JPH0359982B2 - - Google Patents
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- JPH0359982B2 JPH0359982B2 JP58097010A JP9701083A JPH0359982B2 JP H0359982 B2 JPH0359982 B2 JP H0359982B2 JP 58097010 A JP58097010 A JP 58097010A JP 9701083 A JP9701083 A JP 9701083A JP H0359982 B2 JPH0359982 B2 JP H0359982B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molded product
- metal
- layer
- synthetic resin
- resin molded
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
技術分野
本発明は、合成樹脂成形品表面への金属薄膜形
成方法及び成形品に関するものであり、特に可塑
剤を多量に含む軟質PVC成形品の表面に、可塑
剤ブリードアウト防止架橋層と蒸着金属層とを同
時に与える方法及び成形品に関するものである。 従来技術 一般に、合成樹脂成形品の蒸着に於いては、蒸
着金属と当該成形品との接着性を上げる為、成形
品表面をクロム酸混液、コロナ放電、低温プラズ
マ等の方法で処理している。しかし、クロム酸混
液法に於いてはその廃液処理に問題があり、コロ
ナ放電法に於いては成形品表面に付着している汚
れ、或いは成形品内部より滲出してくる可塑剤等
の接着性阻害物質を完全に除去・防止出来ない
し、又低温プラズマ処理に於いてはその工程がプ
ラズマ処理と蒸着との２段階に分かれている為、
製品原価の面からも、また中間品の保存方法でも
問題が多い。 合成樹脂成形品のうち、特に軟質PVCを用い
たものは、その易成形性、低コスト性、高強度性
等の特徴から、広くあらゆる用途に使われてい
る。しかし、軟質PVC成形品はその成形時に於
いて、可塑剤、安定剤、充填剤、滑剤、紫外線吸
収剤、酸化防止剤、防徴剤、接着剤、顔料等を用
途に応じて添加している為、これらの添加物が成
形時の熱及び圧力に依つて、或いは、放置時に於
いては時間の経過と共に、成形品表面にブリード
アウトして来るという欠点を有している。この欠
点の為、PVCフイルムへの金属蒸着は、充分な
接着性を得ることが出来ず、又初期的に良い接着
性を示すものでも、時間の経過と共に金属が剥離
してくると言う欠陥があつた。 発明の概要 本発明は、このような問題を解決すべく鋭意検
討を重ねた結果、本発明を見出すに至つた。 本発明は、減圧下高温において発生した金属蒸
気を合成樹脂成形品表面上に蒸着して金属薄膜を
形成する方法において、前記成形品表面に無機ガ
スの低温プラズマおよび紫外光線の一方または両
方を照射しながら前記蒸着処理を施して、前記金
属薄膜の形成と同時に、前記合成樹脂成形品表層
部の樹脂を架橋させることを特徴とする、合成樹
脂成形品表面への金属薄膜形成方法を提供する。 ところで、低温プラズマ及び真空紫外光照射下
での蒸着反応機構に於いては、現在未解明の部分
も多い。しかし、本発明に於いては、紫外線が特
に重要な役割を果していると考えられる。即ち、
真空紫外光同様、低温プラズマに於いても、ガス
原子が励起状態から遷移状態へ転移す際紫外線を
発生する。これが、励起ガス原子に依る成形品表
面のスパツタ清浄化と同時に表面層での架橋を促
進していると考えられる。又、紫外線は、金属を
も透過すると言う性質を有している為、すでに金
属薄膜が形成されてしまつた成形品部分に於いて
も更に架橋が進み、完全なブリードアウト防止層
が形成される（理化学研究所監修、「プラズマ反
応による物質合成と材料処理」、アイオニクス株
式会社編集、昭和59年７月３日発行、171〜179頁
参照）。この為、本発明に依る製品の接着性は、
初期的にも又経時的に見ても、変化のない優れた
ものとなる。 発明の具体的説明 以下、この発明の詳細を説明する。 本発明の対象となる合成樹脂成形品としては、
ポリ塩化ビニル及びその共重合体成形品、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン成形
品、ポリエステル成形品、ポリアミド、ポリイミ
ド及びその共重合体成形品、ポリウレタン成形
品、MMA，BMA等のアクリル及びその共重合
体成形品、ABS，SBR等の合成ゴム成形品等、
全ての合成樹脂の分野で適用できるが、特にポリ
塩化ビニル成形品及びABS，SBR等の合成ゴム
成形品に於いてその効果が顕著で、好ましい。
又、当該成形品であれば、その形態、製法及び配
合組成に関しては、特に制約はない。 導入する無機ガスとしては、CO，CO2，O2，
N2，H2及びAr，He等の不活性ガスが挙げられ
るが、特にCO及びCOとArとの混合物が効果的
である。導入ガス量としては、器内圧力にして
10-4〜10Torrが最適であり、これより高圧とな
ると蒸着金属の推積率が極端に低下して、所定の
金属厚を得るのに長時間を要する結果となり、効
率が悪い。又、これより低圧となると励起ガス原
子に依るスパツタ清浄効果も悪く、又成形品表面
に於ける架橋効率も低下し、良好な接着性を有す
る金属被膜を得ることが不可能となる。 蒸着させる金属としては、Al，Ti等の金属導
体、ZnO，MgO等の金属酸化物、MoS等の金属
硫化物等、金属一般に関して可能であり、目的や
用途に応じて金属を選ぶことができ、特に制約を
受けるものではない。低温プラズマ処理の方法と
しては、高周波放電、マイクロ波放電、コロナ放
電等のいずれの方法に依つても良いが、特に内部
電極方式であることが望ましい。 次に第１図及び第２図を参照しながら、蒸着に
用いる装置及び条件の詳しい説明を行なう。装置
的には、高周波イオンプレーテイング装置あるい
は通常の真空蒸着装置に高周波放電用電極、直流
印加電極及びガス導入管を設置したもの（第１
図）及び高周波イオンプレーテイング装置に於い
て高周波電極の代りに水銀ランプを設置したもの
（第２図）でも良い。１は基板（陰極）、２は蒸発
槽（陽極）であり、各々の加熱温度は蒸発源、成
形品の耐熱温度に依つて決定される。又、蒸発槽
はるつぼ方式でも、電子ビーム方式でも良く、図
で示す装置に限定されるものではない。５は高周
波放電用コイルであり、最適な処理電力は50〜
500Wであり、特に50〜300Wであることが好まし
い。５′は水銀ランプであり、最適な処理電力は
100〜500W、紫外線領域は100〜250nmであり、
特に好ましくは処理電力200〜350W、紫外線領域
100〜250nmである。６は遮蔽板であり、特に材
質は選ばないが、望ましくは基板側表面を
AlMgF2等紫外線反射能を持つた金属にてコーテ
イングしてあるものが効率を高める為にも良い。
９は直流電源であり、その印加電圧は0.05〜5kV
であり、最適値は、蒸着金属に依つて決定され
る。 尚、第１図及び第２図において、３は加熱ヒー
タ、４はガス導入管、７は蒸着用試料、１０はガ
スボンベ、１１は高周波電源、１１′は光発振回
路、１２は真空ポンプ、１３は熱電対である。処
理時間としては、低温プラズマ雰囲気中で、蒸着
を行なう場合20〜80分が最適であり、これにより
短かい場合には成形品表面の架橋層が薄く、満足
出来る接着性、耐久性を有するものは得られない
し、これより長い場合には励起ガス分子に依る金
属表面のエツチングが進行し、平滑な表面が得ら
れない。又、真空紫外光照射下で蒸発を行なう場
合、10〜60分が最適であり、これより短かい場
合、充分な膜厚の蒸着金属層が得られないし、こ
れにより長い場合成形品そのものの樹脂劣化を招
く結果となる。 蒸着後の最終製品の形態は、特に軟質PVCに
於いて、金属表面側から見て、蒸着金属層１４、
軟質PVC架橋層１５及び軟質PVC１６からなる
３層構造（第３図）を有し、軟質PVC架橋層が
可塑剤その他の接着性阻害物質の滲出防止層とし
て作用する。又、用途に依つては、両面に金属蒸
着層を設けても良いし、或いは片面が金属蒸着層
でもう片面が低温プラズマ処理及び／又は真空紫
外光照射のみに依る架橋層を有するものでも良
い。 このように、本発明で得られる各種蒸着成形物
は、その応用範囲、用途も広く、例えば、軟質
PVCフイルムにAlを蒸着したものは遮熱関係の
壁材、保温・保冷袋、包装用フイルム等として今
まで軟質PVCフイルムでは下可能とされた分野
にも適用されるものと考えられる。 実施例 次に本発明の実施例を示す。 実施例 １ 処理サンプルとしてPVC（デンカSS−103）100
重量部、DOP（ジオクチルフタレート）60重量
部、EPS（エポキシ化大豆油）３重量部、Ba−Zn
系安定剤２部で配合調整したものを、加熱ロール
にて0.1mmのフイルムとし、これを試料とする。
この物を第１図に示した装置内の所定の位置に設
置し、いつたん器内を10-5Torrまで排気した後、
ガス導入管を通じてCO／Ar（混合比７／３）を
入れ、器内の圧力が0.05Torrに保たれるように
し、消費電力200Wにてグロー放電を行なつた。
蒸着金属としてはAlを用い、直流印加電圧200V、
基板温度80℃、るつぼ温度900℃の条件で行なつ
た。 金属とフイルムとの接着力は基盤目法にて測定
した。結果を第１表に示す。 （※注）基盤目法；表面に樹脂又は金属をコーテ
イングしたフイルムを１cm角に切り取
り、タテ・ヨコ方向各々１mm間隔に切
り込みを入れ、計100個のマスを作る。
市販のセロテープを、そのフイルムに
貼り付け、その上を荷重１Kgの金属棒
にて強く10回こすりつける。その後、
セロハンテープを剥ぎ取り、コーテイ
ング物の剥離の具合を見る。剥離の状
態は、残つたコーテイング物のマス目
の数（保持率；％）で表わす。
成方法及び成形品に関するものであり、特に可塑
剤を多量に含む軟質PVC成形品の表面に、可塑
剤ブリードアウト防止架橋層と蒸着金属層とを同
時に与える方法及び成形品に関するものである。 従来技術 一般に、合成樹脂成形品の蒸着に於いては、蒸
着金属と当該成形品との接着性を上げる為、成形
品表面をクロム酸混液、コロナ放電、低温プラズ
マ等の方法で処理している。しかし、クロム酸混
液法に於いてはその廃液処理に問題があり、コロ
ナ放電法に於いては成形品表面に付着している汚
れ、或いは成形品内部より滲出してくる可塑剤等
の接着性阻害物質を完全に除去・防止出来ない
し、又低温プラズマ処理に於いてはその工程がプ
ラズマ処理と蒸着との２段階に分かれている為、
製品原価の面からも、また中間品の保存方法でも
問題が多い。 合成樹脂成形品のうち、特に軟質PVCを用い
たものは、その易成形性、低コスト性、高強度性
等の特徴から、広くあらゆる用途に使われてい
る。しかし、軟質PVC成形品はその成形時に於
いて、可塑剤、安定剤、充填剤、滑剤、紫外線吸
収剤、酸化防止剤、防徴剤、接着剤、顔料等を用
途に応じて添加している為、これらの添加物が成
形時の熱及び圧力に依つて、或いは、放置時に於
いては時間の経過と共に、成形品表面にブリード
アウトして来るという欠点を有している。この欠
点の為、PVCフイルムへの金属蒸着は、充分な
接着性を得ることが出来ず、又初期的に良い接着
性を示すものでも、時間の経過と共に金属が剥離
してくると言う欠陥があつた。 発明の概要 本発明は、このような問題を解決すべく鋭意検
討を重ねた結果、本発明を見出すに至つた。 本発明は、減圧下高温において発生した金属蒸
気を合成樹脂成形品表面上に蒸着して金属薄膜を
形成する方法において、前記成形品表面に無機ガ
スの低温プラズマおよび紫外光線の一方または両
方を照射しながら前記蒸着処理を施して、前記金
属薄膜の形成と同時に、前記合成樹脂成形品表層
部の樹脂を架橋させることを特徴とする、合成樹
脂成形品表面への金属薄膜形成方法を提供する。 ところで、低温プラズマ及び真空紫外光照射下
での蒸着反応機構に於いては、現在未解明の部分
も多い。しかし、本発明に於いては、紫外線が特
に重要な役割を果していると考えられる。即ち、
真空紫外光同様、低温プラズマに於いても、ガス
原子が励起状態から遷移状態へ転移す際紫外線を
発生する。これが、励起ガス原子に依る成形品表
面のスパツタ清浄化と同時に表面層での架橋を促
進していると考えられる。又、紫外線は、金属を
も透過すると言う性質を有している為、すでに金
属薄膜が形成されてしまつた成形品部分に於いて
も更に架橋が進み、完全なブリードアウト防止層
が形成される（理化学研究所監修、「プラズマ反
応による物質合成と材料処理」、アイオニクス株
式会社編集、昭和59年７月３日発行、171〜179頁
参照）。この為、本発明に依る製品の接着性は、
初期的にも又経時的に見ても、変化のない優れた
ものとなる。 発明の具体的説明 以下、この発明の詳細を説明する。 本発明の対象となる合成樹脂成形品としては、
ポリ塩化ビニル及びその共重合体成形品、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン成形
品、ポリエステル成形品、ポリアミド、ポリイミ
ド及びその共重合体成形品、ポリウレタン成形
品、MMA，BMA等のアクリル及びその共重合
体成形品、ABS，SBR等の合成ゴム成形品等、
全ての合成樹脂の分野で適用できるが、特にポリ
塩化ビニル成形品及びABS，SBR等の合成ゴム
成形品に於いてその効果が顕著で、好ましい。
又、当該成形品であれば、その形態、製法及び配
合組成に関しては、特に制約はない。 導入する無機ガスとしては、CO，CO2，O2，
N2，H2及びAr，He等の不活性ガスが挙げられ
るが、特にCO及びCOとArとの混合物が効果的
である。導入ガス量としては、器内圧力にして
10-4〜10Torrが最適であり、これより高圧とな
ると蒸着金属の推積率が極端に低下して、所定の
金属厚を得るのに長時間を要する結果となり、効
率が悪い。又、これより低圧となると励起ガス原
子に依るスパツタ清浄効果も悪く、又成形品表面
に於ける架橋効率も低下し、良好な接着性を有す
る金属被膜を得ることが不可能となる。 蒸着させる金属としては、Al，Ti等の金属導
体、ZnO，MgO等の金属酸化物、MoS等の金属
硫化物等、金属一般に関して可能であり、目的や
用途に応じて金属を選ぶことができ、特に制約を
受けるものではない。低温プラズマ処理の方法と
しては、高周波放電、マイクロ波放電、コロナ放
電等のいずれの方法に依つても良いが、特に内部
電極方式であることが望ましい。 次に第１図及び第２図を参照しながら、蒸着に
用いる装置及び条件の詳しい説明を行なう。装置
的には、高周波イオンプレーテイング装置あるい
は通常の真空蒸着装置に高周波放電用電極、直流
印加電極及びガス導入管を設置したもの（第１
図）及び高周波イオンプレーテイング装置に於い
て高周波電極の代りに水銀ランプを設置したもの
（第２図）でも良い。１は基板（陰極）、２は蒸発
槽（陽極）であり、各々の加熱温度は蒸発源、成
形品の耐熱温度に依つて決定される。又、蒸発槽
はるつぼ方式でも、電子ビーム方式でも良く、図
で示す装置に限定されるものではない。５は高周
波放電用コイルであり、最適な処理電力は50〜
500Wであり、特に50〜300Wであることが好まし
い。５′は水銀ランプであり、最適な処理電力は
100〜500W、紫外線領域は100〜250nmであり、
特に好ましくは処理電力200〜350W、紫外線領域
100〜250nmである。６は遮蔽板であり、特に材
質は選ばないが、望ましくは基板側表面を
AlMgF2等紫外線反射能を持つた金属にてコーテ
イングしてあるものが効率を高める為にも良い。
９は直流電源であり、その印加電圧は0.05〜5kV
であり、最適値は、蒸着金属に依つて決定され
る。 尚、第１図及び第２図において、３は加熱ヒー
タ、４はガス導入管、７は蒸着用試料、１０はガ
スボンベ、１１は高周波電源、１１′は光発振回
路、１２は真空ポンプ、１３は熱電対である。処
理時間としては、低温プラズマ雰囲気中で、蒸着
を行なう場合20〜80分が最適であり、これにより
短かい場合には成形品表面の架橋層が薄く、満足
出来る接着性、耐久性を有するものは得られない
し、これより長い場合には励起ガス分子に依る金
属表面のエツチングが進行し、平滑な表面が得ら
れない。又、真空紫外光照射下で蒸発を行なう場
合、10〜60分が最適であり、これより短かい場
合、充分な膜厚の蒸着金属層が得られないし、こ
れにより長い場合成形品そのものの樹脂劣化を招
く結果となる。 蒸着後の最終製品の形態は、特に軟質PVCに
於いて、金属表面側から見て、蒸着金属層１４、
軟質PVC架橋層１５及び軟質PVC１６からなる
３層構造（第３図）を有し、軟質PVC架橋層が
可塑剤その他の接着性阻害物質の滲出防止層とし
て作用する。又、用途に依つては、両面に金属蒸
着層を設けても良いし、或いは片面が金属蒸着層
でもう片面が低温プラズマ処理及び／又は真空紫
外光照射のみに依る架橋層を有するものでも良
い。 このように、本発明で得られる各種蒸着成形物
は、その応用範囲、用途も広く、例えば、軟質
PVCフイルムにAlを蒸着したものは遮熱関係の
壁材、保温・保冷袋、包装用フイルム等として今
まで軟質PVCフイルムでは下可能とされた分野
にも適用されるものと考えられる。 実施例 次に本発明の実施例を示す。 実施例 １ 処理サンプルとしてPVC（デンカSS−103）100
重量部、DOP（ジオクチルフタレート）60重量
部、EPS（エポキシ化大豆油）３重量部、Ba−Zn
系安定剤２部で配合調整したものを、加熱ロール
にて0.1mmのフイルムとし、これを試料とする。
この物を第１図に示した装置内の所定の位置に設
置し、いつたん器内を10-5Torrまで排気した後、
ガス導入管を通じてCO／Ar（混合比７／３）を
入れ、器内の圧力が0.05Torrに保たれるように
し、消費電力200Wにてグロー放電を行なつた。
蒸着金属としてはAlを用い、直流印加電圧200V、
基板温度80℃、るつぼ温度900℃の条件で行なつ
た。 金属とフイルムとの接着力は基盤目法にて測定
した。結果を第１表に示す。 （※注）基盤目法；表面に樹脂又は金属をコーテ
イングしたフイルムを１cm角に切り取
り、タテ・ヨコ方向各々１mm間隔に切
り込みを入れ、計100個のマスを作る。
市販のセロテープを、そのフイルムに
貼り付け、その上を荷重１Kgの金属棒
にて強く10回こすりつける。その後、
セロハンテープを剥ぎ取り、コーテイ
ング物の剥離の具合を見る。剥離の状
態は、残つたコーテイング物のマス目
の数（保持率；％）で表わす。
【表】
実施例 ２
実施例１で用いたと同じ試料を第２図に示す装
置内の所定の位置にセツトし、器内排気後CO／
Ar（７／３）を、器内圧力にして0.05Torrとなる
様導入したのち、300Wの水銀ランプを用い波長
185nm又は254nmで紫外線処理を行なつた。蒸着
金属としてAlを用い、印加電圧200V、基板温度
80℃、るつぼ温度900℃の条件で行なつた。 接着性の評価は基盤目法で行なつたが、接着性
阻害物質の滲出影響を見る為、比較としてブリー
ド促進試験を行なつた試料についての測定も行な
う。結果を第２表に示す。 （※注）ブリード促進試験；70℃ギヤオープン中
に１週間放置する。
置内の所定の位置にセツトし、器内排気後CO／
Ar（７／３）を、器内圧力にして0.05Torrとなる
様導入したのち、300Wの水銀ランプを用い波長
185nm又は254nmで紫外線処理を行なつた。蒸着
金属としてAlを用い、印加電圧200V、基板温度
80℃、るつぼ温度900℃の条件で行なつた。 接着性の評価は基盤目法で行なつたが、接着性
阻害物質の滲出影響を見る為、比較としてブリー
ド促進試験を行なつた試料についての測定も行な
う。結果を第２表に示す。 （※注）ブリード促進試験；70℃ギヤオープン中
に１週間放置する。
【表】
実施例 ３
実施例１及び２に示したAl蒸着PVCフイルム
で、グロー放電プラズマ処理及び真空紫外処理の
効果を調べる為、可塑剤溶出試験を行なう。試験
は次の手順で行なつた。先ず、Al蒸着PVCフイ
ルムのAlを、リン酸溶液で、フイルム面を傷つ
けないよう丁寧に拭き取り、溶出試験容器の底に
置く。これにヘキサン50mlを入れ、40℃にて５時
間振とうした後、ジノニルフタレートを標準とし
て、ヘキサン中に抽出されたDOPをガスクロマ
トグラフイーにて分析した。結果を第３表に示
す。
で、グロー放電プラズマ処理及び真空紫外処理の
効果を調べる為、可塑剤溶出試験を行なう。試験
は次の手順で行なつた。先ず、Al蒸着PVCフイ
ルムのAlを、リン酸溶液で、フイルム面を傷つ
けないよう丁寧に拭き取り、溶出試験容器の底に
置く。これにヘキサン50mlを入れ、40℃にて５時
間振とうした後、ジノニルフタレートを標準とし
て、ヘキサン中に抽出されたDOPをガスクロマ
トグラフイーにて分析した。結果を第３表に示
す。
【表】
第１図は本発明の方法を実施するのに有用なグ
ロー放電プラズマ処理装置の模式図、第２図は本
発明の方法を実施するのに有用な真空紫外処理装
置の模式図、第３図は本発明の方法で処理された
軟質PVC成形品の断面模式図である。 １…基板（陰極）、２…るつぼ（陽極）、３…加
熱ヒータ、４…ガス導入管、５…高周波コイル、
５′…水銀ランプ、８…蒸着用金属、９…直流電
源、１４…蒸着金属層、１５…架橋樹脂層、１６
…樹脂層。
ロー放電プラズマ処理装置の模式図、第２図は本
発明の方法を実施するのに有用な真空紫外処理装
置の模式図、第３図は本発明の方法で処理された
軟質PVC成形品の断面模式図である。 １…基板（陰極）、２…るつぼ（陽極）、３…加
熱ヒータ、４…ガス導入管、５…高周波コイル、
５′…水銀ランプ、８…蒸着用金属、９…直流電
源、１４…蒸着金属層、１５…架橋樹脂層、１６
…樹脂層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 減圧下高温において発生した金属蒸気を合成
樹脂成形品表面上に蒸着して金属薄膜を成形する
方法において、前記成形品表面に、無機ガスの低
温プラズマおよび紫外光線の一方または両方を照
射しながら前記蒸着処理を施して、前記金属薄膜
の形成と同時に、前記合成樹脂成形品表層部の樹
脂を架橋させることを特徴とする、合成樹脂成形
品表面への金属薄膜形成方法。 ２ 無機ガスがCOである特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ３ 無機ガスがCOとArの混合物である特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ４ 紫外光線の波長領域が100〜250nmである特
許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 合成樹脂成形品が軟質塩ビニル成形品である
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６ 蒸着後の製品構造が最外層より蒸着金属層／
軟質PVC架橋層／軟質PVC層の３層構造よりな
る特許請求の範囲第５項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9701083A JPS59223731A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | 合成樹脂成形品表面への金属薄膜形成方法及び成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9701083A JPS59223731A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | 合成樹脂成形品表面への金属薄膜形成方法及び成形品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59223731A JPS59223731A (ja) | 1984-12-15 |
| JPH0359982B2 true JPH0359982B2 (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=14180335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9701083A Granted JPS59223731A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | 合成樹脂成形品表面への金属薄膜形成方法及び成形品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59223731A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2597352B2 (ja) * | 1985-06-20 | 1997-04-02 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 金属−有機基板間の接着力を改善する方法 |
| JPH0655846B2 (ja) * | 1990-03-09 | 1994-07-27 | 工業技術院長 | 高分子成形品のエッチング加工方法 |
| JP2000273226A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-03 | Matsushita Electric Works Ltd | 樹脂基材表面への金属膜形成方法 |
| JP4000368B2 (ja) | 2002-09-10 | 2007-10-31 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ポリメチルメタクリレート−金属クラスター複合体の製造方法 |
| EP1400345A1 (de) * | 2002-09-23 | 2004-03-24 | Götz Heine | Verfahren zur Herstellung eines Kunststoffproduktes |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49128976A (ja) * | 1973-04-11 | 1974-12-10 |
-
1983
- 1983-06-02 JP JP9701083A patent/JPS59223731A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59223731A (ja) | 1984-12-15 |
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