汚染することの少ないイオン
種としては、Ａ℃、Ａｕ、Ｃｕ、Ｍｏなどが挙げられる
。

イオン注入の際の加速電圧は１０ｋＶ〜ＩＯＭＶの範囲
内にすることが好ましい。なぜなら、１０ｋＶ以下であ
るとイオンに与えられるエネルギーが小さすぎて充分な
イオン注入を行うことができず、また、ＩＯＭＶ以上で
はイオン注入した表面が脆弱となってＮｉ−Ｐを主成分
とする合金被１模との密着性が低下するからである。こ
のような条件下でのイオン注入量は１０′３個／Ｃｍ２
〜１０２０個／　ｃ　ｍ　２の範囲内であることが好ま
しい。

イオン注入により形成されるイオン注入層の厚みは、５
００〜ｔ　ｏｏｏｏ人の範囲内であることが好ましい。

なぜなら、５００人未満では所望の性能（表面硬度、Ｃ
ＳＳ特性、Ｎｉ−Ｐメツキ層との密着性等）が発揮され
ず、また、ｔ　ｏｏｏ。

人を超えてもそれ以上性能は向上しないばかりか却って
生産性が悪化するからである。

（Ｎｉ−Ｐを主成分とする合金被膜） 次に、本発明では、イオン注入をした合成樹脂基板上に
Ｎｉ−Ｐを主成分とする合金被膜を形成する。

Ｎｉ−Ｐを主成分とする合金被膜の形成方法としては、
例えば湿式メツキ法が使用可能である。中でも特に、均
一な厚さのＭ膜を量産製良く形成することが可能な、無
電解メツキ法が好ましい。

Ｎｉ−Ｐを主成分とする合金被膜の厚みは２μｍ〜２０
μｍであることが好ましい。なぜなら、２μｍ以上では
所望の性能（表面硬度、Ｃ３Ｓ特性等）が発揮されず、
２０μｍを超えてもそれ以上性能は向上しないばかりか
却って生産性が悪化するからである。

なお、Ｃ５Ｓ特性をより優れたものとするために、テク
スチャリング処理を施しても良い。

［作用］ 本発明によれば、合成樹脂により形成した基板の表面に
金属イオンを注入したので、当該基板の表面にＮｉ−Ｐ
を主成分とする合金被膜を湿式メツキ法により密着性よ
く形成することができる。すなわち、密着性に優れた高
硬度の表面被膜を有するｉＢ磁気記録媒体用基板得るこ
とか可能となる。なお、イオン注入では過大な熱が発生
しないので、合成樹脂基板の熱変形等の障害は発生しな
い。

さらに、本発明の磁気記録媒体用基板は、従来のアルミ
合金製基板の製造に使用されているＮｉ−Ｐメツキプロ
セスを大きく変更することなしに製造することが可能で
あるので、非常に安価に製造することができる。

［実施例］ 以下、本発明の１実施例について説明する。なお、本実
施例においては、磁気記録媒体用基板の一例として、ｔ
ｎ気気ディスク基板の場合について説明する。

第１図は、本実施例に係るｌａ気気ディスク基板を示す
模式的断面図である。図において、１は合成樹脂基板と
してのポリエーテルイミド製基板、２は合成樹脂基板の
金属イオンを主人Ｊ包（金属イオンとしてはＡ℃イオン
を用いた）、３はＮＬ−Ｐ合金被膜である。

本実施例に係わる磁気ディスク用基板は、以下のように
して作製した。

■ポリエーテルイミド製基板を、射出成形法により作製
した。

■この基板に、イオン注入装置を用いて、ＡＬＬイオン
を注入し、厚さ５０００人のイオン注入層を形成した。

Ａ℃イオンの注入は、Ｉ　Ｘ　１０−６Ｔａｒｔの真空
雰囲気下で、加速電圧８００ｋＶで行ない、注入量は１
０′６個／　ｃ　ｍ　’　とした。

■この基板に厚さ１０μｍのＮ　ｉ　８５ｗｔ％−Ｐ１
５ｗｔ％の合金被膜を、無電解めっき法を用いて形成し
た。

以上の工程によって、本実施例に係る磁気ディスク基板
を得た。

このようにして得られた磁気ディスク基板の表面硬度を
マイクロビッカース法により測定した結果、荷重２５ｇ
において７５０であった。

次に、ＪＩＳ　　Ｈ８５０４けい線試験方法および引き
はがし試験方法（テープ試験方法；−辺２ｍｍの条痕付
き）により、本実施例に係る磁気ディスク基板のＮｉ−
Ｐ合金被膜の密着強度の評価を行なった。なお、比較の
ために、イオン注入をおこなわずにＮｉ−Ｐ合金？！膜
を形成した磁気ディスク基板（すなわち、上記工程■を
経ずに作成し、他の条件はすべて同じとした磁気ディス
ク基板）についても同様の評価を行なった。これらの結
果を第１表に示す。

第１表より明らかなように、本実施例の６１気記録媒体
用基板はＮｉ−Ｐ合金被膜の剥離が全く生じず、その密
着強度は非常に優れていることがわかった。

第１表 磁気ディスク用基板の場合を例にとって説明したが、他
の磁気記録媒体に用いる基板においても同様の結果を得
た。

［発明の効果コ 以上説明したように、本発明によれば、合成樹脂基体の
表面に密着性に優れた高硬度のＮｉ−Ｐを主成分とする
合金被膜を形成することかできるので、軽量で信頼性に
優れ、量産性の良いｔｌ磁気記録媒体用基板提供するこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本実施例に係る磁気ディスク用基板を示す模
式的断面図である。 １・・・合成樹脂基板としてのポリエーテルイミド製基
板、２・・・合成樹脂基板の金属イオン注入層、３・・
・Ｎｉ−Ｐ合金被膜。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）合成樹脂製基板上に少なくともＮｉ−Ｐを主成分
   とする合金被膜を形成してなる磁気記録媒体用基板であ
   って、当該合成樹脂製基板の表面近傍に少なくとも１種
   類以上の金属イオンが注入されて金属イオン注入層が形
   成され、当該金属イオン注入層上に前記Ｎｉ−Ｐを主成
   分とする合金被膜が形成されていることを特徴とする磁
   気記録媒体用基板。
2. （２）前記合成樹脂製基板に注入する金属イオンが非磁
   性金属のイオンであることを特徴とする請求項１に記載
   の磁気記録媒体用基板。