JPH0359984B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、基板に薄膜を蒸着させる薄膜形成
装置、特に蒸着物質の蒸発効率の向上に関するも
のである。

〔従来の技術〕

第４図は、常温固体状の物質を加熱して蒸発さ
せ、被蒸着材上に蒸着して薄膜を形成する真空蒸
着に使用される従来の加熱装置を示す斜視図であ
り、図において１はるつぼ、２はるつぼ１をとり
かこむフイラメント、３はフイラメント２を加熱
するフイラメント加熱電源、４はるつぼ１とフイ
ラメント２間に加えられる直流電源である。

上記のように構成された加熱装置において、フ
イラメント２は、フイラメント加熱電源３によつ
て加熱される。この時、るつぼ１はフイラメント
２の輻射熱によつて加熱され、さらに直流電源４
により電圧が印加されるとフイラメント２から電
子が放出され、この電子がるつぼ１に衝突して、
るつぼ１をさらに加熱することができる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のような従来の薄膜形成装置においては、
るつぼ１をとりかこむようにフイラメント２が配
置されているので、るつぼ１の直径が大きくなる
と、るつぼ１外壁と中心部との温度差が大きくな
る。一方、安定して効率のよい蒸発を続けるため
には、るつぼ１内部の温度差が大きくならないこ
とが必要である。このため、円形のるつぼ１で
は、大形のるつぼ１を用いると蒸発効率が損われ
るという問題点があつた。

この発明は、上記のような問題点を解消するた
めになされたもので、大容量のるつぼを使用して
も各部を均一な温度に加熱することができる薄膜
形成装置を得ることを目的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る薄膜形成装置は、直方体形状の
るつぼを使用し、フイラメントを折り曲げてるつ
ぼを挾んで対向する形に配置するとともに、フイ
ラメントの折り曲げの曲率半径を小さくしたもの
である。

〔作用〕

この発明における薄膜形成装置は、るつぼと対
向したフイラメントにより、大形のるつぼでも均
一に加熱でき、さらにフイラメントの折り曲げ半
径を小さくすることにより、フイラメントの熱変
形を小さくおさえる。

〔実施例〕

第１図は、この発明の一実施例を示す斜視図で
あり、図において、１は長方形断面のるつぼ、２
ａ，２ｂは共にるつぼ１に対向して設置されたフ
イラメントである。各々のフイラメントは折り曲
げて３段をなしているが、これは勿論２段以上い
くらでもよい。

このように平面形フイラメント２ａ，２ｂは、
長方形るつぼ１と対向しているため、るつぼ１を
均一に加熱することができる。さらに、るつぼ１
の巾が一定であつても、長さをいくらにでも設定
できるという利点がある。即ち、温度分布を大き
くしないために、るつぼ巾を一定値以下におさえ
つつ、るつぼ内容積を大きくできる。

なお、上記実施例では各々のフイラメント２
ａ，２ｂは１本で構成し、両端以外に支えがない
ものを示したが、フイラメント２ａ，２ｂが高温
に加熱され、弾性係数が低下すると共に、両端に
おいて固定されていることによりりフイラメント
２ａ，２ｂの熱膨張が拘束されるために、フイラ
メント２ａ，２ｂは長手方向と直角の方向に大き
く変形することになる。このため、フイラメント
長さが長くなる場合は、この変形により、るつぼ
１を均一に加熱することが困難になる場合も生じ
る。

そこで、第２図に示すように、フイラメント２
ａ，２ｂを中間点で支える支持手段５を設け、支
持手段５によりフイラメント２ａ，２ｂの変形を
拘束することにより、るつぼ１を均一に加熱す
る。この支持手段５は必要に応じて位置および個
数を変化させる。

第３図は他の実施例を示す。上記各実施例で
は、フイラメント折り曲げ部の曲率半径が大きい
ため、変形が十分に拘束できない場合がある。

第３図に示した実施例は、その変形を小さくす
るために、フイラメント２ａ，２ｂの隣り合う直
線部を平行でなく、互いに交差する様に構成し、
さらにこの折れ曲り部の曲率半径をできるだけ小
さくしたものである。実験によれば線径0.7mmの
フイラメントの場合、曲率半径が５mmでは変形が
大きく生じたものを、曲率半径を２mmにすると、
変形が殆んどなくなり、るつぼ１の均一加熱に大
きな効果があつた。

この構造は、第１図に示した実施例のように支
持手段なしでも、第２図に示した支持手段５があ
つた場合でも、共に適用可能であり、フイラメン
トの線径と長さに応じて、それぞれに効果があ
る。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したように、加熱装置のフ
イラメントを平面状に折り曲げて、るつぼを挾む
形で構成したので、大形のるつぼを均一な温度に
加熱でき、またフイラメントに適当な支えを設け
たり、フイラメントを交差させるように配置して
折り曲げ部の半径を小さくして、フイラメントの
変形をおさえたので、初期の加熱特性を損うこと
を防ぐという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例を示す斜視図、第２
図、第３図は各々この発明の他の実施例を示す斜
視図、第４図は従来装置を示す斜視図である。 １…るつぼ、２，２ａ，２ｂ…フイラメント、
３…フイラメント加熱電源、４…直流電源、５…
支持手段。なお、各図中同一符号は同一または相
当部分を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 高真空領域内にるつぼ、フイラメントおよび
   薄膜を被着すべき基板を設置し、上記フイラメン
   トによりるつぼを加熱しるつぼ内の蒸着物質を加
   熱蒸気化して高真空中に噴射して、上記基板に薄
   膜を付着させる薄膜形成装置において、 直方体形状をしたるつぼと、該るつぼの長手方
   向と平行な平面内に折り曲げて形成したフイラメ
   ントによりるつぼを挾んだ加熱部を備えたことを
   特徴とする薄膜形成装置。 ２ フイラメントの中間位置に支持手段を設けた
   特許請求の範囲第１項記載の薄膜形成装置。 ３ フイラメントの折り曲げ部を小さな曲率半径
   で形成した特許請求の範囲第１項または第２項記
   載の薄膜形成装置。