JPH0361080A - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
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- JPH0361080A JPH0361080A JP1196522A JP19652289A JPH0361080A JP H0361080 A JPH0361080 A JP H0361080A JP 1196522 A JP1196522 A JP 1196522A JP 19652289 A JP19652289 A JP 19652289A JP H0361080 A JPH0361080 A JP H0361080A
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- Japan
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- recording
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
本発明は、レーザビーム等の光ビームを記録層に照射し
、その照射条件によって照射部、分に相変化を誘起させ
て情報を記録あるいは消去し、この相変化に伴う反射率
、透過率等の光学特性の変(従来の技術) 従来、情報を記録及び消去が可能な大容量の情報記録媒
体、いわゆるイレーザブル光ディスク等の一種として、
相変化型のものが広く知られている。この相変化型情報
・記録媒体は、例えばガラス又はプラスチック(ポリカ
ーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等)か
らなる基板と、この基板上に形成された記録層とを備え
ている。
、その照射条件によって照射部、分に相変化を誘起させ
て情報を記録あるいは消去し、この相変化に伴う反射率
、透過率等の光学特性の変(従来の技術) 従来、情報を記録及び消去が可能な大容量の情報記録媒
体、いわゆるイレーザブル光ディスク等の一種として、
相変化型のものが広く知られている。この相変化型情報
・記録媒体は、例えばガラス又はプラスチック(ポリカ
ーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等)か
らなる基板と、この基板上に形成された記録層とを備え
ている。
この記録層を形成する材料としては、例えばGeTe等
のカルコゲナイド系合金が知られており、これらは異な
る条件の光(例えば、レーザビーム)を照射することに
より、例えば結晶と非結晶との間で可逆的に相変化する
ので、この相変化を利用して情報を記録及び消去し、こ
れらの相変化に伴う反射率又は透過率等の光学的特性の
変化を読取ることができる。
のカルコゲナイド系合金が知られており、これらは異な
る条件の光(例えば、レーザビーム)を照射することに
より、例えば結晶と非結晶との間で可逆的に相変化する
ので、この相変化を利用して情報を記録及び消去し、こ
れらの相変化に伴う反射率又は透過率等の光学的特性の
変化を読取ることができる。
このような記録層としては、光の照射条件によって相変
化が生じ易い共晶組成を有する材料や金属間化合物を形
成する材料が適している。
化が生じ易い共晶組成を有する材料や金属間化合物を形
成する材料が適している。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、従来、相変化型情報記録媒体の記録層と
して用いられているGeTe等の合金は、一応上述の条
件は満足するものの、未だ情報記録媒体として十分な特
性を保持しているとは言えない。特に、初期化、記録及
び消去を高速化することが望まれている。また、結晶−
非晶質間の相変化により情報を記録あるいは消去する場
合には、通常記録部分が非晶質になるか、一般に非晶質
は比較的安定性が低いため、非晶質状態をより安定化さ
せることも要求されている。更に、信頼性を一層高める
ことも要求されている。
して用いられているGeTe等の合金は、一応上述の条
件は満足するものの、未だ情報記録媒体として十分な特
性を保持しているとは言えない。特に、初期化、記録及
び消去を高速化することが望まれている。また、結晶−
非晶質間の相変化により情報を記録あるいは消去する場
合には、通常記録部分が非晶質になるか、一般に非晶質
は比較的安定性が低いため、非晶質状態をより安定化さ
せることも要求されている。更に、信頼性を一層高める
ことも要求されている。
そこで、この発明は、かかる事情に鑑みてなされたもの
であり、初期化、記録及び消去を高速化することが出来
、記録した情報が安定であり、更に信頼性が高い情報記
録媒体を提供することを目的とする。
であり、初期化、記録及び消去を高速化することが出来
、記録した情報が安定であり、更に信頼性が高い情報記
録媒体を提供することを目的とする。
[発明の構成〕
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するために、基板と光の照射に
よって照射部分が平衡相と非平衡相との間で相変化する
記録層とを有する情報記録媒体であって、記録層は一般
式(InxSbyTez)+00−、 M、 (ただ
し、x、y、z、aは原子%、X + y + Z =
100であり、夫々25≦x≦55.27<y≦55
.20≦2≦50.0くα≦20の範囲内にあり、Mは
Au、Pt、Pd、RhCu、Zn、Sn、Bi、及び
pbからなる群から選択される少なくとも1種の元素で
ある)で表される組成の合金で形成されていることを特
徴とする情報記録媒体を提供する。
よって照射部分が平衡相と非平衡相との間で相変化する
記録層とを有する情報記録媒体であって、記録層は一般
式(InxSbyTez)+00−、 M、 (ただ
し、x、y、z、aは原子%、X + y + Z =
100であり、夫々25≦x≦55.27<y≦55
.20≦2≦50.0くα≦20の範囲内にあり、Mは
Au、Pt、Pd、RhCu、Zn、Sn、Bi、及び
pbからなる群から選択される少なくとも1種の元素で
ある)で表される組成の合金で形成されていることを特
徴とする情報記録媒体を提供する。
(作 用)
InxSbyTez (イ旦し、x+y十z=100
゜x、y、zは原子%。)において、X。
゜x、y、zは原子%。)において、X。
y及び2が夫々25≦x≦55.27<y≦55゜20
≦2≦50の範囲の組成を有する金属間化合物は、非晶
質化しやすいという利点を有しているので、この組成又
はこの近傍組成にMを添加した上述の組成の合金は、前
述のような相変化型情報記録媒体の記録層としての条件
を満たす材料である。また、上述のMで示される元素を
20原子%よりも低い範囲で含有させることにより、合
金の結晶化温度が低下するので、結晶化速度が大きい。
≦2≦50の範囲の組成を有する金属間化合物は、非晶
質化しやすいという利点を有しているので、この組成又
はこの近傍組成にMを添加した上述の組成の合金は、前
述のような相変化型情報記録媒体の記録層としての条件
を満たす材料である。また、上述のMで示される元素を
20原子%よりも低い範囲で含有させることにより、合
金の結晶化温度が低下するので、結晶化速度が大きい。
従って、初期化、記録及び消去の高速化を達成すること
かできる。また、上述の組成の記録層は耐酸化性にすぐ
れ信頼性が高い。
かできる。また、上述の組成の記録層は耐酸化性にすぐ
れ信頼性が高い。
(実施例)
以下、添付図面を参照してこの発明について具体的に説
明する。第1図は、この発明の実施例に掛かる情報記録
媒体を示す断面図である。基板1はポリオレフィン、エ
ポキシ、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタク
リレート(PMMA)等のプラスチック、又はガラス等
、この技術分野で通常用いられる材料で形成されている
。このL(板1の上方に、保護層3、記録層2、保護層
4及び保護層5がこの順に形成されている。
明する。第1図は、この発明の実施例に掛かる情報記録
媒体を示す断面図である。基板1はポリオレフィン、エ
ポキシ、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタク
リレート(PMMA)等のプラスチック、又はガラス等
、この技術分野で通常用いられる材料で形成されている
。このL(板1の上方に、保護層3、記録層2、保護層
4及び保護層5がこの順に形成されている。
保護層3および保護層4は、記録層2を挟むように配設
されており、有機高分子飼料、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂若しくは紫外
線硬化樹脂(いわゆる2P樹脂)、または5t02、A
l2O3、AIN、ZnS、若しくはZrO2等の誘電
体で形成される。これら保護層3.4は記録層2が空気
中の水分の影響を受けることを未然に防止する作用、記
録及び消去の際にレーザビーム等の光により記録層2の
照射部分が飛散したり穴が形成されてしまうことを防止
する作用を有している。これら保護層3.4はスピンコ
ード法、蒸着法、スパッタリング法等によって好適に形
成することができる。
されており、有機高分子飼料、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂若しくは紫外
線硬化樹脂(いわゆる2P樹脂)、または5t02、A
l2O3、AIN、ZnS、若しくはZrO2等の誘電
体で形成される。これら保護層3.4は記録層2が空気
中の水分の影響を受けることを未然に防止する作用、記
録及び消去の際にレーザビーム等の光により記録層2の
照射部分が飛散したり穴が形成されてしまうことを防止
する作用を有している。これら保護層3.4はスピンコ
ード法、蒸着法、スパッタリング法等によって好適に形
成することができる。
なお、これら保護層3.4の厚みは、10オングストロ
ーム乃至数10マイクロメートルであることか好ましい
。
ーム乃至数10マイクロメートルであることか好ましい
。
保護層5は、情報記録媒体を取扱う際の表面での傷やほ
こり等を防止するために配設されるもので、スピンコー
ド法等により紫外線硬化樹脂を塗布し、これに紫外線を
照射して硬化させること等により形成される。この保護
層5の層厚は100オングストローム乃至数10マイク
ロメートルであることが好ましい。なお、保護層3.4
.5は設けることが好ましいが、必ずしも設けなくても
よい。
こり等を防止するために配設されるもので、スピンコー
ド法等により紫外線硬化樹脂を塗布し、これに紫外線を
照射して硬化させること等により形成される。この保護
層5の層厚は100オングストローム乃至数10マイク
ロメートルであることが好ましい。なお、保護層3.4
.5は設けることが好ましいが、必ずしも設けなくても
よい。
記録層2は(InxSbyTez)100−a Ma(
たたし、x、y、z、αは原子%、x十y+z−100
であり、夫々25≦x≦55.27<y55.20≦2
≦50.0くα≦20の範囲内にあり、MはAu、Pt
、Pd、Rh、Cu、Zn。
たたし、x、y、z、αは原子%、x十y+z−100
であり、夫々25≦x≦55.27<y55.20≦2
≦50.0くα≦20の範囲内にあり、MはAu、Pt
、Pd、Rh、Cu、Zn。
Sn、Bi及びpbからなる群から選択される少なくと
も1種の元素である)で表される組成の合金で形成され
ている。ここで、記録層2は実用レベルにおいての信号
再生値(C/N)が45dB以上であることが望ましく
、このような信号再生値(C/N)は、記録層2の反射
率変化が4%以上の時に得られる。反射率変化が4%以
上となる場合のInx5byTezのそれぞれの組成範
囲は、In、Sb及びTeの全元素を100原子%とす
れば、Inが25原子%以上55原子%以下[(Sl)
7oTe3o)Inxの状態で、Inを変化させたとき
。Xは原子%。]であり、Sbが27原子%より多く5
5原子%以下[(In5oTe、。)sbyの状態で、
Sbを変化させたとき。yは原子%。]であり、Teが
20原子%以上50原子%以下[(In5oSb5o)
Tezの状態で、Teを変化させたとき。2は原子%。
も1種の元素である)で表される組成の合金で形成され
ている。ここで、記録層2は実用レベルにおいての信号
再生値(C/N)が45dB以上であることが望ましく
、このような信号再生値(C/N)は、記録層2の反射
率変化が4%以上の時に得られる。反射率変化が4%以
上となる場合のInx5byTezのそれぞれの組成範
囲は、In、Sb及びTeの全元素を100原子%とす
れば、Inが25原子%以上55原子%以下[(Sl)
7oTe3o)Inxの状態で、Inを変化させたとき
。Xは原子%。]であり、Sbが27原子%より多く5
5原子%以下[(In5oTe、。)sbyの状態で、
Sbを変化させたとき。yは原子%。]であり、Teが
20原子%以上50原子%以下[(In5oSb5o)
Tezの状態で、Teを変化させたとき。2は原子%。
コである。
つまり これら組成範囲内でIn、SbおよびTeによ
り記録層2が構成されていれば、実用レベルでの信号再
生値(C/N)が得られるため。
り記録層2が構成されていれば、実用レベルでの信号再
生値(C/N)が得られるため。
In、Sb及びTeの組成をInx5byTezにおい
て、25≦x≦55.27<4≦55及び20≦2≦5
0 (但し、x+y+z=l○0゜X。
て、25≦x≦55.27<4≦55及び20≦2≦5
0 (但し、x+y+z=l○0゜X。
y及び2は原子%である。)とする。この領域において
は2記録層2の結晶化温度が約240度と。
は2記録層2の結晶化温度が約240度と。
室温に比較し高い温度になっている。記録層2は結晶化
温度が高いと、非晶質状態が安定となりかつ一般に結晶
化の活性化エネルギーが高くなる傾向を示すので、従っ
て結晶化速度も速くなり高速消去に適したものとなる。
温度が高いと、非晶質状態が安定となりかつ一般に結晶
化の活性化エネルギーが高くなる傾向を示すので、従っ
て結晶化速度も速くなり高速消去に適したものとなる。
以上の組成で形成される記録層2は、蒸着法、スパッタ
リング法等によって好適に形成することができる。尚、
合金ターゲットを使用して蒸着あるいはスパッタリング
する場合には、ターゲット組成と実際に形成される層の
組成とに差があることを考慮する必要がある。また、多
元同時蒸着あるいは多元同時スパッタリング等によって
成層することもできる。記録層2の層厚は、100乃至
3000オングストロームであることが好ましい。
リング法等によって好適に形成することができる。尚、
合金ターゲットを使用して蒸着あるいはスパッタリング
する場合には、ターゲット組成と実際に形成される層の
組成とに差があることを考慮する必要がある。また、多
元同時蒸着あるいは多元同時スパッタリング等によって
成層することもできる。記録層2の層厚は、100乃至
3000オングストロームであることが好ましい。
記録層2を構成する (I nxSbyTe z)10
0−5M、は、照射する光の条件を変えることにより、
平衡相と非平衡相(非晶質相、準安定結晶相等)との間
で相変化し得る材料であり、In。
0−5M、は、照射する光の条件を変えることにより、
平衡相と非平衡相(非晶質相、準安定結晶相等)との間
で相変化し得る材料であり、In。
sb及びTeが非晶質化しやすい組成であることから非
平衡相としての非晶質状態の安定性が優れている。また
、このように非晶質状態が安定に存在し、かつAu、P
t、Pd、Rh、Cu、Zn。
平衡相としての非晶質状態の安定性が優れている。また
、このように非晶質状態が安定に存在し、かつAu、P
t、Pd、Rh、Cu、Zn。
Sn、、Bi又はpbの存在により結晶化速度が極めて
大きいので初期化、記録及び消去の速度が大きい。更に
、このような組成の合金は耐酸化性が大きい。
大きいので初期化、記録及び消去の速度が大きい。更に
、このような組成の合金は耐酸化性が大きい。
次に、第2図及び第3図を参照しながら、この実施例に
掛かる情報記録媒体の記録層の形成方法の1例について
説明する。第2図はこの実施例の記録層を形成するため
に用いられるスパッタリング装置の概略構成を示す縦断
面図、第3図はその横断面図である。図中はぼ中央部に
真空容器10を示し、この真空容器10はその底面にガ
ス導入ポート11及びガス排出ポート12を有している
。
掛かる情報記録媒体の記録層の形成方法の1例について
説明する。第2図はこの実施例の記録層を形成するため
に用いられるスパッタリング装置の概略構成を示す縦断
面図、第3図はその横断面図である。図中はぼ中央部に
真空容器10を示し、この真空容器10はその底面にガ
ス導入ポート11及びガス排出ポート12を有している
。
このガス排出ポート]2は、排気装置13に接続されて
おり、この排気装置13により排出ポート12を介して
真空容器10内が排気される。また、ガス導入ポート1
1は、アルゴンガスボンベ14に接続されており、この
ボンベ]4から真空容器10内にガス導入ポート11を
介してスパッタリングガスとしてのアルゴンガスが導入
される。真空容器10内の上部には、基板支持用の円板
状の回転基台15がその面を水平にして配設されており
、その下面に基板1が支持されるようになっている。ま
た、真空容器10内の底部近傍には、基台15に対向す
るように、それぞれ記録層2を構 0 成する所定元素で形成されたスパッタリング源2]、2
2.23が配設されており、各スパッタリング源21.
22.23には図示しない高周波電源が接続されている
。これらスパッタリング源21.22.23の上方には
、夫々モニタ装置24.25.26が設けられており、
これらモニタ装置24.25.26により各スパッタリ
ング源21.22.23からのスパッタリング量をモニ
タし、記録層か所定の組成になるように各スパッタリン
グ源21.22.23に投入する電力量を調節する様に
なっている。
おり、この排気装置13により排出ポート12を介して
真空容器10内が排気される。また、ガス導入ポート1
1は、アルゴンガスボンベ14に接続されており、この
ボンベ]4から真空容器10内にガス導入ポート11を
介してスパッタリングガスとしてのアルゴンガスが導入
される。真空容器10内の上部には、基板支持用の円板
状の回転基台15がその面を水平にして配設されており
、その下面に基板1が支持されるようになっている。ま
た、真空容器10内の底部近傍には、基台15に対向す
るように、それぞれ記録層2を構 0 成する所定元素で形成されたスパッタリング源2]、2
2.23が配設されており、各スパッタリング源21.
22.23には図示しない高周波電源が接続されている
。これらスパッタリング源21.22.23の上方には
、夫々モニタ装置24.25.26が設けられており、
これらモニタ装置24.25.26により各スパッタリ
ング源21.22.23からのスパッタリング量をモニ
タし、記録層か所定の組成になるように各スパッタリン
グ源21.22.23に投入する電力量を調節する様に
なっている。
このようなスパッタリング装置においては、先ず、排気
装置13により真空装置10内を10Torrまで排気
する。次いで、ガス導入ポート11を介して、真空装置
10内にアルゴンガスを導入しつつ、排気装置13の排
気量を調節して真空容器10内を所定圧ノjのアルゴン
ガス雰囲気に保持する。この状態で、基板1を回転させ
つつ、スパッタリング源21.22.23に所定時間所
定の電力を印加する。これにより、基板1に所定組成1 の記録層が形成される。尚、保護層を形成する場合には
、記録層2の形成に先立ち、保護層の組成に調整された
スパッタリング源21.22.23を用いて、上述した
ようにスパッタリングすることにより、基板1上に保護
層3を形成し、その後記録層2を形成し、更に保護層3
を形成する場合と同様の条件で記録層2の上に保護層4
を形成することができる。
装置13により真空装置10内を10Torrまで排気
する。次いで、ガス導入ポート11を介して、真空装置
10内にアルゴンガスを導入しつつ、排気装置13の排
気量を調節して真空容器10内を所定圧ノjのアルゴン
ガス雰囲気に保持する。この状態で、基板1を回転させ
つつ、スパッタリング源21.22.23に所定時間所
定の電力を印加する。これにより、基板1に所定組成1 の記録層が形成される。尚、保護層を形成する場合には
、記録層2の形成に先立ち、保護層の組成に調整された
スパッタリング源21.22.23を用いて、上述した
ようにスパッタリングすることにより、基板1上に保護
層3を形成し、その後記録層2を形成し、更に保護層3
を形成する場合と同様の条件で記録層2の上に保護層4
を形成することができる。
次に、この発明の情報記録媒体における初期化並びに情
報の記録、消去及び再生について説明する。
報の記録、消去及び再生について説明する。
初期化
記録層2は成層直後には通常非晶質であるが、情報が記
録されるには結晶である必要があるので、レーザビーム
等の光を記録層2に全面照射して加熱徐冷し、記録層2
を結晶化させる。
録されるには結晶である必要があるので、レーザビーム
等の光を記録層2に全面照射して加熱徐冷し、記録層2
を結晶化させる。
情報の記録
高出力でパルス幅が短い光を記録層2に照射して、照射
部分を加熱急冷して非晶質に相変化させて、記録マーク
を形成する。
部分を加熱急冷して非晶質に相変化させて、記録マーク
を形成する。
2
情報の消去
記録層2に形成された記録マーク部に、記録の際よりも
低出力でパルス幅が長い光を照射して記録マーク部を結
晶に相変化させ、情報を消去する。
低出力でパルス幅が長い光を照射して記録マーク部を結
晶に相変化させ、情報を消去する。
情報の再生
情報を記録した記録層2に比較的弱い光を照射し、記録
マーク部と非記録部との間での光学的特性、例えば反射
率の差を検出して情報を読取る。
マーク部と非記録部との間での光学的特性、例えば反射
率の差を検出して情報を読取る。
尚、この発明に係る情報記録媒体は、結晶化速度が大き
いことからオーバーライドが可能である。
いことからオーバーライドが可能である。
オーバーライドとは、単一の光源から放射されるレーザ
ビーム等の光を、第4図に示すように、2段階のパワー
レベルPE(消去)及びPw(記録)の間でパワー変調
して、消去パワーレベルの光に記録パワーレベルの光を
重畳させ、既に記録された情報を消去しながら新しい情
報を重書きすることである。
ビーム等の光を、第4図に示すように、2段階のパワー
レベルPE(消去)及びPw(記録)の間でパワー変調
して、消去パワーレベルの光に記録パワーレベルの光を
重畳させ、既に記録された情報を消去しながら新しい情
報を重書きすることである。
次に、この発明の試験例について説明する。
試験例1
耐熱ガラス貼板上に、第2図および第3図に示3
すスパッタリング装置により、種々の組成からなるIn
x5byTez合金薄層を形成し、X線回折によりこれ
ら薄層の構造を確認した。第5図の3元系組成図におい
て斜線で示す範囲、すなわち25≦x≦55.27<Y
≦55および20≦2≦50の組成範囲で確認した結果
、いずれも成層直後は非晶質であった。この組成範囲に
おいて、結晶化温度は130℃以上であり、室温におい
ては非晶質状態が安定に存在する。また、レーザビムの
照射条件を選択することにより、情報の記録及び消去が
可能な相変化型の記録層として利用し得ることが確認さ
れた。
x5byTez合金薄層を形成し、X線回折によりこれ
ら薄層の構造を確認した。第5図の3元系組成図におい
て斜線で示す範囲、すなわち25≦x≦55.27<Y
≦55および20≦2≦50の組成範囲で確認した結果
、いずれも成層直後は非晶質であった。この組成範囲に
おいて、結晶化温度は130℃以上であり、室温におい
ては非晶質状態が安定に存在する。また、レーザビムの
照射条件を選択することにより、情報の記録及び消去が
可能な相変化型の記録層として利用し得ることが確認さ
れた。
試験例2
試験例1の組成範囲のInx5byTezに幻し、Au
、Pt、Pd、Rh、Cu、Zn、Sn。
、Pt、Pd、Rh、Cu、Zn、Sn。
Biあるいはpbを夫々添加したサンプルを作成した。
添加量は、5.10.20.30原子%とした。その結
果、添加量が30原子%のものは成層したままの状態で
結晶化していた。また、添加量が、5.10.20原子
%と増加するに伴って4 結晶化温度が低下した。このように結晶化温度が低下し
たのは、これら添加元素の中でAu、PtPd、Rh、
CuがTeの鎖状構造を分断する作用があるため、これ
により非晶質状態が不安定になるからであり、また、Z
n、Sn、Bi、Pbの融点は、それぞれ 419°C
,231°C1271℃、237°Cと低いからである
。結晶化温度は、通y;c、非兄質合金の絶対温度で示
した励点の]/2〜2/3の温度となることが知られて
いるから、これら元素の添加により合金の融点が低下し
たものと考えられる。
果、添加量が30原子%のものは成層したままの状態で
結晶化していた。また、添加量が、5.10.20原子
%と増加するに伴って4 結晶化温度が低下した。このように結晶化温度が低下し
たのは、これら添加元素の中でAu、PtPd、Rh、
CuがTeの鎖状構造を分断する作用があるため、これ
により非晶質状態が不安定になるからであり、また、Z
n、Sn、Bi、Pbの融点は、それぞれ 419°C
,231°C1271℃、237°Cと低いからである
。結晶化温度は、通y;c、非兄質合金の絶対温度で示
した励点の]/2〜2/3の温度となることが知られて
いるから、これら元素の添加により合金の融点が低下し
たものと考えられる。
尚、これら元素はこのように結晶化温度を低下させて非
晶質状態を不安定にする効果があるが、基本となるIn
x5byTezの非晶質状態が極めて安定であるため、
これら元素の添加量が20原子%以下である限り、これ
ら合金における非晶質状態の安定性は高い。
晶質状態を不安定にする効果があるが、基本となるIn
x5byTezの非晶質状態が極めて安定であるため、
これら元素の添加量が20原子%以下である限り、これ
ら合金における非晶質状態の安定性は高い。
試験例3
試験例2で作成したサンプルに対し、照射条件をかえな
がら基板側からレーザビームを照射し、5 結晶化速度を調べた。第6図にAuを夫々5.10.2
0原子%添加したサンプルにおける結果について示す。
がら基板側からレーザビームを照射し、5 結晶化速度を調べた。第6図にAuを夫々5.10.2
0原子%添加したサンプルにおける結果について示す。
第6図は横軸に照射するレーザビームのパルス幅をとり
、縦軸に反射率変化量をとって、これらの関係を示すグ
ラフである。このグラフにおいて、反射率の変化は非晶
質と結晶との間の相変化に対応する。尚、第6図は照射
するレサビームのパワーが7mWの場合である。この図
に示されるように、Auか無添加の場合に比較し、Au
を添加したほうが結晶化速度が速くなり、またAuの添
加量が増加するに従ってその傾向が大きくなった。しか
し、Auの添加量が増加するに従って反射率変化量が減
少している。Au添加量の増加に伴って結晶化速度が増
加するのは、AuがTeの鎖状構造を分断する作用を有
するためであると考えられる。また、反射率変化量が減
少するのは、添加量が増加することによりカルコゲナイ
ド系としての性質が弱まるからである。実用上、反射率
変化量はAuの添加量が20原子%以下であれば十分で
ある。
、縦軸に反射率変化量をとって、これらの関係を示すグ
ラフである。このグラフにおいて、反射率の変化は非晶
質と結晶との間の相変化に対応する。尚、第6図は照射
するレサビームのパワーが7mWの場合である。この図
に示されるように、Auか無添加の場合に比較し、Au
を添加したほうが結晶化速度が速くなり、またAuの添
加量が増加するに従ってその傾向が大きくなった。しか
し、Auの添加量が増加するに従って反射率変化量が減
少している。Au添加量の増加に伴って結晶化速度が増
加するのは、AuがTeの鎖状構造を分断する作用を有
するためであると考えられる。また、反射率変化量が減
少するのは、添加量が増加することによりカルコゲナイ
ド系としての性質が弱まるからである。実用上、反射率
変化量はAuの添加量が20原子%以下であれば十分で
ある。
6
Auの代わりに、 Pt、Pd、Rh、Cu。
Zn、Sn、Biあるいはpbを夫々添加した合金を形
成したサンプルについて同様の試験を行った結果、同様
な結果が得られ、これらについても実用上添加量が20
原子%以下が適当であることが確認された。
成したサンプルについて同様の試験を行った結果、同様
な結果が得られ、これらについても実用上添加量が20
原子%以下が適当であることが確認された。
また、これらの元素は、いくつか組合わせて添加しても
同様の効果を得ることができた。この場合にもトータル
の添加量が20原子%を越えると反射率変化量が低下す
るので、実用上は2の原子%以下が適当である。
同様の効果を得ることができた。この場合にもトータル
の添加量が20原子%を越えると反射率変化量が低下す
るので、実用上は2の原子%以下が適当である。
試験例4
試験例2で作成したサンプルのうち、Au等を夫々5原
子%添加したものと、これら元素を添加しないサンプル
を75°C,80%RHの条件下に保持し、その際の表
面反射率の経時変化を測定し、第7図にその結果を示す
。第7図は各サンプルにおける反射率の紅時女化を示す
グラフである。明らかに、Au等を添加しないInx5
byTez音金は時間を経るに従って、徐々に反射率の
低下 7 を示すことが分る。これに対し、夫々Au、Pt。
子%添加したものと、これら元素を添加しないサンプル
を75°C,80%RHの条件下に保持し、その際の表
面反射率の経時変化を測定し、第7図にその結果を示す
。第7図は各サンプルにおける反射率の紅時女化を示す
グラフである。明らかに、Au等を添加しないInx5
byTez音金は時間を経るに従って、徐々に反射率の
低下 7 を示すことが分る。これに対し、夫々Au、Pt。
Pd、Rh及びCuを5原子%添加したサンプルは試験
開始直後にわずかの反1・1率低下があるものの、その
後1000時間経過するまで殆ど反射率は変化しなかっ
た。これは、Inx5byTez合金にこれらAu等の
元素を添加することにより耐酸化性が向上し、記録層の
信頼性が改善されたことを示すものである。一方、Zn
、Sn、Bipbを添加したサンプルは、反射率が変化
する傾向にあることか分る。これは、これらの元素の添
加により非晶質状態の安定性が若干低下したためである
。しかし、これらの元素と前述のAu等の貴金属元素を
組合わせてInx5byTez合金に添加することによ
り、非晶質状態が安定となり信頼性が高い合金層を得る
ことができた。
開始直後にわずかの反1・1率低下があるものの、その
後1000時間経過するまで殆ど反射率は変化しなかっ
た。これは、Inx5byTez合金にこれらAu等の
元素を添加することにより耐酸化性が向上し、記録層の
信頼性が改善されたことを示すものである。一方、Zn
、Sn、Bipbを添加したサンプルは、反射率が変化
する傾向にあることか分る。これは、これらの元素の添
加により非晶質状態の安定性が若干低下したためである
。しかし、これらの元素と前述のAu等の貴金属元素を
組合わせてInx5byTez合金に添加することによ
り、非晶質状態が安定となり信頼性が高い合金層を得る
ことができた。
以上の結果により、上述した範囲において(InxSb
yTez) 1oo−a M、合金を相変化型の記録層
としての使用が可能であること、このような記録層は非
晶質状態の安定性が高いこと、M元素の添加に伴って結
晶化速度か高速化するこ 8 と及びM元素の存在により耐酸化性か向上されることが
可能なことが確認された。
yTez) 1oo−a M、合金を相変化型の記録層
としての使用が可能であること、このような記録層は非
晶質状態の安定性が高いこと、M元素の添加に伴って結
晶化速度か高速化するこ 8 と及びM元素の存在により耐酸化性か向上されることが
可能なことが確認された。
尚、この実施例においては、基板として平板状のものを
使用した例について示したか、これに限らず、テープ状
あるいはドラム状等種々の形態をとることか可能である
。
使用した例について示したか、これに限らず、テープ状
あるいはドラム状等種々の形態をとることか可能である
。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、非平衡相である
非晶質状態の記録安定性に優れ、また初期化、記録及び
消去を高速で実施することかでき、また記録層の耐酸化
性が向上し、信頼性の高い情報記録媒体を得ることかで
きる。
非晶質状態の記録安定性に優れ、また初期化、記録及び
消去を高速で実施することかでき、また記録層の耐酸化
性が向上し、信頼性の高い情報記録媒体を得ることかで
きる。
第1図は本発明の一実施例に係る情報記録媒体を示す断
面図、第2図は記録層を形成するための装置の概略構成
を示す縦断面図、第3図はその横断面図、第4図はオー
バーライドの際のレーザビームのパワーを示す図、第5
図は本発明に係る情報記録媒体の記録層の基本となるI
n−5bTeB元合金の組成範囲を示す組成図、第6図
は9 照射するレーザビームのパルス幅と反射率変化量との関
係を示す図、第7図は本発明の試験例に係るサンプルの
環境試験の際の反射率の経時変化を示す図である。
面図、第2図は記録層を形成するための装置の概略構成
を示す縦断面図、第3図はその横断面図、第4図はオー
バーライドの際のレーザビームのパワーを示す図、第5
図は本発明に係る情報記録媒体の記録層の基本となるI
n−5bTeB元合金の組成範囲を示す組成図、第6図
は9 照射するレーザビームのパルス幅と反射率変化量との関
係を示す図、第7図は本発明の試験例に係るサンプルの
環境試験の際の反射率の経時変化を示す図である。
Claims (1)
- 基板と、光の照射によって照射部分が平衡相と非平衡相
との間で相変化する記録層とを有する情報記録媒体であ
って、前記記録層は、一般式(InxSbyTez)_
1_0_0_−_αMα(ただし、x、y、z、αは原
子%、x+y+z=100であり、夫々25≦x≦55
、27<y≦55、20≦z≦50、0<α≦20の範
囲内にあり、MはAu、Pt、Pd、Rh、Cu、Zn
、Sn、Bi及びPbからなる群から選択される少なく
とも1種の元素である)で表される組成の合金で形成さ
れていることを特徴とする情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196522A JPH0361080A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196522A JPH0361080A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0361080A true JPH0361080A (ja) | 1991-03-15 |
Family
ID=16359140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1196522A Pending JPH0361080A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0361080A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020092490A (ko) * | 2001-06-04 | 2002-12-12 | 박혁구 | 교실과 복도사이의 조립식 내벽 |
| US8187964B2 (en) | 2007-11-01 | 2012-05-29 | Infineon Technologies Ag | Integrated circuit device and method |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1196522A patent/JPH0361080A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020092490A (ko) * | 2001-06-04 | 2002-12-12 | 박혁구 | 교실과 복도사이의 조립식 내벽 |
| US8187964B2 (en) | 2007-11-01 | 2012-05-29 | Infineon Technologies Ag | Integrated circuit device and method |
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