JPH0362550A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
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- JPH0362550A JPH0362550A JP1196591A JP19659189A JPH0362550A JP H0362550 A JPH0362550 A JP H0362550A JP 1196591 A JP1196591 A JP 1196591A JP 19659189 A JP19659189 A JP 19659189A JP H0362550 A JPH0362550 A JP H0362550A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路装[(IC,LSI)に係り、
ゲートアレイにおいて出力用グランド電流によるノイズ
の発生及びグランド電位・出力レベルの上昇を低減化す
る技術に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to semiconductor integrated circuit devices [(IC, LSI),
The present invention relates to a technology for reducing noise generation due to output ground current and rise in ground potential/output level in a gate array.
半導体基板(チップ)の−主表面において、内部論理セ
ルV囲んで複数の入出力バッファ領域がインターフェー
スとして隣接し配線され、これらの電源、グランド幹線
およびバッファ領域と対にTLっている外部パッド(ポ
ンディングパッド)が形成された半導体乗積回路装置に
ついては、日経エレクトロニクス1985年6月3日号
p151〜p177に記載されている。On the main surface of the semiconductor substrate (chip), a plurality of input/output buffer areas are wired adjacent to each other as interfaces surrounding the internal logic cell V, and external pads (TL) are connected to these power supply, ground main lines, and buffer areas. A semiconductor multiplication circuit device in which a bonding pad (bonding pad) is formed is described in Nikkei Electronics June 3, 1985 issue, pages 151 to 177.
このような半導体装置において、負荷の大きなシステム
を駆動する場合、LSI出力の駆動能カケ上げる必要が
あり、そのために2つ以上の出ヵセル(バッファ)V並
列に接続して1本化することにより対応することが考え
られる。In such a semiconductor device, when driving a system with a large load, it is necessary to increase the driving performance of the LSI output, and for this purpose, two or more output cells (buffers) are connected in parallel and integrated into one. It is possible to take measures.
ところが駆動能力が上がったことで、出力の同時ONに
よってグランド幹線に流れる電流(グランド電流)も2
倍以上とはって大きたノイズヶ発生させることになる。However, as the drive capacity has increased, the current flowing through the ground main line (ground current) when the outputs are simultaneously turned on has also increased by 2.
This will generate more than twice as much noise.
また、グランドに流れる電流が大きく耽ることによりグ
ランドのインピーダンス成分によって出力レベルが変動
する。Furthermore, due to a large amount of current flowing through the ground, the output level fluctuates depending on the impedance component of the ground.
このようなグランドに発生するノイズな抑える一つの手
段として、従来では使用していはい人出カバッファセル
なグランドに使用することでグランドの補強をすること
が行われた。As one means of suppressing such noise generated in the ground, conventionally, it has been used to reinforce the ground by using it in the ground such as a buffer cell.
上記した従来技術によれは、未使用の入出力セルをグラ
ンドとして使用することにより、LSI全体として使用
可能たセルの数が減ることにより、半導体チップの有効
7.C利用ができはいとい5問題があった。According to the above-mentioned conventional technology, by using unused input/output cells as a ground, the number of cells that can be used in the entire LSI is reduced, thereby increasing the efficiency of the semiconductor chip. There were 5 problems with using C.
本発明は上記した問題を解決するためのもので、その目
的は、半導体チップ表面で使用可能な人出カセルケグラ
ンドの補強によって減少させることはく、グランドイン
ピーダンスを低減できる半導体集積回路装置の提供にあ
る。The present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to provide a semiconductor integrated circuit device that can reduce ground impedance by reinforcing the ground impedance that can be used on the surface of a semiconductor chip. It is in.
上記目的を解決するために本発明では、基板周辺にそっ
て複数の入出力バッファ領域な有し、それらの電源、グ
ランド幹線及び各バッファ領域と対になっている外部パ
ッドが形成された半導体装置において、41数の電源、
グランド幹線の中で出力用グランド幹線す最外周に配線
しておき、このグランド幹線と空きになった外部パッド
とな接続してグランドとして使用するものである。In order to solve the above object, the present invention provides a semiconductor device that has a plurality of input/output buffer areas along the periphery of a substrate, and has power supply lines, ground main lines, and external pads paired with each buffer area. In, 41 power sources,
The output ground trunk line is wired at the outermost periphery of the ground trunk line, and this ground trunk line is connected to a vacant external pad to be used as a ground.
最外周に配線された出力用グランド幹線と空きパッドを
接続してグランドとして使用することにより、出力端子
に最も近い個所でのノイズの吸収が行われることになり
、同時に低インピーダンス化でき、LSI全体としてノ
イズマージンが向上し、出力レベルの変動が抑えられ、
また、空きパッドY利用することでチップ面積な有効に
利用することかできる。By connecting the output ground main line wired on the outermost periphery to the empty pad and using it as a ground, noise is absorbed at the point closest to the output terminal, and at the same time, impedance can be reduced, and the entire LSI This improves the noise margin and suppresses output level fluctuations.
Furthermore, by using the empty pad Y, the chip area can be used effectively.
以下、本発明ケゲートアレイな臂するLSIに適用した
場合の一実施例について図tfiを参照しながら説明す
る。Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to a kegate array in an LSI will be described with reference to FIG. tfi.
第1図はLSIの全体平面概略図である。1は半導体チ
ップ(基板)であって、その主表面の中央部分に内部論
理セル群2が形成され、このl!i!埋セル群2な囲ん
でインターフェースとして複数の入出力バッファ領域3
が互いに隣接して配設され、これらはその表面上で単層
または多層のAJ(アルミニウム)配線によって相互に
結線されてLSIの回路を構成する。バッファ領域の上
には層間絶縁膜を介して電源用およびグランド幹線用の
M配線4 、5 、6が配線される。バッファ領域と対
に耽るようにチップ周辺にわたって人1膜から耽る外部
パッド(ボンディング用パッド)7が設けられる。FIG. 1 is a schematic plan view of the entire LSI. 1 is a semiconductor chip (substrate), and an internal logic cell group 2 is formed in the center of its main surface. i! Multiple input/output buffer areas 3 surround a group of buried cells 2 and serve as an interface.
are arranged adjacent to each other, and are interconnected on their surfaces by single-layer or multi-layer AJ (aluminum) wiring to form an LSI circuit. M wirings 4, 5, and 6 for power supply and ground main lines are wired above the buffer region via an interlayer insulating film. External pads (bonding pads) 7 are provided over the periphery of the chip so as to correspond to the buffer region.
本発明では電源、グランド幹線のうち2つの出力用グラ
ンド6′1に最外周に配線する構成なとる。In the present invention, two of the power supply and ground main lines are wired to the output ground 6'1 on the outermost periphery.
第2図は第1因における入出力バッファ・セル近傍の一
部拡大平面図である。第3図、第4図は第zmニyケル
h−A: 、 B −B”各切断断市図である。FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the vicinity of the input/output buffer cell in the first cause. FIGS. 3 and 4 are cutaway diagrams of the ZM Nickel h-A:, B-B".
同区に示されるように、外部端子(パッド)7とバッフ
ァセル3とは下層のAAtllilll−介して接続さ
れ、システムグランドはグランドライン用パッド7gか
らA1配紛8、コンタクト部9.10を介して外部イン
ターフェース回路(バッファセル)に接続される構造ケ
とる。As shown in the same section, the external terminal (pad) 7 and the buffer cell 3 are connected via the lower layer AAtllill-, and the system ground is connected from the ground line pad 7g to the A1 layer 8 and the contact portion 9.10. The structure is connected to an external interface circuit (buffer cell).
これらのうち、2つの隣接しあう出力セル3a。Among these, two adjacent output cells 3a.
3bv#AのA看配#M8aを介して1つの出力パッド
7aに接続して一本化して使用する場合(第3図)グラ
ンドライン用パッド7gまでの長い距離分グランドライ
ン6にインピーダンスをもつことにyzるが、本発明で
は共通のA1配線8aな接続することによって生じた他
の一つのパッド7bケ利用し、第4図に示すようにパッ
ド7b’&上層ノA # (21配線11により最外周
のグランド幹線6に接続することにより外部パッド7b
r−パッド7gと同様にシステムグランドとして使用す
る(このためにもグランド幹iv最外周に配設しはけれ
ははらない)。When connecting to one output pad 7a through A control #M8a of 3bv#A and using it as a single line (Fig. 3), the ground line 6 has an impedance due to the long distance to the ground line pad 7g. However, in the present invention, another pad 7b created by the common A1 wiring 8a connection is used, and as shown in FIG. By connecting to the outermost ground main line 6, the external pad 7b
Like the r-pad 7g, it is used as a system ground (for this purpose, it is placed at the outermost periphery of the ground trunk iv).
このような構造とすることにより2つ以上の出力セルを
一体化して使用する場合において、グランドのインピー
ダンスを大幅に小さくすることができ、ノイズマージン
の向上し、出力レベルを安定化する作用効果ケ有する。With this structure, when two or more output cells are used together, it is possible to significantly reduce the ground impedance, improve the noise margin, and stabilize the output level. have
以上実施例で述べた本発明によれば、以下に記載するよ
うな効果を奏する。According to the present invention described in the embodiments above, the following effects are achieved.
複数の出力セルな並列接続して使用する場合に、犬きた
ノイズを発生する出力回路のグランドインピーダンスな
低減することができ、LSI全体としてノイズマージン
を向上させることができる。When a plurality of output cells are connected in parallel and used, the ground impedance of the output circuit that generates excessive noise can be reduced, and the noise margin of the entire LSI can be improved.
このためにグランド幹線の幅をひろげることたく、また
、空きパッドを利用できるために使用可能な入出力バッ
ファ数に変化がuく、チップ面積の荷動利用ができる。For this reason, the width of the ground trunk line is not increased, and since empty pads can be used, the number of input/output buffers that can be used is less variable, and the chip area can be used more efficiently.
第1区はLSIの全体概略平面図である。
第2図は第1図の一部拡大平面図である。
第3図は第1図におけるA−A’切断断面図、第4図は
同じ<B−13’切断断面図である。
1・・・半導体基板(チップ)、2・・・内部論理セル
群、3*3a*3b・・・入出力バッファ領域(インタ
ーフェース回路)、4・・・電源・グランド幹線、5・
・・電源・グランド幹線、6・・・出力用グランド幹線
、7.7at7b、7g”・外部パッド、8.8a・・
・AA配線tit、 9. 10・・・コンタクト部、
11・・・A1配* T2+。
第
図
8− A l白ど欝娑
第
図
第
図
第
図The first section is an overall schematic plan view of the LSI. FIG. 2 is a partially enlarged plan view of FIG. 1. FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA' in FIG. 1, and FIG. 4 is a sectional view taken along the line <B-13'. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Semiconductor substrate (chip), 2... Internal logic cell group, 3*3a*3b... Input/output buffer area (interface circuit), 4... Power supply/ground trunk line, 5...
・Power/ground main line, 6... Output ground main line, 7.7at7b, 7g"・External pad, 8.8a...
・AA wiring tit, 9. 10... contact part,
11...A1 layout* T2+. Figure 8-A
Claims (1)
が周辺にそって隣接して形成されるとともに、これらの
電源、グランド幹線および各バッファ領域と対になって
いる外部パッドが形成された半導体集積回路装置であっ
て、複数の入出力バッファ領域の一部は2つ以上の出力
セルを並列結線して一本化し、その共通端子を一つの外
部パッドに接続するとともに、複数の電源、グランド幹
線のうち最外周に配線した出力用グランド幹線と空きと
なった他の一つの外部パッドを接続してグランドとして
使用することを特徴とする半導体集積回路装置。 2、請求項1に記載の半導体集積回路装置において、2
つ以上の出力セルの並列結線端子と一つの外部パッドと
は下層アルミニウム配線により接続するとともに、最外
周グランド幹線と空きとなった他の一つの外部パッドと
の接続は上層アルミニウム配線により接続する。[Claims] 1. A plurality of input/output buffer areas are formed adjacent to each other along the periphery on one main surface of a semiconductor substrate, and are paired with these power supply lines, ground main lines, and each buffer area. A semiconductor integrated circuit device in which external pads are formed, in which a part of a plurality of input/output buffer areas is made up of two or more output cells connected in parallel, and their common terminals are connected to one external pad. In addition, a semiconductor integrated circuit device characterized in that an output ground main line wired at the outermost periphery of a plurality of power supply and ground main lines is connected to another vacant external pad for use as a ground. 2. In the semiconductor integrated circuit device according to claim 1, 2.
The parallel connection terminals of the three or more output cells and one external pad are connected by a lower layer aluminum wiring, and the connection between the outermost circumferential ground main line and another vacant external pad is connected by an upper layer aluminum wiring.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196591A JPH0362550A (en) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196591A JPH0362550A (en) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0362550A true JPH0362550A (en) | 1991-03-18 |
Family
ID=16360287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1196591A Pending JPH0362550A (en) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0362550A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6186153B1 (en) * | 1997-03-19 | 2001-02-13 | Hitachi, Ltd. | Plasma treatment method and manufacturing method of semiconductor device |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1196591A patent/JPH0362550A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6186153B1 (en) * | 1997-03-19 | 2001-02-13 | Hitachi, Ltd. | Plasma treatment method and manufacturing method of semiconductor device |
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