JPH0363542B2 - - Google Patents
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- JPH0363542B2 JPH0363542B2 JP57148470A JP14847082A JPH0363542B2 JP H0363542 B2 JPH0363542 B2 JP H0363542B2 JP 57148470 A JP57148470 A JP 57148470A JP 14847082 A JP14847082 A JP 14847082A JP H0363542 B2 JPH0363542 B2 JP H0363542B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/22—Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc
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Description
この発明はアルカリ性亜鉛めつき浴とめつき方
法ならびに溶中への添加剤として極めて有用な有
機化合物に関する。この発明における有用な化合
物とはアルキル化したヒドロキシルアリル化合物
であつて、シアナイド浴又は非シアナイド−アル
カリ性亜鉛浴に用いると光沢性を与え、及び／又
は“しみ”の発生を抑制する著しい効果がある。 通常、アルカリ性亜鉛めつき浴はシアナイドを
含有するアルカリ浴を用いて行ない、広い電流密
度範囲に亘つて光沢のある均一な亜鉛めつきを与
える利点がある。しかし乍らシアナイド浴は廃水
処理の問題から次第に経費がかさむようになり、
近年では非シアナイド浴が開発されてきた。この
シアナイド−アルカリ性亜鉛浴の技術の一つには
ナトリウムジンケートから成る浴の使用が包含せ
られる。不幸にしてこれらの非シアナイド浴は、
通常、金属や有機汚染物の双方の蓄積に対して敏
感である。このめつき浴は初期には良好な性能を
示すが、次第に性能が劣化して、引続いての明色
浸漬不動態処理工程において暗色皮膜が著しく生
成するようになる。 この発明においては、アルカリ性亜鉛めつき浴
への添加剤として極めて有用な貴重な化合物が提
案される。この化合物はシアナイド含有のアルカ
リ性亜鉛めつき浴に対する光沢剤及び防汚用添加
剤として有用であるばかりでなく、ナトリウムジ
ンケート浴のような非シアナイド浴のようなアル
カリ性亜鉛めつき浴に対する光沢剤及び防汚用添
加剤としてもまた特に有用である。この発明によ
るめつき浴は広範囲の電流密度に亘つての亜鉛め
つきに適し、かつクロメート及び非クロメート化
成被覆を包含するすべての型の化成被覆に対して
も有用である。 この発明は次の記載を参照することにより、よ
りよく理解されるはずであるが、特記しない限り
すべての部及び％は重量基準である。 この発明は有用な化合物、該化合物を使用した
亜鉛めつき浴及び該めつき浴を使用するめつき方
法に関する。この発明によるこの有用な化合物と
は、例えばバニリンを３−クロル−２−ヒドロキ
シプロピル−トリメチルアンモニウムクロライド
によりアルキル化してあるようなアルキル化せら
れているヒドロキシアリル化合物である。この化
合物はアルカリ性亜鉛めつき浴用添加剤、例えば
光沢剤及び／又は防汚用添加剤として広範な電流
密度に亘つて効果を発揮することが分つた。この
発明によるアルカリ性亜鉛めつき浴はこの有用な
化合物を含有している。 この発明による化合物は次の構造式： 前記式中、 R1を水素、メトキシ基から選沢し； R2をアルデヒド部分及びこのアルデヒド部分
のバイサルフアイト付加物から成る部類から選沢
し； R3は２−ヒドロキシプロピル基である； Ｙを −Ｎ （R4）3X 及び
法ならびに溶中への添加剤として極めて有用な有
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物とはアルキル化したヒドロキシルアリル化合物
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カリ性亜鉛浴に用いると光沢性を与え、及び／又
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含有するアルカリ浴を用いて行ない、広い電流密
度範囲に亘つて光沢のある均一な亜鉛めつきを与
える利点がある。しかし乍らシアナイド浴は廃水
処理の問題から次第に経費がかさむようになり、
近年では非シアナイド浴が開発されてきた。この
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ナトリウムジンケートから成る浴の使用が包含せ
られる。不幸にしてこれらの非シアナイド浴は、
通常、金属や有機汚染物の双方の蓄積に対して敏
感である。このめつき浴は初期には良好な性能を
示すが、次第に性能が劣化して、引続いての明色
浸漬不動態処理工程において暗色皮膜が著しく生
成するようになる。 この発明においては、アルカリ性亜鉛めつき浴
への添加剤として極めて有用な貴重な化合物が提
案される。この化合物はシアナイド含有のアルカ
リ性亜鉛めつき浴に対する光沢剤及び防汚用添加
剤として有用であるばかりでなく、ナトリウムジ
ンケート浴のような非シアナイド浴のようなアル
カリ性亜鉛めつき浴に対する光沢剤及び防汚用添
加剤としてもまた特に有用である。この発明によ
るめつき浴は広範囲の電流密度に亘つての亜鉛め
つきに適し、かつクロメート及び非クロメート化
成被覆を包含するすべての型の化成被覆に対して
も有用である。 この発明は次の記載を参照することにより、よ
りよく理解されるはずであるが、特記しない限り
すべての部及び％は重量基準である。 この発明は有用な化合物、該化合物を使用した
亜鉛めつき浴及び該めつき浴を使用するめつき方
法に関する。この発明によるこの有用な化合物と
は、例えばバニリンを３−クロル−２−ヒドロキ
シプロピル−トリメチルアンモニウムクロライド
によりアルキル化してあるようなアルキル化せら
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合物はアルカリ性亜鉛めつき浴用添加剤、例えば
光沢剤及び／又は防汚用添加剤として広範な電流
密度に亘つて効果を発揮することが分つた。この
発明によるアルカリ性亜鉛めつき浴はこの有用な
化合物を含有している。 この発明による化合物は次の構造式： 前記式中、 R1を水素、メトキシ基から選沢し； R2をアルデヒド部分及びこのアルデヒド部分
のバイサルフアイト付加物から成る部類から選沢
し； R3は２−ヒドロキシプロピル基である； Ｙを −Ｎ （R4）3X 及び
【式】
から成る部類から選沢し；
Ｘはハロゲン又はサルフエートであり；
R4はメチル基である；
R5は水素である
を有している。
この発明による化合物はバニリンのようなヒド
ロキシアリル化合物を３−クロル−２−ヒドロキ
シプロピル−トリメチルアンモニウムクロライド
のようなトリアルキル−アミノ−ハロ−アルキル
ハライド塩によりアルキル化することによつて製
造できる。この化合物の内容とその調製法は後述
する実施例１〜３に詳しく述べられている。 この発明における化合物で特に好ましいものは
次のものである： ３−（４−ホルミル−フエノキシ）−２−ヒドロ
キシプロピル−トリメチルアンモニウムクロライ
ド； ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモニ
ウムクロライド；及び ３−〔３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノ
キシ）−２−ヒドロキシプロピル〕−１−メチルイ
ミダゾリウムクロライド，バイサルフアイト付加
物 この発明におけるこの化合物はアルカリ性亜鉛
めつき浴一般に対する有用な添加剤であるが、ま
た非シアナイドのアルカリ性亜鉛めつき浴に対し
ても有利に使用することができる。例えばこの添
加剤は光沢剤として有用であつて引続く明色浸漬
不動態処理工程において非シアナイド亜鉛浴から
の亜鉛皮膜表面に暗色のしみが発生するのを抑制
したり減少させる効果がある。更にはこの添加剤
はシアナイド浴への光沢剤として効果があり、銅
や他の金属イオンに起因する“しみ”が生起する
ような場合の防汚用添加剤として用いることもで
きる。 この発明による添加剤の使用量は防汚効果もし
くは光沢効果を発揮せしめるのに十分な濃度にお
いて作業浴中に加える。添加剤濃度は一般的には
約0.1ｇ．／．、ないし約10ｇ．／．好ましく
は約0.5ｇ．／．ないし約５ｇ．／．の範囲
以内である。 この発明のめつき浴は、この添加剤化合物に加
えてさらに、金属亜鉛の析出に要する亜鉛イオン
もしくはジンケートイオンを含有している。浴中
への亜鉛源は慣用の方法によつて供給する。例え
ば、ジンケートイオンの濃縮液などは市販せられ
ている。便法として、高純度亜鉛金属を高純度の
水酸化ナトリウムに溶解して亜鉛を錯化させるこ
とによつてジンケートイオンを得ることができ
る。当然のこと乍ら亜鉛イオン又はジンケートイ
オンの使用量は電着を効果的に実施できる量ない
しはもはや満足な電着が生起しない量の範囲にお
いて用いる。典型的な濃度は約２ｇ．／．ない
し30ｇ．／．、好ましくは約４ｇ．／．ない
し約15ｇ．／．（金属亜鉛基準）の濃度である。
水酸化ナトリウムの典型的濃度は約50ｇ．／．
ないし約ｇ．／．、シアン化ナトリウムの典型
的濃度は約８ｇ．／．ないし約112ｇ．／．
である。 作業浴はまた１種または数種の追加的光沢剤を
含有しうる。特にこの発明による化合物は、ポリ
ビニルアルコール、ポリエチレンポリアミンもし
くはその第４級塩、第４級化ピリジンカルボン
酸、エピクロルヒドリンと少なくとも窒素原子２
個を有するヘテロサイクリツク化合物との縮合ポ
リマー、ならびにこれらの混合物から成る部類か
ら選沢せられた光沢剤と共に使用すると光沢と
“つや”が向上できる。 当然乍らアルカリ性亜鉛浴中に慣用せられるよ
うな他の任意の成分もこの発明の作業浴中に使用
できる。例えば粒子リフアイナー、界面活性剤、
緩衝剤、錯化剤及びその他も用いうる。 この発明の浴を用いると緻密で良好な粒子を有
する光沢性亜鉛めつきが得られる許りでなく浴中
での鉄（）イオンのような汚染金属イオンの存
在に耐えられるようになり浴の長期の使用が可能
になる。 この発明によるめつき操作は、かくはん下又は
無かくはん下で約0.5A／Ｄm2ないし約8.6A／Ｄ
m2のカソード電流密度において実施できる。浴は
通常、室温で操作するが55℃までは使用できる。
好ましい浴温は約20℃ないし約35℃である。 この発明は次の実施例から更に明瞭になるはず
である。 実施例 １ この発明による化合物の製法は次の通りであ
る。 ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド（15.9ｇ．，
0.13モル）及び水（50ml．）を混合し、かくはん
し乍ら水酸化ナトリウム（6.8ml．，50％，0.13モ
ル）を加える。この混合物を85℃に加熱して３−
クロル−２−ヒドロキシ−プロピルトリメチルア
ンモニウムクロライド（50％水溶液20ｇ．，0.13
モル）を３時間に亘つて徐々に加える。反応生成
物は次の構造式： ３−（４−ホルミルフエノキシ）−２−ヒドロキ
シプロピルトリメチル−アンモニウムクロライド
を有する化合物であつた。 実施例 ２ バニリン（10ｇ．，0.065モル，水25ml．中）と
水酸化ナトリウム（等モル）とを混合し、３−ク
ロル−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアン
モニウムクロライド溶液（50％水溶液24.7ｇ．，
0.065モル）を徐々に加えた。この混合物を１1/2
時間、還流した。 反応生成物は次の構造式： ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモニ
ウムクロライド を有する化合物であつた。 実施例 ３ １−メチルイミダゾール（50ml．，0.628モル）
に１当量の塩化水素酸（52ml．，0.628モル）を添
加し、次いで等モルのエピクロルヒドリン（68.5
ml．，0.628モル）を徐々に加えた。この混合物を
５時間還流し、次いのでバニリンのナトリウム塩
溶液（95.45ｇ．，0.628モルのバニリン，32.8ml．
の50％水酸化ナトリウム及び100ml．の水）中に
加えて３時間還流した後、冷却して黄色固体を得
た。この固体（40ｇ．，0.122モル，水100ml．中）
をナトリウムバイサルフアイト（12.4ｇ．，0.130
モル）と反応せしめて水への溶解性を増加せしめ
た。反応生成物は次の構造式： ３−〔３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノ
キシ）−２−ヒドロキシプロピル〕−１−メチルイ
ミダゾリウムクロライド，バイサルフアイト付加
物 を有する化合物であつた。 実施例 ４ 次の処方によつて亜鉛めつき浴を調製した。 亜 鉛 金 属 7.8ｇ．／． 水酸化ナトリウム 83ｇ．／． ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモ
ニウムクロライド １ｇ．／． 研摩した試験鋼板を洗浄し、無かくはん下で28
℃、10分間、セル電流２アンペアの条件下で267
ml．のハルセル中でめつきした。生成亜鉛めつき
は3A／Ｄm2の電流密度以下で光沢があり、後処
理により不動態性の透明な化成皮膜を生成した。 実施例 ５ 次の処方による浴を用いて実施例４の方法に従つ
て亜鉛めつきを電着した。 亜 鉛 金 属 ９ｇ．／． 水酸化ナトリウム 90ｇ．／． ３−〔３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノ
キシ）−２−ヒドロキシプロピル〕−１−メチル
イミダゾリウムクロライド，バイサルフアイト
付加物 0.9ｇ．／． 生成亜鉛めつきは3A／Ｄm2以下において光沢
があり、5.3A／Ｄm2以下において粒子の緻密性
に優れ、後処理により不動態性の透明な化成皮膜
が生じた。 実施例 ６ 次の処方に従つて調製した浴を用いて実施例４
と同様に亜鉛めつきを電着した。 亜 鉛 金 属 ６ｇ．／． 水酸化ナトリウム 70ｇ．／． 第２鉄イオン（） 0.0075ｇ．／． ３−クロル−２−ヒドロキシプロピル−トリメ
チルアンモニウムクロライドとポリエチレンイ
ミン（MW 1000）との反応生成物（米国特許
3853718号による） 0.5ｇ．／． 生成亜鉛めつきは0.1〜4.3A／Ｄm2範囲におい
て光沢性ないし半光沢であり、8.6A／Ｄm2以下
では半光沢性であつた。青−明色化成処理液中に
浸漬したところ、この亜鉛めつきは電流密度に関
係なく暗褐色のしみと汚点を伴つて不均一に変色
した。 次いでこの浴に0.5ｇ．／．の３−（４−ホル
ミル−２−メトキシフエノキシ）−２−ヒドロキ
シプロピル−トリメチルアンモニウムクロライド
を加えたのちに、実施例４の方法に従つて再び亜
鉛めつきを電着した。この亜鉛めつきは光沢があ
り、クロメート化成処理後は透明、均一である
か、ないしは若干暗色のしみを生じる程度であつ
た。 実施例 ７ 次の処方に従つて亜鉛めつき浴を調製した。 亜 鉛 金 属 35ｇ．／． 水酸化ナトリウム 81ｇ．／． シアン化ナトリウム 88ｇ．／． 研摩した鋼製試験板を洗浄し、267ml．のハル
セル中で、無かくはん下で26℃、１アンペアにお
いて５分間めつきした。生成皮膜は曇りがある
か、ないしは半光沢であり不均一な外観を呈して
いた。 上記の浴中に次のものを添加した： ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモ
ニウムクロライド 1.0ｇ．／． 前記方法に従つて第２試験片をめつきした。生
成した亜鉛皮膜は完全に光沢性のものであり、電
流密度0.1〜4.3A／Ｄm2範囲では工業的または装
飾的用途に好適なものであつた。
ロキシアリル化合物を３−クロル−２−ヒドロキ
シプロピル−トリメチルアンモニウムクロライド
のようなトリアルキル−アミノ−ハロ−アルキル
ハライド塩によりアルキル化することによつて製
造できる。この化合物の内容とその調製法は後述
する実施例１〜３に詳しく述べられている。 この発明における化合物で特に好ましいものは
次のものである： ３−（４−ホルミル−フエノキシ）−２−ヒドロ
キシプロピル−トリメチルアンモニウムクロライ
ド； ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモニ
ウムクロライド；及び ３−〔３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノ
キシ）−２−ヒドロキシプロピル〕−１−メチルイ
ミダゾリウムクロライド，バイサルフアイト付加
物 この発明におけるこの化合物はアルカリ性亜鉛
めつき浴一般に対する有用な添加剤であるが、ま
た非シアナイドのアルカリ性亜鉛めつき浴に対し
ても有利に使用することができる。例えばこの添
加剤は光沢剤として有用であつて引続く明色浸漬
不動態処理工程において非シアナイド亜鉛浴から
の亜鉛皮膜表面に暗色のしみが発生するのを抑制
したり減少させる効果がある。更にはこの添加剤
はシアナイド浴への光沢剤として効果があり、銅
や他の金属イオンに起因する“しみ”が生起する
ような場合の防汚用添加剤として用いることもで
きる。 この発明による添加剤の使用量は防汚効果もし
くは光沢効果を発揮せしめるのに十分な濃度にお
いて作業浴中に加える。添加剤濃度は一般的には
約0.1ｇ．／．、ないし約10ｇ．／．好ましく
は約0.5ｇ．／．ないし約５ｇ．／．の範囲
以内である。 この発明のめつき浴は、この添加剤化合物に加
えてさらに、金属亜鉛の析出に要する亜鉛イオン
もしくはジンケートイオンを含有している。浴中
への亜鉛源は慣用の方法によつて供給する。例え
ば、ジンケートイオンの濃縮液などは市販せられ
ている。便法として、高純度亜鉛金属を高純度の
水酸化ナトリウムに溶解して亜鉛を錯化させるこ
とによつてジンケートイオンを得ることができ
る。当然のこと乍ら亜鉛イオン又はジンケートイ
オンの使用量は電着を効果的に実施できる量ない
しはもはや満足な電着が生起しない量の範囲にお
いて用いる。典型的な濃度は約２ｇ．／．ない
し30ｇ．／．、好ましくは約４ｇ．／．ない
し約15ｇ．／．（金属亜鉛基準）の濃度である。
水酸化ナトリウムの典型的濃度は約50ｇ．／．
ないし約ｇ．／．、シアン化ナトリウムの典型
的濃度は約８ｇ．／．ないし約112ｇ．／．
である。 作業浴はまた１種または数種の追加的光沢剤を
含有しうる。特にこの発明による化合物は、ポリ
ビニルアルコール、ポリエチレンポリアミンもし
くはその第４級塩、第４級化ピリジンカルボン
酸、エピクロルヒドリンと少なくとも窒素原子２
個を有するヘテロサイクリツク化合物との縮合ポ
リマー、ならびにこれらの混合物から成る部類か
ら選沢せられた光沢剤と共に使用すると光沢と
“つや”が向上できる。 当然乍らアルカリ性亜鉛浴中に慣用せられるよ
うな他の任意の成分もこの発明の作業浴中に使用
できる。例えば粒子リフアイナー、界面活性剤、
緩衝剤、錯化剤及びその他も用いうる。 この発明の浴を用いると緻密で良好な粒子を有
する光沢性亜鉛めつきが得られる許りでなく浴中
での鉄（）イオンのような汚染金属イオンの存
在に耐えられるようになり浴の長期の使用が可能
になる。 この発明によるめつき操作は、かくはん下又は
無かくはん下で約0.5A／Ｄm2ないし約8.6A／Ｄ
m2のカソード電流密度において実施できる。浴は
通常、室温で操作するが55℃までは使用できる。
好ましい浴温は約20℃ないし約35℃である。 この発明は次の実施例から更に明瞭になるはず
である。 実施例 １ この発明による化合物の製法は次の通りであ
る。 ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド（15.9ｇ．，
0.13モル）及び水（50ml．）を混合し、かくはん
し乍ら水酸化ナトリウム（6.8ml．，50％，0.13モ
ル）を加える。この混合物を85℃に加熱して３−
クロル−２−ヒドロキシ−プロピルトリメチルア
ンモニウムクロライド（50％水溶液20ｇ．，0.13
モル）を３時間に亘つて徐々に加える。反応生成
物は次の構造式： ３−（４−ホルミルフエノキシ）−２−ヒドロキ
シプロピルトリメチル−アンモニウムクロライド
を有する化合物であつた。 実施例 ２ バニリン（10ｇ．，0.065モル，水25ml．中）と
水酸化ナトリウム（等モル）とを混合し、３−ク
ロル−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアン
モニウムクロライド溶液（50％水溶液24.7ｇ．，
0.065モル）を徐々に加えた。この混合物を１1/2
時間、還流した。 反応生成物は次の構造式： ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモニ
ウムクロライド を有する化合物であつた。 実施例 ３ １−メチルイミダゾール（50ml．，0.628モル）
に１当量の塩化水素酸（52ml．，0.628モル）を添
加し、次いで等モルのエピクロルヒドリン（68.5
ml．，0.628モル）を徐々に加えた。この混合物を
５時間還流し、次いのでバニリンのナトリウム塩
溶液（95.45ｇ．，0.628モルのバニリン，32.8ml．
の50％水酸化ナトリウム及び100ml．の水）中に
加えて３時間還流した後、冷却して黄色固体を得
た。この固体（40ｇ．，0.122モル，水100ml．中）
をナトリウムバイサルフアイト（12.4ｇ．，0.130
モル）と反応せしめて水への溶解性を増加せしめ
た。反応生成物は次の構造式： ３−〔３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノ
キシ）−２−ヒドロキシプロピル〕−１−メチルイ
ミダゾリウムクロライド，バイサルフアイト付加
物 を有する化合物であつた。 実施例 ４ 次の処方によつて亜鉛めつき浴を調製した。 亜 鉛 金 属 7.8ｇ．／． 水酸化ナトリウム 83ｇ．／． ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモ
ニウムクロライド １ｇ．／． 研摩した試験鋼板を洗浄し、無かくはん下で28
℃、10分間、セル電流２アンペアの条件下で267
ml．のハルセル中でめつきした。生成亜鉛めつき
は3A／Ｄm2の電流密度以下で光沢があり、後処
理により不動態性の透明な化成皮膜を生成した。 実施例 ５ 次の処方による浴を用いて実施例４の方法に従つ
て亜鉛めつきを電着した。 亜 鉛 金 属 ９ｇ．／． 水酸化ナトリウム 90ｇ．／． ３−〔３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノ
キシ）−２−ヒドロキシプロピル〕−１−メチル
イミダゾリウムクロライド，バイサルフアイト
付加物 0.9ｇ．／． 生成亜鉛めつきは3A／Ｄm2以下において光沢
があり、5.3A／Ｄm2以下において粒子の緻密性
に優れ、後処理により不動態性の透明な化成皮膜
が生じた。 実施例 ６ 次の処方に従つて調製した浴を用いて実施例４
と同様に亜鉛めつきを電着した。 亜 鉛 金 属 ６ｇ．／． 水酸化ナトリウム 70ｇ．／． 第２鉄イオン（） 0.0075ｇ．／． ３−クロル−２−ヒドロキシプロピル−トリメ
チルアンモニウムクロライドとポリエチレンイ
ミン（MW 1000）との反応生成物（米国特許
3853718号による） 0.5ｇ．／． 生成亜鉛めつきは0.1〜4.3A／Ｄm2範囲におい
て光沢性ないし半光沢であり、8.6A／Ｄm2以下
では半光沢性であつた。青−明色化成処理液中に
浸漬したところ、この亜鉛めつきは電流密度に関
係なく暗褐色のしみと汚点を伴つて不均一に変色
した。 次いでこの浴に0.5ｇ．／．の３−（４−ホル
ミル−２−メトキシフエノキシ）−２−ヒドロキ
シプロピル−トリメチルアンモニウムクロライド
を加えたのちに、実施例４の方法に従つて再び亜
鉛めつきを電着した。この亜鉛めつきは光沢があ
り、クロメート化成処理後は透明、均一である
か、ないしは若干暗色のしみを生じる程度であつ
た。 実施例 ７ 次の処方に従つて亜鉛めつき浴を調製した。 亜 鉛 金 属 35ｇ．／． 水酸化ナトリウム 81ｇ．／． シアン化ナトリウム 88ｇ．／． 研摩した鋼製試験板を洗浄し、267ml．のハル
セル中で、無かくはん下で26℃、１アンペアにお
いて５分間めつきした。生成皮膜は曇りがある
か、ないしは半光沢であり不均一な外観を呈して
いた。 上記の浴中に次のものを添加した： ３−（４−ホルミル−２−メトキシフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモ
ニウムクロライド 1.0ｇ．／． 前記方法に従つて第２試験片をめつきした。生
成した亜鉛皮膜は完全に光沢性のものであり、電
流密度0.1〜4.3A／Ｄm2範囲では工業的または装
飾的用途に好適なものであつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次の構造式： 前記式中、 R1を水素、メトキシ基から選択し； R2をアルデヒド部分およびこのアルデヒド部
分のバイサルフアイト付加物からなる部類から選
択し； R3は２−ヒドロキシプロピル基である； Ｙを −Ｎ （R4）3X 及び【式】 からなる部類から選択し； Ｘはハロゲン又はサルフエートであり； R4はメチル基である； R5は水素である を有する化合物。 ２ 該化合物が３−（４−ホルミルフエノキシ）−
２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモニウ
ムクロライドであることを特徴とする特許請求の
範囲第１項に記載の化合物。 ３ 該化合物が３−（４−ホルミル−２−メトキ
シフエノキシ）−２−ヒドロキシプロピル−トリ
メチルアンモニウムクロライドであることを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載の化合物。 ４ 該化合物が３−［３−（４−ホルミル−２−メ
トキシフエノキシ）−２−ヒドロキシプロピル］−
１−メチルイミダゾリウムクロライド，バイサル
フアイト付加物であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の化合物。 ５ 次の構造式： 前記式中、 R1を水素、メトキシ基から選択し； R2をアルデヒド部分およびこのアルデヒド部
分のバイサルフアイト付加物からなる部類から選
択し； R3は２−ヒドロキシプロピル基である； Ｙを −Ｎ （R4）3X 及び【式】 からなる部類から選択し； Ｘはハロゲン又はサルフエートであり； R4はメチル基である； R5は水素である を有する化合物の一定有効量を含有するアルカリ
性亜鉛電気めつき浴。 ６ 該化合物が３−（４−ホルミルフエノキシ）−
２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモニウ
ムクロライドであることを特徴とする特許請求の
範囲第５項に記載のめつき浴。 ７ 該化合物が３−（４−ホルミル−２−メトキ
シフエノキシ）−２−ヒドロキシプロピル−トリ
メチルアンモニウムクロライドであることを特徴
とする特許請求の範囲第５項に記載のめつき浴。 ８ 該化合物が３−［３−（４−ホルミル−２−メ
トキシフエノキシ）−２−ヒドロキシプロピル］−
１−メチルイミダゾリウムクロライド，バイサル
フアイト付加物であることを特徴とする特許請求
の範囲第５項に記載のめつき浴。 ９ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対する
有効量において含有せられることを特徴とする特
許請求の範囲第５項に記載のめつき浴。 １０ シンジケートイオンが亜鉛金属を基準とし
て約２ｇ／１ないし約30ｇ／１の濃度にて含有せ
られることを特徴とする特許請求の範囲第９項に
記載のめつき浴。 １１ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対す
る有効量において含有せられることを特徴とする
特許請求の範囲第６項に記載のめつき浴。 １２ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対す
る有効量において含有せられることを特徴とする
特許請求の範囲第７項に記載のめつき浴。 １３ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対す
る有効量において含有せられることを特徴とする
特許請求の範囲第８項に記載のめつき浴。 １４ 該化合物が約0.1ｇ／１ないし約10ｇ／１
の濃度にて含有せられることを特徴とする特許請
求の範囲第１１項に記載のめつき浴。 １５ 該化合物が約0.1ｇ／１ないし約10ｇ／１
の濃度にて含有せられることを特徴とする特許請
求の範囲第１２項に記載のめつき浴。 １６ 該化合物が約0.1ｇ／１ないし約10ｇ／１
の濃度にて含有せられることを特徴とする特許請
求の範囲第１３項に記載のめつき浴。 １７ 次の構造式： 前記式中、 R1を水素、メトキシ基から選択し； R2をアルデヒド部分およびこのアルデヒド部
分のバイサルフアイト付加物からなる部類から選
択し； R3は２−ヒドロキシプロピル基である； Ｙを −Ｎ （R4）3X 及び【式】 からなる部類から選択し； Ｘはハロゲン又はサルフエートであり； R4はメチル基である； R5は水素である を有する化合物の一定有効量を含有するアルカル
性亜鉛電気めつき浴から生地上に亜鉛を電着せし
めることからなる方法。 １８ 該化合物が３−（４−ホルミルフエノキシ）
−２−ヒドロキシプロピル−トリメチルアンモニ
ウムクロライドであることを特徴とする特許請求
の範囲第１７項に記載の方法。 １９ 該化合物が３−（４−ホルミル−２−メト
キシフエノキシ）−２−ヒドロキシプロピル−ト
リメチルアンモニウムクロライドであることを特
徴とする特許請求の範囲第１７項に記載の方法。 ２０ 該化合物が３−［３−（４−ホルミル−２−
メトキシフエノキシ）−２−ヒドロキシプロピル］
−１−メチルイミダゾリウムクロライド、バイサ
ルフアイト付加物であることを特徴とする特許請
求の範囲第１７項に記載の方法。 ２１ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対す
る有効量において含有せられることを特徴とする
特許請求の範囲第１７項に記載の方法。 ２２ シンジケートイオンが亜鉛金属を基準とし
て約２ｇ／１ないし約30ｇ／１の濃度にて含有せ
られることを特徴とする特許請求の範囲第２１項
に記載の方法。 ２３ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対す
る有効量において含有せられることを特徴とする
特許請求の範囲第１８項に記載の方法。 ２４ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対す
る有効量において含有せられることを特徴とする
特許請求の範囲第１９項に記載の方法。 ２５ シンジケートイオンが、亜鉛の電着に対す
る有効量において含有せられることを特徴とする
特許請求の範囲第２０項に記載の方法。 ２６ 該化合物が約0.1ｇ／１ないし約10ｇ／１
の濃度にて含有せられることを特徴とする特許請
求の範囲第２１項に記載の方法。 ２７ 該化合物が約0.1ｇ／１ないし約10ｇ／１
の濃度にて含有せられることを特徴とする特許請
求の範囲第２２項に記載の方法。 ２８ 該化合物が約0.1ｇ／１ないし約10ｇ／１
の濃度にて含有せられることを特徴とする特許請
求の範囲第２３項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/300,316 US4366036A (en) | 1981-09-08 | 1981-09-08 | Additive and alkaline zinc electroplating bath and process using same |
| US300316 | 1981-09-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5842785A JPS5842785A (ja) | 1983-03-12 |
| JPH0363542B2 true JPH0363542B2 (ja) | 1991-10-01 |
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ID=23158597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57148470A Granted JPS5842785A (ja) | 1981-09-08 | 1982-08-26 | 添加剤及びアルカリ性亜鉛電気めつき浴ならびにこれらを用いる方法 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4366036A (ja) |
| JP (1) | JPS5842785A (ja) |
| AU (1) | AU542139B2 (ja) |
| BE (1) | BE894330A (ja) |
| BR (1) | BR8205217A (ja) |
| CA (1) | CA1183858A (ja) |
| DE (1) | DE3230807A1 (ja) |
| ES (1) | ES515544A0 (ja) |
| FR (1) | FR2512444A1 (ja) |
| GB (1) | GB2109789B (ja) |
| IT (1) | IT1206522B (ja) |
| NL (1) | NL8203371A (ja) |
| NO (1) | NO822977L (ja) |
| PT (1) | PT75428B (ja) |
| SE (1) | SE8204607L (ja) |
| ZA (1) | ZA826152B (ja) |
Families Citing this family (5)
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|---|---|---|---|---|
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| RO92977A (ro) * | 1984-05-28 | 1987-11-30 | Vyzkumny Ustav Textilniko Zuslechtovany,Cs | Procedeu de preparare a unui polielectrolit cation activ pentru spalarea produselor vopsite |
| US5182006A (en) * | 1991-02-04 | 1993-01-26 | Enthone-Omi Inc. | Zincate solutions for treatment of aluminum and aluminum alloys |
| US5417840A (en) * | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
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|---|---|---|---|---|
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