JPH0362550A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Publication number
JPH0362550A
JPH0362550A JP1196591A JP19659189A JPH0362550A JP H0362550 A JPH0362550 A JP H0362550A JP 1196591 A JP1196591 A JP 1196591A JP 19659189 A JP19659189 A JP 19659189A JP H0362550 A JPH0362550 A JP H0362550A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ground
output
integrated circuit
semiconductor integrated
pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1196591A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Tsuru
津留 義裕
Takashi Kuraishi
倉石 孝
Takaharu Morishige
森重 隆春
Fumiaki Matsuzaki
文昭 松崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Microcomputer Engineering Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP1196591A priority Critical patent/JPH0362550A/ja
Publication of JPH0362550A publication Critical patent/JPH0362550A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/931Shapes of bond pads
    • H10W72/932Plan-view shape, i.e. in top view

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路装[(IC,LSI)に係り、
ゲートアレイにおいて出力用グランド電流によるノイズ
の発生及びグランド電位・出力レベルの上昇を低減化す
る技術に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体基板(チップ)の−主表面において、内部論理セ
ルV囲んで複数の入出力バッファ領域がインターフェー
スとして隣接し配線され、これらの電源、グランド幹線
およびバッファ領域と対にTLっている外部パッド(ポ
ンディングパッド)が形成された半導体乗積回路装置に
ついては、日経エレクトロニクス1985年6月3日号
p151〜p177に記載されている。
このような半導体装置において、負荷の大きなシステム
を駆動する場合、LSI出力の駆動能カケ上げる必要が
あり、そのために2つ以上の出ヵセル(バッファ)V並
列に接続して1本化することにより対応することが考え
られる。
ところが駆動能力が上がったことで、出力の同時ONに
よってグランド幹線に流れる電流(グランド電流)も2
倍以上とはって大きたノイズヶ発生させることになる。
また、グランドに流れる電流が大きく耽ることによりグ
ランドのインピーダンス成分によって出力レベルが変動
する。
このようなグランドに発生するノイズな抑える一つの手
段として、従来では使用していはい人出カバッファセル
なグランドに使用することでグランドの補強をすること
が行われた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記した従来技術によれは、未使用の入出力セルをグラ
ンドとして使用することにより、LSI全体として使用
可能たセルの数が減ることにより、半導体チップの有効
7.C利用ができはいとい5問題があった。
本発明は上記した問題を解決するためのもので、その目
的は、半導体チップ表面で使用可能な人出カセルケグラ
ンドの補強によって減少させることはく、グランドイン
ピーダンスを低減できる半導体集積回路装置の提供にあ
る。
〔課題ケ解決するための手段〕
上記目的を解決するために本発明では、基板周辺にそっ
て複数の入出力バッファ領域な有し、それらの電源、グ
ランド幹線及び各バッファ領域と対になっている外部パ
ッドが形成された半導体装置において、41数の電源、
グランド幹線の中で出力用グランド幹線す最外周に配線
しておき、このグランド幹線と空きになった外部パッド
とな接続してグランドとして使用するものである。
〔作用〕
最外周に配線された出力用グランド幹線と空きパッドを
接続してグランドとして使用することにより、出力端子
に最も近い個所でのノイズの吸収が行われることになり
、同時に低インピーダンス化でき、LSI全体としてノ
イズマージンが向上し、出力レベルの変動が抑えられ、
また、空きパッドY利用することでチップ面積な有効に
利用することかできる。
〔実施例〕
以下、本発明ケゲートアレイな臂するLSIに適用した
場合の一実施例について図tfiを参照しながら説明す
る。
第1図はLSIの全体平面概略図である。1は半導体チ
ップ(基板)であって、その主表面の中央部分に内部論
理セル群2が形成され、このl!i!埋セル群2な囲ん
でインターフェースとして複数の入出力バッファ領域3
が互いに隣接して配設され、これらはその表面上で単層
または多層のAJ(アルミニウム)配線によって相互に
結線されてLSIの回路を構成する。バッファ領域の上
には層間絶縁膜を介して電源用およびグランド幹線用の
M配線4 、5 、6が配線される。バッファ領域と対
に耽るようにチップ周辺にわたって人1膜から耽る外部
パッド(ボンディング用パッド)7が設けられる。
本発明では電源、グランド幹線のうち2つの出力用グラ
ンド6′1に最外周に配線する構成なとる。
第2図は第1因における入出力バッファ・セル近傍の一
部拡大平面図である。第3図、第4図は第zmニyケル
h−A: 、 B −B”各切断断市図である。
同区に示されるように、外部端子(パッド)7とバッフ
ァセル3とは下層のAAtllilll−介して接続さ
れ、システムグランドはグランドライン用パッド7gか
らA1配紛8、コンタクト部9.10を介して外部イン
ターフェース回路(バッファセル)に接続される構造ケ
とる。
これらのうち、2つの隣接しあう出力セル3a。
3bv#AのA看配#M8aを介して1つの出力パッド
7aに接続して一本化して使用する場合(第3図)グラ
ンドライン用パッド7gまでの長い距離分グランドライ
ン6にインピーダンスをもつことにyzるが、本発明で
は共通のA1配線8aな接続することによって生じた他
の一つのパッド7bケ利用し、第4図に示すようにパッ
ド7b’&上層ノA # (21配線11により最外周
のグランド幹線6に接続することにより外部パッド7b
r−パッド7gと同様にシステムグランドとして使用す
る(このためにもグランド幹iv最外周に配設しはけれ
ははらない)。
このような構造とすることにより2つ以上の出力セルを
一体化して使用する場合において、グランドのインピー
ダンスを大幅に小さくすることができ、ノイズマージン
の向上し、出力レベルを安定化する作用効果ケ有する。
〔発明の効果〕
以上実施例で述べた本発明によれば、以下に記載するよ
うな効果を奏する。
複数の出力セルな並列接続して使用する場合に、犬きた
ノイズを発生する出力回路のグランドインピーダンスな
低減することができ、LSI全体としてノイズマージン
を向上させることができる。
このためにグランド幹線の幅をひろげることたく、また
、空きパッドを利用できるために使用可能な入出力バッ
ファ数に変化がuく、チップ面積の荷動利用ができる。
【図面の簡単な説明】
第1区はLSIの全体概略平面図である。 第2図は第1図の一部拡大平面図である。 第3図は第1図におけるA−A’切断断面図、第4図は
同じ<B−13’切断断面図である。 1・・・半導体基板(チップ)、2・・・内部論理セル
群、3*3a*3b・・・入出力バッファ領域(インタ
ーフェース回路)、4・・・電源・グランド幹線、5・
・・電源・グランド幹線、6・・・出力用グランド幹線
、7.7at7b、7g”・外部パッド、8.8a・・
・AA配線tit、 9. 10・・・コンタクト部、
11・・・A1配* T2+。 第 図 8− A l白ど欝娑 第 図 第 図 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体基板の一主表面に複数の入出力バッファ領域
    が周辺にそって隣接して形成されるとともに、これらの
    電源、グランド幹線および各バッファ領域と対になって
    いる外部パッドが形成された半導体集積回路装置であっ
    て、複数の入出力バッファ領域の一部は2つ以上の出力
    セルを並列結線して一本化し、その共通端子を一つの外
    部パッドに接続するとともに、複数の電源、グランド幹
    線のうち最外周に配線した出力用グランド幹線と空きと
    なった他の一つの外部パッドを接続してグランドとして
    使用することを特徴とする半導体集積回路装置。 2、請求項1に記載の半導体集積回路装置において、2
    つ以上の出力セルの並列結線端子と一つの外部パッドと
    は下層アルミニウム配線により接続するとともに、最外
    周グランド幹線と空きとなった他の一つの外部パッドと
    の接続は上層アルミニウム配線により接続する。
JP1196591A 1989-07-31 1989-07-31 半導体集積回路 Pending JPH0362550A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1196591A JPH0362550A (ja) 1989-07-31 1989-07-31 半導体集積回路

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JP1196591A JPH0362550A (ja) 1989-07-31 1989-07-31 半導体集積回路

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Publication Number Publication Date
JPH0362550A true JPH0362550A (ja) 1991-03-18

Family

ID=16360287

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1196591A Pending JPH0362550A (ja) 1989-07-31 1989-07-31 半導体集積回路

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JP (1) JPH0362550A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6186153B1 (en) * 1997-03-19 2001-02-13 Hitachi, Ltd. Plasma treatment method and manufacturing method of semiconductor device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6186153B1 (en) * 1997-03-19 2001-02-13 Hitachi, Ltd. Plasma treatment method and manufacturing method of semiconductor device

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