JPH0364045A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH0364045A
JPH0364045A JP1199443A JP19944389A JPH0364045A JP H0364045 A JPH0364045 A JP H0364045A JP 1199443 A JP1199443 A JP 1199443A JP 19944389 A JP19944389 A JP 19944389A JP H0364045 A JPH0364045 A JP H0364045A
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JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
semiconductor integrated
ground
ground line
circuit device
Prior art date
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Application number
JP1199443A
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Japanese (ja)
Inventor
Manabu Shibata
学 柴田
Takaharu Morishige
森重 隆春
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Microcomputer Engineering Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH0364045A publication Critical patent/JPH0364045A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/931Shapes of bond pads
    • H10W72/932Plan-view shape, i.e. in top view

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路装置に適用して有効な技術に
関するもので、特にB1−CMOSゲートアレイの如き
半導体集積回路装置に利用して有効な技術に関するもの
である。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a technique that is effective when applied to a semiconductor integrated circuit device, and is particularly effective when applied to a semiconductor integrated circuit device such as a B1-CMOS gate array. It is related to technology.

[従来の技術] B1−CMOSゲートアレイ技術に関しては例えば「日
経エレクトロニクスJ 1985年8月■2日、p18
7〜p208に開示されている。
[Prior art] Regarding B1-CMOS gate array technology, see, for example, "Nikkei Electronics J, August 2, 1985, p.
7 to p. 208.

ところで、かかるゲートアレイの如きセミカスタム半導
体集積回路装置において、複数個のI/Oセルと外部パ
ッドとを各々1対1に対応させた構成が考えられた。
By the way, in a semi-custom semiconductor integrated circuit device such as such a gate array, a configuration has been considered in which a plurality of I/O cells and external pads are each in a one-to-one correspondence.

この1対1に対応するI/Oセルと外部パッドとを複数
備える半導体集積回路装置の一例を示したのが第2図で
ある。
FIG. 2 shows an example of a semiconductor integrated circuit device including a plurality of I/O cells and external pads in one-to-one correspondence.

同図において、符号3はゲートアレイで構成される内部
回路を示しており、この内部回路3にはBi−CMOS
回路等が形成されている。符号1は図示されないリード
に接続される外部パッドを、2は工/○セル(外部イン
ターフェイス回路)をそれぞれ示しており、これら工/
○セル2,2〜2と外部パッド1.1〜1とは各々1対
1に対応するよう配置されている。該外部パッド1とI
/Oセル2とはアルミニウム等からなる配線4により接
続されており、I/Oセル2上には破線で示されるグラ
ンドライン6が形成されている。I/Oセル2とこのグ
ランドライン6とはコンタクト部/Oにより接続されて
おり、グランドライン6上にはグランドライン用コン9
91部8が形成されている。このグランドライン用コン
991部8は配線4aを介してグランド電位に接続され
る(グランド電位をなす)グランドライン用外部バッド
7に接続されている。
In the figure, reference numeral 3 indicates an internal circuit composed of a gate array, and this internal circuit 3 includes a Bi-CMOS
Circuits etc. are formed. Reference numeral 1 indicates an external pad connected to a lead not shown, and 2 indicates a work/○ cell (external interface circuit).
The cells 2, 2-2 and the external pads 1.1-1 are arranged in one-to-one correspondence, respectively. The external pads 1 and I
The I/O cell 2 is connected to the I/O cell 2 by a wiring 4 made of aluminum or the like, and a ground line 6 shown by a broken line is formed on the I/O cell 2. The I/O cell 2 and this ground line 6 are connected by a contact part /O, and a ground line contact 9 is provided on the ground line 6.
91 parts 8 are formed. This ground line connector 991 portion 8 is connected to the ground line external pad 7 which is connected to the ground potential (forms the ground potential) via the wiring 4a.

従って、上記工/○セル2を駆動すると、電流はI/O
セル2からコンタクト部/O、グランドライン6、グラ
ンドライン用コンタク1部8.配線4aを通ってグラン
ドライン用外部パッド7に流れ、外部のグランド電位に
流出するようになっている。
Therefore, when the above cell 2 is driven, the current is I/O
From cell 2 to contact part/O, ground line 6, ground line contact 1 part 8. It flows through the wiring 4a to the ground line external pad 7, and flows out to the external ground potential.

ここで、最近においては、外部パッド1に大きな負荷を
なすパスライン等を接続するようになってきており、開
動力を増大しなければならなくなってきた。
Recently, pass lines and the like that impose a large load have been connected to the external pad 1, and it has become necessary to increase the opening force.

従って、第2図の右側に示されるように、1個の外部パ
ッド1aに2個以上のI/Oセル(第2図においては2
個)2,2aをパラレル配線5により接続し出力を上げ
るようにして駆動力の増大を図ることが試みられた。
Therefore, as shown on the right side of FIG. 2, one external pad 1a has two or more I/O cells (two or more I/O cells in FIG.
Attempts have been made to increase the driving force by connecting the motors 2 and 2a with parallel wiring 5 to increase the output.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記半導体集積回路装置においては以下
の問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the above semiconductor integrated circuit device has the following problems.

すなわち、開動力の増大を図るべく一体化したI/Oセ
ル2及び2aからグランドライン用外部バッド7に向か
って急峻な電流が流れ込むことになり、グランドインピ
ーダンス(インダクタンス成分十抵抗成分)が大きくな
るといった問題点がある。特にこの一体化したI/Oセ
ル2及び2a上のグランドライン6に対するコンタクト
部/Oと、グランドライン用外部バッド7に接続される
グランドライン用コン991部8との間の距離が第2図
に示されるように長い場合には、距離に比例してインダ
クタンス成分及び抵抗成分が大きくなるので、グランド
ライン6において大きなノイズを発生することになると
共に、グランド電位が浮いてしまい(上昇してしまい)
正常な動作を期待できなくなってしまう。
In other words, a steep current flows from the I/O cells 2 and 2a, which are integrated in order to increase the opening force, toward the ground line external pad 7, and the ground impedance (inductance component + resistance component) increases. There are some problems. In particular, the distance between the contact part /O for the ground line 6 on the integrated I/O cells 2 and 2a and the ground line contact part 8 connected to the external pad 7 for the ground line is as shown in FIG. If the line is long as shown in , the inductance and resistance components will increase in proportion to the distance, which will generate large noise in the ground line 6 and cause the ground potential to float (rise). )
Normal operation cannot be expected.

ここで、電流の速度を遅くし急峻な電流がグランドライ
ン用外部バッド7に流れ込まないようにして上記問題点
に対処することも考えられるが。
Here, it is possible to solve the above problem by slowing down the speed of the current to prevent a steep current from flowing into the ground line external pad 7.

高速性が劣ってしまうので、特にBi−0M08回路を
含む半導体集積回路装置等に対しては好ましくない。
Since the high-speed performance is deteriorated, this is not preferable particularly for semiconductor integrated circuit devices including Bi-0M08 circuits.

本発明は係る問題点に鑑みなされたものであって、高速
性を維持したままで駆動力を増大することができ、しか
もその際にグランドラインにおけるノイズ低減をし得る
と共に、グランド電位の浮きを防止し正常な動作を可能
にする半導体集積回路装置を提供することを目的として
いる。
The present invention has been developed in view of the above problems, and is capable of increasing the driving force while maintaining high speed, and at the same time, can reduce noise in the ground line and prevent floating of the ground potential. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that prevents this problem and enables normal operation.

[課題を解決するための手段] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
[Means for Solving the Problems] Representative inventions disclosed in this application will be summarized as follows.

すなわち、1対1に対応するI/Oセルと外部パッドと
を複数備える半導体集積回路装置において、1個の外部
パッドに2個以上のI/Oセルをパラレルに接続する場
合に5分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと前記
各I/Oセルのグランド側が接続されるグランドライン
とを長さを短くすべく接続し、該空きパッドの電位をグ
ランド電位とするようにしたものである。
That is, in a semiconductor integrated circuit device that includes a plurality of I/O cells and external pads in one-to-one correspondence, when two or more I/O cells are connected in parallel to one external pad, the 5-branch side A vacant pad corresponding to an I/O cell and a ground line to which the ground side of each I/O cell is connected are connected to shorten the length, and the potential of the vacant pad is set to the ground potential. be.

[作用] 上記した手段によれば、1個の外部パッドに2個以上の
I/Oセルをパラレルに接続する場合に、分岐側のI/
Oセルに対応する空きパッドと前記各I/Oセルのグラ
ンド側が接続されるグランドラインとを長さを短くすべ
く接続し、該空きパッドの電位をグランド電位とするよ
うにしたので、高速性を維持したままで開動力を増大し
ても、−体化したI/Oセルからの急峻な電流はこの分
岐グランド電位に流れ、グランドインピーダンスを小さ
くできるという作用により、高速性を維持したままで駆
動力を増大し、しかもその際にグランドラインにおける
ノイズ低減をし得ると共に、グランド電位の浮きを防止
し正常な動作を可能にするという上記目的が達成される
ことになる。
[Function] According to the above means, when two or more I/O cells are connected in parallel to one external pad, the I/O cells on the branch side
The empty pad corresponding to the O cell and the ground line to which the ground side of each I/O cell is connected are connected to shorten the length, and the potential of the empty pad is set to the ground potential, which improves high speed. Even if the opening force is increased while maintaining the current, the steep current from the negative I/O cell flows to this branch ground potential, and the ground impedance can be reduced, so the high speed is maintained. The above objectives of increasing the driving force, reducing noise in the ground line, and preventing floating of the ground potential to enable normal operation are achieved.

[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。[Example] Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図には本発明に係る半導体集積回路装置の実施例が
示されている。その概要を説明すれば次のとおりである
FIG. 1 shows an embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. The outline is as follows.

同図において、符号3はゲートアレイで構成される内部
回路を示しており、この内部回路3にはBi−0M08
回路等が形成されている。符号1は図示されないリード
に接続される外部パッドを、2はI/Oセル(外部イン
ターフェイス回路)をそれぞれ示しており、これらI/
Oセル2,2〜2と外部パッド1,1〜1とは各々1対
1に対応するよう配置されている。該外部パッド1と工
/Oセル2とはアルミニウム等からなる配線4により接
続されており、I/Oセル2上には破線で示されるグラ
ンドライン6が形成されている。I/Oセル2とこのグ
ランドライン6とはコンタクト部/Oにより接続されて
おり、グランドライン6上にはグランドライン用コンタ
ク1部8が形成されている。このグランドライン用コン
タク1部8は配線4aを介してグランド電位に接続され
る(グランド電位をなす)グランドライン用外部パッド
7に接続されている。一方、図における右側においては
、11!動力の増大を図るべく1個の外部パッド1aに
2個のI/Oセル2,2aがパラレル配線5により接続
されている。この分岐側のI/Oセル2a上のグランド
ライン6にはグランドライン用追加コン991部/Oa
が形成されており、このグランドライン用追加コン99
1部/Oaはアルミニウム等からなる配線9を介して該
工/Oセル2aに対応する空きパッドllaに接続され
ている。この空きパッドllaは図示されないグランド
電位に接続されており、その電位はグランド電位と同電
位となっている。
In the figure, reference numeral 3 indicates an internal circuit composed of a gate array, and this internal circuit 3 includes Bi-0M08
Circuits etc. are formed. Reference numeral 1 indicates an external pad connected to a lead (not shown), and 2 indicates an I/O cell (external interface circuit).
The O cells 2, 2-2 and the external pads 1, 1-1 are arranged in a one-to-one correspondence, respectively. The external pad 1 and the I/O cell 2 are connected by a wiring 4 made of aluminum or the like, and a ground line 6 shown by a broken line is formed on the I/O cell 2. The I/O cell 2 and this ground line 6 are connected by a contact part /O, and a ground line contact 1 part 8 is formed on the ground line 6. This ground line contact 1 part 8 is connected to the ground line external pad 7 which is connected to the ground potential (forms the ground potential) via the wiring 4a. On the other hand, on the right side of the figure, 11! Two I/O cells 2, 2a are connected to one external pad 1a by a parallel wiring 5 in order to increase power. The ground line 6 on the I/O cell 2a on this branch side has an additional ground line capacitor 991/Oa.
is formed, and this additional connector 99 for the ground line
The first part /Oa is connected to the empty pad lla corresponding to the first part /O cell 2a via a wiring 9 made of aluminum or the like. This empty pad lla is connected to a ground potential (not shown), and its potential is the same as the ground potential.

従って、一体化したI/Oセル2,2aからの急峻な電
流はコンタクト部/O、グランドライン6、一体化した
I/Oセル2,2aに近いグランドライン用追加コン9
91部/Oa、配線9を通って空きパッドllaの方に
大半が流れて外部のグランド電位に流出することになり
、従来のグランドライン用外部パッド7側にはほとんど
流れなくなる。
Therefore, the steep current from the integrated I/O cells 2, 2a flows through the contact portion /O, the ground line 6, and the additional ground line ground line ground line ground line 9 near the integrated I/O cells 2, 2a.
91/Oa, most of it flows to the empty pad lla through the wiring 9 and flows out to the external ground potential, and almost no current flows to the conventional ground line external pad 7 side.

ここで、本実施例においては、駆動力を増すべく一体化
したI/Oセル2及び2a上のグランドライン6に対す
るコンタクト部/Oと、空きバッドllaに接続される
グランドライン用追加コン991部/Oaとの間の距離
は極めて短くなっており、インダクタンス成分及び抵抗
成分が可能な限り小さくされているので、一体化したI
/Oセル2,2aから急峻な電流が生じても、グランド
ライン6におけるノイズは低く抑えられ、グランド電位
の浮きも防止されるようになっている。
Here, in this embodiment, a contact part /O for the ground line 6 on the I/O cells 2 and 2a integrated to increase the driving force, and an additional ground line contact part 991 connected to the vacant pad lla. /Oa is extremely short, and the inductance and resistance components are made as small as possible, so the integrated I
Even if a steep current is generated from the /O cells 2, 2a, noise in the ground line 6 is suppressed to a low level, and floating of the ground potential is also prevented.

なお1本実施例においては、a動力の増大を図るべく1
個の外部パッド1aに2個のI/Oセル2.2aをパラ
レル配線5により接続するようにしているが、本実施例
は1個の外部パッドに3個以上のI/Oセルを接続する
場合においても同様に適用可能であり、その場合には、
分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと各1/Oセ
ルのグランド側が接続されるグランドライン6とを長さ
を短くすべく全部接続し、上記全ての空きパッドをグラ
ンド電位に接続するようにしても良いし。
Note that in this embodiment, in order to increase the power a,
Although two I/O cells 2.2a are connected to one external pad 1a by parallel wiring 5, in this embodiment three or more I/O cells are connected to one external pad. It is equally applicable in cases where:
All the empty pads corresponding to the I/O cells on the branch side and the ground line 6 to which the ground side of each 1/O cell is connected are connected to shorten the length, and all the empty pads are connected to the ground potential. You can do it like this.

一部の空きパッドのみを各I/Oセルのグランド側が接
続されるグランドライン6に長さを短くすべく接続する
ようにしても良い。
Only some of the empty pads may be connected to the ground line 6 to which the ground side of each I/O cell is connected in order to shorten the length.

このように構成される半導体集積回路装置によれば次の
ような効果を得ることができる。
According to the semiconductor integrated circuit device configured in this manner, the following effects can be obtained.

すなわち、1個の外部パッド1aに2個以上のI/Oセ
ル2をパラレルに接続する場合に、分岐側のI/Oセル
2aに対応する空きパッドllaと各I/Oセル2のグ
ランド側が接続されるグランドライン6とを長さを短く
すべく接続し、該空きパッドllaの電位をグランド電
位とするようにしたので、高速性を維持したままで駆動
力を増大しても、一体化した工/○セル2,2aからの
急峻な電流はこの分岐側の工/○セル2aに対応するパ
ッドllaを介して直ちにグランド電位に流れ、グラン
ドインピーダンスを小さくできるという作用により、高
速性を維持したままで駆動力を増大することができ、し
かもその際にグランドライン6におけるノイズ低減を図
ることが可能になると共に、グランド電位の浮きが防止
されて正常な動作を行なうことが可能になる。
That is, when connecting two or more I/O cells 2 in parallel to one external pad 1a, the vacant pad lla corresponding to the I/O cell 2a on the branch side and the ground side of each I/O cell 2 The connected ground line 6 is connected to shorten the length, and the potential of the empty pad lla is set to the ground potential, so even if the driving force is increased while maintaining high speed, the integrated The steep current from the work/○ cells 2 and 2a immediately flows to the ground potential via the pad lla corresponding to the work/○ cell 2a on this branch side, and the ground impedance can be reduced, thereby maintaining high speed. It is possible to increase the driving force while maintaining the ground voltage, and at the same time, it is possible to reduce noise in the ground line 6, and to prevent floating of the ground potential, so that normal operation can be performed.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

例えば、上記実施例おいては、ゲートアレイにより構成
された半導体集積回路装置に対する適用例が述べられて
いるが、本実施例はセミカスタムタイプの半導体集積回
路装置全てに対して適用可能であり、要は複数個のI/
Oセルと外部パッドとを各々1対1に対応させている半
導体集積回路装置全てに対して適用可能である。
For example, although the above embodiment describes an example of application to a semiconductor integrated circuit device configured with a gate array, this embodiment is applicable to all semi-custom type semiconductor integrated circuit devices. In short, multiple I/
The present invention is applicable to all semiconductor integrated circuit devices in which O cells and external pads are in one-to-one correspondence.

なお1本実施例は、高速性が維持されているので、Bi
−CMO5回路を含んでなる半導体集積回路装置に適用
すれば特に有効であるが、CMOSトランジスタを含ま
ないバイポーラトランジスタやバイポーラトランジスタ
を含まないCMOSトランジスタより構成される半導体
集積回路装置等にも同様に適用できる。
Note that this embodiment maintains high speed, so Bi
-It is particularly effective when applied to a semiconductor integrated circuit device that includes a CMO5 circuit, but it is also applicable to a semiconductor integrated circuit device that is configured from a bipolar transistor that does not include a CMOS transistor or a CMOS transistor that does not include a bipolar transistor. can.

[発明の効果] 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
[Effects of the Invention] The effects obtained by typical inventions disclosed in this application are briefly explained below.

すなわち、l対(に対応する工/○セルと外部パッドと
を複数備える半導体集積回路装置において、1個の外部
パッドに2個以上のI/Oセルをパラレルに接続する場
合に、分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと各工
/○セルのグランド側が接続されるグランドラインとを
長さを短くすべく接続し、該空きパッドの電位をグラン
ド電位とするようにしたので、高速性を維持したままで
駆動力を増大しても、一体化したI/Oセルからの急峻
な電流はこの分岐側のI/Oセルに対応するパッドを介
して直ちにグランド電位に流れることから、グランドイ
ンピーダンスを小さくできるようになる。その結果、高
速性を維持したままで駆動力を増大することができ、し
かもその際にグランドラインにおけるノイズ低減を図る
ことが可能になると共に、グランド電位の浮きが防止さ
れて正常な動作を行なうことが可能になる。
That is, in a semiconductor integrated circuit device that includes a plurality of I/O cells and external pads corresponding to l pair (), when two or more I/O cells are connected in parallel to one external pad, The empty pad corresponding to the I/O cell and the ground line to which the ground side of each work/○ cell is connected are connected to shorten the length, and the potential of the empty pad is set to the ground potential, so high speed Even if the driving force is increased while maintaining the characteristics, the steep current from the integrated I/O cell will immediately flow to the ground potential via the pad corresponding to the I/O cell on the branch side. The ground impedance can be reduced.As a result, it is possible to increase the driving force while maintaining high speed, and at the same time, it is possible to reduce noise on the ground line, and also to reduce the floating ground potential. is prevented and normal operation is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る半導体集積回路装置の実施例の要
部の平面図、 第2図は本発明に先立って考えられた半導体集積回路装
置の要部の平面図である。 1、・・・外部パッド、la・・・・2個以上のI/O
セルに接続される外部パッド、2・・・・I/Oセル、
2a・・・・分岐側のI/Oセル、5・・・・パラレル
配線、6・・・・グランドライン、9・・・・空きパッ
ドとグランドラインとの接続配線、lla・・・・空き
パッド。
FIG. 1 is a plan view of a main part of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view of a main part of a semiconductor integrated circuit device conceived prior to the present invention. 1. External pad, la... 2 or more I/Os
External pad connected to the cell, 2... I/O cell,
2a...I/O cell on branch side, 5...Parallel wiring, 6...Ground line, 9...Connection wiring between empty pad and ground line, lla...Empty pad.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、1対1に対応するI/Oセルと外部パッドとを複数
備える半導体集積回路装置において、1個の外部パッド
に2個以上のI/Oセルをパラレルに接続する場合に、
分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと前記各I/
Oセルのグランド側が接続されるグランドラインとを長
さを短くすべく接続し、該空きパッドの電位をグランド
電位としたことを特徴とする半導体集積回路装置。 2、前記半導体集積回路装置はBi−CMOS回路を含
んでなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
半導体集積回路装置。 3、前記半導体集積回路装置にはゲートアレイが形成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載ま
たは第2項記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. In a semiconductor integrated circuit device including a plurality of I/O cells and external pads in one-to-one correspondence, two or more I/O cells are connected in parallel to one external pad. In case,
The empty pad corresponding to the I/O cell on the branch side and each of the I/O cells
A semiconductor integrated circuit device characterized in that the ground side of the O cell is connected to a ground line to which the ground side is connected to shorten the length, and the potential of the vacant pad is set to the ground potential. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device includes a Bi-CMOS circuit. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein a gate array is formed in the semiconductor integrated circuit device.
JP1199443A 1989-08-02 1989-08-02 Semiconductor integrated circuit device Pending JPH0364045A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04171843A (en) * 1990-11-05 1992-06-19 Nec Ic Microcomput Syst Ltd Gate array system lsi
JP2007181541A (en) * 2006-01-06 2007-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Home appliance storage

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04171843A (en) * 1990-11-05 1992-06-19 Nec Ic Microcomput Syst Ltd Gate array system lsi
JP2007181541A (en) * 2006-01-06 2007-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Home appliance storage

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