JPH0360436A - シリカガラス粉粒体の製造装置 - Google Patents
シリカガラス粉粒体の製造装置Info
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- JPH0360436A JPH0360436A JP19055189A JP19055189A JPH0360436A JP H0360436 A JPH0360436 A JP H0360436A JP 19055189 A JP19055189 A JP 19055189A JP 19055189 A JP19055189 A JP 19055189A JP H0360436 A JPH0360436 A JP H0360436A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
為に好適なシリカガラス粉粒体の製造装置に係り、特に
100〜500 grmの粒径範囲に最大収率を示すシ
リカガラス粉粒体を得るのに好適なシリカガラス粉粒体
の製造装置に関する。
体を投入しながら、その遠心力を利用して前記型枠内壁
面に所定層厚で保持せしめた後、アーク放電、プラズマ
火炎その他の熱源を利用して前記粉粒体を加熱しながら
溶融せしめルツボその他の各種石英ガラス製品を製造す
る方法は公知である。
た場合にも又粗粒化させた場合においても前記遠心力の
作用による均一な層厚形成が困難になるのみならず、加
熱溶融の際に均−組成の安定した石英ガラス製品の製造
が困難になる。特に前記粉粒体の粒径が1000 g
m以上では溶融自体が困難になり又10gm以下に微細
粒化した場合には作業環境汚染の問題が生じる。
い、好ましくは74〜500 u、mの範囲に粒度分布
を有するシリカガラス粉粒体を用いているが、不純物の
混入を避けつつ、前記粒径範囲に最大収率を示す粉粒体
を得るのは中々困難である。
る装置として、例えば実開昭81−195350号にお
いてはシリカガラスを内壁に内張すしたボールミル装置
が、又特開昭f13−29ft852号においては、ボ
ールミル容器の内壁面とミルポールの周面に対し夫々5
i02からなるコーティング層を形成した技術が開示さ
れているが、ボールミルの粉砕によって得られるシリカ
ガラス粉粒体の粒径は0.1〜10井鳳前後の範囲であ
り、かかる粒径範囲ではIC用封止剤への充填剤として
の利用には好適であるが、ルツボ等の製造には必ずしも
好ましい粒度ではない。
事により、その機械的粉砕により得られる粉粒体の粒径
を粗に設定する事が可能であるが、前記装置にセラミッ
クや金属ローラを用いた場合においては、ローラ側より
の微小破砕物からなる不純物が粉粒体側に混入され、高
純度化を達成し得ないのみならず、セラミック等が石英
ガラスに比較して硬度差が大な為に、石英ガラスからな
る被粉砕物を無用に細粒化してしまい74〜5004x
rの範囲に最大収率を示すシリカガラス粉粒体を得る事
が出来ない。
ミックや金属ローラの表面に石英ガラス歴を貼着したり
、5i02コ一テイング層を形成する事も検討されるが
、ローラミル装置はボールミル装置と異なり軸方向に長
い側線を有するローラ間に被粉砕体を狭圧させながら圧
縮粉砕する構成を取る為に、被粉砕体との間の部分的な
偏圧縮により、脆性材であり且つ相対的に低硬度の表面
石英ガラス層にクラックや割れが生じ易い。
体で形成する事も考えられるが、被粉砕物と同一硬度の
ローラを用いても必ずしも円滑な粉砕を可能となし得な
い。
4〜5QQ gsの粒径範囲において最大収率を得るル
ツボその他の各種石英ガラス製品を製造する為に好適な
シリカガラス粉粒体を得る事の出来る製造装置を提供す
る事を目的とする。
粒体の粒径は0.1−1−1O前後であり、従ってそれ
以上の粒径範囲の粉粒体を得るにはローラミル装置を採
用しなければならない事は前述した通りである。
ックや金属ローラを用いて圧縮粉砕を行った場合におい
ては、前記ローラの微粉が不純物として混入され、高純
度の粉砕物を得るのに好ましくない事も前記した通りで
ある。
ガラス製の貼着層やコーティング層を形成した場合にお
いてはクラックや割れが生じ好ましくない事も前記した
通りである。
ックや金属ローラを用いる事なく、又石英ガラス製の貼
M層やコーティング層を形成する事なく、ローラ自体を
石英ガラス体で形成した点を第1の特徴とする。
して得た石英ガラスである場合には、純度の不均一性が
認められ、この為圧縮粉砕時にローラ表面にマイクロク
ラックやひび割れ等が生じ易くなり、基本的に耐久性の
面で問題が出るのみならず、表面に微小クラック等が生
じた状態で粉砕を行う事は例え粒度調整された原料を用
いても表面の微小凹凸により粉砕粒度にバラツキが生じ
る場合がある。
その切欠きの一部が粉粒体側に混入されると粉粒体の純
度低下が生じる。
合成石英ガラスで形成した点にある。
場合には、前記天然石英ガラスに比較して微小クラック
が生じる恐れが格没に低下するのみならず1合成石芙ガ
ラスは極めて高純度である為に、その切欠きの一部が粉
粒体側に混入した場合にも粉粒体の純度低下が生じる余
地がない。
合には、ローラと同一硬度である為に、ローラの摩耗が
激しく好ましくない。
して前記天然石英ガラス等の粗粒を用いる事なく、特に
ゾル−ゲル法で製造した非結晶質の二酸化珪素粗粒を被
粉砕物として用いた点にある。
ラックや細孔が多く含有されている為に5例えその圧縮
粉砕を行うローラに非晶質の合成石英ガラスを用いても
容易に破砕が可能である。
よって1粒度が大幅にパラツク事なく!000gm以り
の粒度を有する原料粗粒を容易に得る事が出来1 これ
により前記第2及び後記第4の特徴との組み合わせにお
いてU〜500 ILtaの範囲に最大収率を示すシリ
カガラス粉粒体の製造が可能となる。
粉砕物と材質的に硬度差を有する部材で形成するのでは
なく、単に組成密度的に差異を有する合成石英ガラスで
形成する事により、前記二酸化硅素粗粒を直接圧潰して
粉砕する事なく、クラックや細孔が生じている部分より
適宜粒度で砕くものである為に、粉砕された粉粒体が必
要以りに微細化する事なく、ルツボその他の各種石英ガ
ラス製品を製造する為に最も好ましい粒度範囲の粗粒を
得る事が出来る。
で回転させた場合においては1やはり前記圧潰作用が生
じ好、ましくない。
砕くという作用効果を得る為には前記一対のローラ間を
微小空隙間隔で離間させた状態で配設し、前記二酸化珪
素粗粒に圧力を加える程度に狭圧する事により、クラッ
クや細孔が生じている部分より割れが生じ、適宜粒度で
の粉砕が可能となる。
体の粒度分布範囲の最大より大にして且つ二酸化珪素粗
粒の粒度分布範囲の最大より小に設定するのが好ましい
。
詳しく説明する。ただしこの実施例に記載されている構
成部品の寸法、材質、形状5その相対配置などは特に特
定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれのみに
限定する趣旨ではなく、単なる説明例に過ぎない。
置の全体構成について第2図に基づいて簡単に説明する
に。
ッパで、被粉砕物として、1000 Jl、m以上の粒
径範囲に最大粒度分布を有するゾル−ゲル法で製造した
非結晶質の二酸化珪素粗粒を収納する。
形威し、そしてその内面にシリカガラス板を貼着させて
いる。
た粉砕物は、互いに同期回転するローラ対10間で狭圧
−粉砕した後1分級筒器3に導入し所定の粒度に分級さ
せる。
。
pp■の合成石英ガラスからなり、その外径200gr
sで肉厚が50mmの中空円筒体により形成するととも
に、その両端側に取付けられた金属製の芯出し治具20
及び回転軸t1を介して軸受14に回転自在に軸支され
ている。
これによりモータ13の回転を前記プーリ12で受けて
前記−のローラIOAが駆動回転すると。
ラIOBが被粉砕物との間の摩擦力を利用して互いに正
逆回転する事が出来る。
^のみで足りるが、必要に応じて前記各回転軸11夫々
に互いに噛合可能な歯車を取付け、これにより前記両ロ
ーラ対lOが互いに同期して駆動回転可能に構成しても
よい。
ラ軸線を通る仮想平面が水平になるように、前記両ロー
ラ対10を軸受14を介して基台15上に設置且つその
水平度調整を行っている。
円筒部21と該円筒部21と同心状に形成され、ローラ
端面と離間した状態で対面する円板状鞘状体22からな
り、鞘状体22には120 ”づつ回転方向にずらした
位置に螺子23を螺合し、該螺子23の先端をローラ端
面に圧接する事により回転軸11とローラ10間の固定
を行うとともに、#螺子23同士を進退させる事により
ローラの偏心及び芯出し調整が可能となる。
が、ローラによる粉砕時には若干の微粉が発生するので
局所排気を使用することが望ましく、又異物、不純物の
混入を防ぐ為、粉砕機の囲りはクリーンな雰囲気にする
ことが必要である。
の粒径範囲に最大収率を示すシリカガラス粉粒体の製造
手順について説明する。
−ゲル法で、1000 p−s以上の粒径範囲に最大粒
度分布を有する非結晶賀二酸化珪素粗粒子を得る。
ソシリケートと 1%酢酸水溶液とを混合し、加水分解
及び縮重合して得たゲル100kgをプラスチック容器
に注入して恒温槽にて60℃の条件で100時間放置す
る事により得られる。
0間隔をほぼ500〜800井思程度に設定した状態で
、前記ホッパlよりロールミル装N2内に粗粒子を投入
しながら、−のローラIOAを駆動回転させる事により
、前記粗粒子をローラ対!0間で狭圧−粉砕させつつ分
級部器3で分級させた所、表1に示すような粒度分布を
有するシリカガラス粉粒体を得た。尚木実施例の比較の
為に、天然石英ガラスを用いて前記実施例と同様に形成
したローラ10を用いて同様に粉砕した結果を比較例1
として示す。
50号に示すボールミル装置を用いて前記粗粒子を粉砕
した結果を比較例2として示す。
度であり500−74gg+の粒径範囲に80%と高い
収率を示すシリカガラス粉粒体を得る事が出来たが、比
較例2では500〜74匹重の粒径範囲の粒度分布が僅
かに15%であった。又比較例1では純度が低下してい
るのみならず、500時間使用後のローラの状態を観察
したところ、比較例1の天然石英ガラスのローラの表面
には多数のマイクロクラックが認められたが、実施例1
ではこのようなマイクロクラックが認められなかった。
確認されたが、実施例1のものは粗粒子と同様に高純度
であった。
004mの粒径範囲において最大収率を得るルツボその
他の各種石英ガラス製品を製造する為に好適なシリカガ
ラス粉粒体を得る事の出来る製造装置の提供が可能とな
る。
粒体製造装置の概略全体図、第1図はかかる製造装置に
用いるローラミル装置の構造を示した詳細斜視図である
。
Claims (1)
- 1)ルツボその他の各種石英ガラス製品を製造する為に
好適なシリカガラス粉粒体の製造装置において、ゾル−
ゲル法で製造した非結晶質の二酸化珪素粗粒から成る被
粉砕物と、微小間隔をもって離間させて配設した、合成
石英ガラス体からなる一対のローラとを有し、該被粉砕
物を前記一対のローラ間で狭圧させながら粉砕可能に構
成した事を特徴とするシリカガラス粉粒体の製造装置2
)前記微小空隙間隔を、目的とする粉粒体の粒度分布範
囲の最大より大にして且つ二酸化珪素粗粒の粒度分布範
囲の最大より小に設定した請求項1)記載のシリカガラ
ス粉粒体の製造装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190551A JPH0751452B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | シリカガラス粉粒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190551A JPH0751452B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | シリカガラス粉粒体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0360436A true JPH0360436A (ja) | 1991-03-15 |
| JPH0751452B2 JPH0751452B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=16259961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1190551A Expired - Lifetime JPH0751452B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | シリカガラス粉粒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0751452B2 (ja) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58145611A (ja) * | 1982-02-23 | 1983-08-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコン粒子の粉砕、篩別方法 |
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| JPH01108110A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-25 | Dowa Mining Co Ltd | 二酸化ケイ素の精製方法 |
-
1989
- 1989-07-25 JP JP1190551A patent/JPH0751452B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
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| JPH01108110A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-25 | Dowa Mining Co Ltd | 二酸化ケイ素の精製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0751452B2 (ja) | 1995-06-05 |
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