JPH0362520A - プラズマクリーニング方法 - Google Patents

プラズマクリーニング方法

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JPH0362520A
JPH0362520A JP19657589A JP19657589A JPH0362520A JP H0362520 A JPH0362520 A JP H0362520A JP 19657589 A JP19657589 A JP 19657589A JP 19657589 A JP19657589 A JP 19657589A JP H0362520 A JPH0362520 A JP H0362520A
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plasma cleaning
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Yoshie Tanaka
田中　佳恵
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラズマクリーニング方法に係り、特にバリア
メタルのエツチングを行なった後のクリニングに好適な
プラズマクリーニング方法に関するものである。
〔従来の技術〕
従来のクリーニング方法には、例えばアルミニウムをエ
ツチングした後のクリーニング方法として特開昭６１−
２５０１８５＠公報に記載のように、処理後の処理室内
に酸化性ガスを導入して残留反応生成物を酸化し、つい
でフッ素含有ガスを導入してプラズマを発生させること
により、残留反応生成物を効果的に取り除く方法があっ
た。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、Ｍ合金膜をエツチングした後に同一チ
ャンバ内でＭ合金膜以外の材料、例えば、バリアメタル
をエツチングした時にチャンバ内に残る残留反応生成物
のクリーニングの点についてまでは配慮されていなかっ
た。このようなニーｙｙ−ングを行なった後には、Ｍ合
金膜のエツチング時に残った残留反応生成物以外の生成
物も残管するため、従来の方法では充分にクリーニング
を行なうことができないという問題があった。
本発明の目的は、同じ処理室を用いてＭ合金膜とバリア
メタルをエツチングしたときの処理室内に残留する反応
生成物な除去することのできるプラズマクリーニング方
法を提供することにある。
〔１１！題を解決するための手段〕 上記目的を達成するために、塩素を含むガスによる放電
とフッ素を含むガスによる放電とを組合わせて行なうよ
うにしたものである。
〔作　　　用〕
塩素を含むガスをプラズマ化させることにより、Ｍ合金
膜のエツチングで残留した反応生成物やバリアメタルの
エツチングで残留した反応生成物の一部が除去され、フ
ッ素を含むガスをプラズマ化させることにより、残りの
反応生成物が除去される。これにより同一処理室内で複
数処理されて残留した反応生成物を除去できる。
〔実　施　例〕
以下、本発明の一実施例を説明する。
エツチングの被処理物として、上層がＭ合金膜で下層が
バリアメタルの構造をなしたもので、例えば、Ｍ合金膜
としてはｋｅ　−Ｓ　ｉ　−Ｃｕ膜で、バリアメタルと
してはＴ　ｉ　Ｗである。
ｋｅ　　５ｉ−Ｃｕｉは塩素を主体とするガスでエツチ
ングされ、Ｍの生成物による反応生成物が処理室内に残
留しているものと考えられる。また、ＴｔＷｇはフッ素
系ガスを主体としてエツチングされ、ＴｉおよびＷの生
成物による反応生成物が、Ｍの生成物による反応生成物
と一緒になって処理室内に残留しているものと考えられ
る。このような残留反応生成物は、これらのエツチング
プロセスを繰り返すことによって、例えば、被処理物で
あるウェハな約１０枚程度処理すると、処理室である石
英ベルジャや電極廻りの部品に風温して表れてくる。
このような残留反応生成物なりリーニングするに当って
、塩素を含むガス、例えば、Ｃ１２ガスのみ、Ｃ１２＋
　Ｂ　Ｃ１ｓ　、＋　ＨＣ１等をプラズマ化して杓５分
間プラズマクリーニングを行ない、ついで、フッ素を含
むガス、例えば、Ｓ　Ｆｓ　＊　Ｓ　Ｆ、　０２　Ｆ６
等をプラズマ化して約５分間プラズマクリーニングを行
なう。これにより、例えば、Ｃｌｚのプラズマクリーニ
ングでは、Ｍの生成物やＴｉの生成物はｋｅ　Ｃｌ　２
やＴｉ　Ｃｌｚとなって除去され、ＳＦ６のプラズマク
リーニングでは、Ｗの生成物はＷＦ２　　となって除去
される。
以上、本−実施例によれば、塩素を含むガスの放電によ
りＭやＴｉの生成物が除去でき、フッ素を含むガスの放
電によりＷの生成物が除去できて、バリアメタルを用い
た配線材料のエツチング処理後の処理室内のクリーニン
グを行なうことができるという効果がある。
なお、本実施例では、Ｍ合金膜としてｌ’Ｊ　−８ｌ−
ｃｕＭを挙げたが、Ｍ−８４膜、Ｍ−Ｃ，等でも良い。
また、バリアメタルとしてＴｉ膜膜を挙けたが、ＭｏＳ
ｉ膜、ＷＳＩ膜、　Ｔｉ膜、ＴｉＮ膜、α−８ｉ膜等で
も良い。
また、本実施例では、塩素を含むガスの放電の後にフッ
素を含むガスの放電を行なってクリーニングをしたが、
これらの放電を交互に行なっても良い。
さらに、本実施例では塩素を含むガスの放電を約５分、
フッ素を含むガスの放電を約５分としているが、これら
放電の時間比は、バリアメタルの成分比、例えば、Ｔｉ
　ＷｉのＴｉとＷとの成分比によって変えると、更に有
効である。
〔発明の効果〕

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １．同じ処理室を用いてＡｌ合金膜とバリアメタルをプ
    ラズマエッチングしたときの処理室内のクリーニング方
    法において、塩素を含むガスによる放電とフッ素を含む
    ガスによる放電とを組合わせて行なうことを特徴とする
    プラズマクリーニング方法。
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