JPH0363817B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、LSI用などのウエハの表面上の異
物検出などを自動的に行うウエハ異物検査装置に
関する。

［従来の技術］ 回転ステージに載置されたウエハの表面を螺旋
状に走査しながら、ウエハの表面上の異物を検出
するウエハ異物検査装置がある。

そのような従来のウエハ異物検査装置は、回転
ステージを回転させながら特定方向に移動させ、
その回転ステージ上のウエハを検出系により螺旋
状に走査して異物検出を行い、異物を検出した場
合は、それを検出した時の回転ステージの回転方
向位置および特定方向位置を異物位置として読み
取り、メモリに記憶する。また、ウエハの輪郭を
異物と同様に検出し、異物の連続としてウエハの
輪郭画像を描き、そのウエハ輪郭画像に検出した
異物をプロツトして異物マツプを作成し、その異
物マツプをＸ−Ｙプロツタで印刷出力する。

［解決しようとする問題点］ このように、従来のウエハ異物検査装置におい
ては、検出された異物の回転方向位置は回転ステ
ージの回転方向位置であるが、回転ステージに対
するウエハの取り付け角度は一定ではなく、ウエ
ハと回転ステージとの間のオフセツト角度にばら
つきがある。つまり、あるウエハについて検出さ
れた異物の回転方向位置は、ウエハ上の実位置で
はなく、そのウエハの異物マツプ上でしか意味が
なく、したがつて異物の位置情報をデータ処理の
ためのデータとしてそのまま利用することは出来
ない。例えば、多数のウエハの異物分布などの統
計量を、検出された異物の位置情報から直接的に
求めることは不可能であり、人手を介して異物マ
ツプから異物の位置などを読むなどの操作を必要
とする。

［発明の目的］ この発明は、そのような従来技術の問題に鑑み
なされたものであり、その目的は、ウエハの回転
ステージへの取り付け角度のばらつきに影響され
ない異物の位置情報を得られるウエハ異物検査装
置を提供することにある。

［問題点を解決するための手段］ そのような目的を達成するために、この発明に
よれば、回転ステージに載置されたウエハの表面
を螺旋状に走査しながら該ウエハの表面上の異物
を検出するウエハ異物検査装置において、前記回
転ステージ上のウエハの該回転ステージに対する
オフセツト角度を検出する手段と、該手段により
検出されたオフセツト角度に従い、検出された異
物の回転方向位置を補正する手段とが設けられ
る。

［作用］ ウエハのオフセツト角度に従つて異物の回転方
向位置を補正することにより、ウエハの取り付け
角度のばらつきによる影響を除去した異物の位置
情報を得ることができる。

［実施例］ 以下、図面を参照し、この発明の一実施例につ
いて詳細に説明する。

第１図は、この発明によるウエハ異物検査装置
の光学系部分などの構成を簡略化して示す概要図
である。この図において、１０はＸ方向に摺動可
能にベース１２に支持されたＸステージである。
このＸステージ１０には、ステツピングモータ１
４の回転軸に直結されたスクリユー１６が螺合し
ており、ステツピングモータ１４を作動させるこ
とにより、Ｘステージ１０をＸ方向に進退させる
ことができる。１８はＸステージ１０のＸ方向位
置ｘに対応したコード信号を発生するリニアエン
コーダである。

Ｘステージ１０には、Ｚステージ２０がＺ方向
に移動可能に取り付けられている。その移動手段
は図中省略されている。Ｚステージ２０には、被
検査物としてのウエハ３０が載置される回転ステ
ージ２２が回転可能に支持されている。ここで、
ウエハ３０としては、ブランク膜付きウエハ、鏡
面ウエハ、またはパターン付きウエハをセツトし
て検査可能である。

この回転ステージ２２には、直流モータ２４が
連結されており、それにより特定の向きに回転駆
動されるようになつている。この直流モータ２４
には、回転ステージ２２の回転方向位置θに対応
したコード信号を出力するロータリエンコーダが
内蔵されている。

なお、ウエハ３０は、回転ステージ２２に負圧
吸着により位置決め固定されるが、そのための手
段は図中省かれている。

このウエハ異物検査装置は、偏光レーザ光を利
用してウエハ３０上の異物を自動的に検査するも
のであり、ウエハ３０の上面（被検査面）に、Ｓ
偏光レーザ光が照射される。そのために、Ｓ偏光
レーザ発振器３６，３８が設けられている。各Ｓ
偏光レーザ発振器３６，３８は、ある波長のＳ偏
光レーザ光を発生するもので、例えば波長が8300
オングストロームの半導体レーザ発振器である。

そのＳ偏光レーザ光は、Ｙ方向よりウエハ３０
の上面に約２度の照射角度φで照射される。この
ように照射角度が小さいため、円形断面のＳ偏光
レーザ光のビームを照射した場合、ウエハ面にお
けるスポツトが長く延びてしまい、十分な照射密
度を得られない。そこでＳ偏光レーザ発振器３
６，３８の前方にシリンドリカルレンズ４４，４
６を配置し、Ｓ偏光レーザ発振器３６，３８から
出たほぼ円形断面のＳ偏光レーザ光ビームを、Ｚ
方向につぶれた扁平な断面形状のビームに絞つて
からウエハ面に照射するようにしている。

ここで、パターンなしのブランク膜付きウエハ
（または鏡面ウエハ）の場合、Ｓ偏光レーザ光は、
その照射スポツト内に異物が存在しなければ、ほ
ぼ正反射されＺ方向には反射されないが、異物が
存在すれば、それにより乱反射されてＺ方向にも
反射される。

他方、パターン付きウエハの場合、ウエハ面に
照射されたＳ偏光レーザ光の反射レーザ光は、そ
の照射スポツト内にパターンが存在すれば、Ｚ方
向にも反射されるが、そのパターンの面は微視的
に平滑であるため、反射レーザ光はほとんどＳ偏
光成分だけである。これに対し、異物の表面には
一般に微小な凹凸があるため、照射スポツト内に
異物が存在すると、照射されたＳ偏光レーザ光は
散乱して偏光方向が変化し、反射レーザ光には、
Ｓ偏光成分の外に、Ｐ偏光成分をかなり含まれる
ことになる。

このような現象に着目し、このウエハ異物検査
装置においては、パターン付きウエハの場合に
は、ウエハ面からのＺ方向への反射レーザ光に含
まれるＰ偏光成分のレベルに基づき、異物の有無
と異物のサイズを検出する。

他方、ブランク膜付きウエハ（鏡面ウエハも含
む）の場合には、検出感度を増大させるために、
Ｚ方向へのＳ偏光反射レーザ光およびＰ偏光反射
レーザ光のレベルに基づき、異物の存否およびサ
イズを検出する。

再び第１図を参照する。ウエハ面からの反射レ
ーザ光は、前記原理に従い異物を検出する検出系
５０と、ウエハの目視観察のための顕微鏡５２と
に共通の光学系に入射する。すなわち、反射レー
ザ光は、対物レンズ５４、ハーフミラー５６、プ
リズム５８を経由して45度プリズム６０に達す
る。

また、目視観察のためにランプ７０が設けられ
ている。このランプ７０から出た可視光により、
ハーフミラー５６および対物レンズ５４を介して
ウエハ面が照明される。

プリズム６０を経由して顕微鏡５２側に入射し
た可視反射光は、60度プリズム６２、フイールド
レンズ６４、リレーレンズ６６を順に通過して接
眼レンズ６８に入射する。したがつて、接眼レン
ズ６８により、ウエハ３０を十分大きな倍率で目
視観察することができる。この場合、視野の中心
に、ウエハ面上のＳ偏光レーザ光スポツトの範囲
が位置する。また、プリズム５８を通してウエハ
３０を低倍率で観察することもできる。

プリズム６０を経由して検出系側に入射した反
射レーザ光は、スリツト７２に設けられたアパー
チヤ７４を通過し、ホトマルチプライヤ９０へ送
られる。

ここで、ウエハ３０がパターン付きウエハの場
合には、Ｓ偏光カツトフイルタ８６（偏光板）が
符号８６′により示す位置に移動せしめられるた
め、反射レーザ光のＰ偏光成分だけが抽出されて
ホトマルチプライヤ９０に入射する。ウエハ３０
がブランク膜付きウエハ（または鏡面ウエハ）の
場合、Ｓ偏光カツトフイルタ８６は実線で示す位
置に移動せしめられるため、反射レーザ光のＳ偏
光成分もＰ偏光成分もホトマルチプライヤ９０に
入射する。後述するように、ホトマルチプライヤ
９０の出力信号（検出信号）の検出信号のレベル
に基づき、ウエハ面上のアパーチヤ７４の視野内
における異物の存否と、異物の粒径が判定され
る。

８７はＳ偏光カツトフイルタ８６を移動させる
ためのソレノイドである。

ここで、異物検査は、前述のようにウエハを回
転させつつＸ方向（半径方向）に送りながら行わ
れる。そのようなウエハ３０の移動に従い、第３
図に示すように、Ｓ偏光レーザ光のスポツト３０
Ａはウエハ３０の上面を外側より中心へ向かつて
螺旋状に移動する。検出系５０と顕微鏡５２は静
止しており、アパーチヤ７４の視野は常にスポツ
ト３０Ａ内に含まれ、スポツト３０Ａに追従して
移動する。すなわち、ウエハ面は螺旋走査されな
がら検査される。

ここで、照射角度φについて説明する。従来の
ウエハ異物検査装置においては、ホトレジスト
膜、アルミニウム蒸着膜などのパターンのないブ
ランク膜が表面に被着されたウエハの異物検査を
行う場合、かなり大きな照射角度、例えば30度で
光ビームがウエハ面に照射されるようになつてい
る。

発明者の研究によれば、そのような従来装置に
おける検出信号のバツクグラウンドノイズには、
ウエハ表面（ブランク膜の表面）の状態により決
まるノイズ成分だけではなく、ブランク膜内部の
状態に関係するノイズ成分と、ブランク膜の下の
ウエハ素地面の状態に関係するノイズ成分とが含
まれている。ウエハ表面からの反射光を利用する
という原理上、最初のノイズ成分を完全に除去す
ることは不可能であり、また、その影響も致命的
なものではない。しかし、後の２つのノイズ成分
は、ウエハ内部の状態に影響されるものであり、
直接誤検出の原因となるため、除去すべきもので
ある。

発明者の研究によれば、従来装置においてはビ
ームの照射角度が大きいため、ウエハ表面に入射
した光ビームの一部がブランク膜の内部に侵入
し、ウエハ素地面で反射され、再びブランク膜を
通過しウエハ表面に出て光電素子に入射するため
に、前述の好ましくないノイズ成分が生じていた
ことが判明した。

そこで、この実施例においては、ウエハ面で光
ビームが実質的に全反射するように、光ビームの
照射角度を前述のように十分小さく選び、ウエハ
内部への光ビームの侵入を防止している。

再び第１図を参照する。対物レンズ５４の近傍
に、ウエハ面と対向させて静電容量変位計５３が
設けられている。この静電容量変位計５３は、ウ
エハ３０のオリフラ部を検出するためのセンサと
して設けられたものであり、後述のオフセツト角
度検出のためのウエハ回転中に、ウエハ３０のオ
リフラ３０Ｂの両端よりわずかに内側の部分が静
電容量変位計の直下を通過するように、静電容量
変位計５３が配置されている。

次に、このウエハ異物検査装置の信号処理およ
び制御系について、第２図を参照して説明する。

前記ホトマルチプライヤ９０から出力される検
出信号は、増幅器１００により増幅されてからレ
ベル比較回路１０２に入力される。

ここで、ウエハ上の異物の粒径と、検出信号の
レベルとの間には、第４図に示すような関係があ
る。この図において、L₁，L₂，L₃はレベル比較
回路１０２の閾値である。

レベル比較回路１０２は、検出信号のレベルを
各閾値と比較し、各閾値との比較結果を示す２進
コードを出力する。例えば、検出信号レベルが閾
値L₁未満ならば、（000）₂を出力し、検出信号レベ
ルが閾値L₂以上で閾値L₃未満ならば、（011）₂を出
力し、検出信号レベルが閾値L₃以上ならば
（111）₂を出力する。

レベル比較回路１０２の出力コードは、データ
処理システム１０４とのインターフエイスを司る
インターフエイス回路１０８に入力される。

静電容量変位計５３の出力信号はレベル比較回
路１０３に入力され、特定の閾値と比較される。
このレベル比較回路の出力信号はインターフエイ
ス回路１０８に入力される。

また、インターフエイス回路１０８には、前記
ロータリエンコーダおよびリニアエンコーダか
ら、各時点における回転方向位置θおよびＸ方向
（半径方向）位置ｘの情報を示す信号（２進コー
ド）が、バツフア回路１１０，１１２を介し入力
される。

前記インターフエイス回路１０８への各入力コ
ードは、一定の周期でインターフエイス回路１０
８内部のあるレジスタに取り込まれ、そこに一時
的に保持される。

さらに、インターフエイス回路１０８の内部に
は、データ処理システム１０４よりモータ１４，
２４およびソレノイド８７の制御情報がセツトさ
れるレジスタもある。このレジスタにセツトされ
た制御情報に従い、モータコントローラ１１６に
よりモータ１４，２４の駆動制御が行われ、また
ソレノイドドライバ１１７によりソレノイド８７
の駆動制御が行われる。

データ処理システム１０４は、マイクロプロセ
ツサ１２０、ROM１２２、RAM１２４、フロ
ツピーデイスク装置１２６、Ｘ−Ｙプロツタ１２
７、CRTデイスプレイ装置１２８、キーボード
１３０などからなる。１３２はシステムバスであ
り、マイクロプロセツサ１２０、ROM１２２、
RAM１２４、前記インターフエイス回路１０８
が直接的に接続されている。

キーボード１３０は、オペレータが各種指令や
データを入力するためのもので、インターフエイ
ス回路１３４を介してシステムバス１３２に接続
されている。フロツピーデイスク装置１２６は、
オペレーテイングシステムや各種処理プログラ
ム、検査結果データなどを格納するものであり、
フロツピーデイスクコントローラ１３６を介しシ
ステムバス１３２に接続されている。

このウエハ異物検査装置が起動されると、オペ
レーテイングシステムがフロツピーデイスク装置
１２６からRAM１２４のシステム領域１２４Ａ
へロードされる。その後、フロツピーデイスク装
置１２６に格納されている各種処理プログラムの
うち、必要な１つ以上の処理プログラムがRAM
１２４のプログラム領域１２４Ｂへロードされ、
マイクロプロセツサ１２０により実行される。処
理途中のデータなどはRAM１２４の作業領域に
一時的に記憶される。処理結果データは、最終的
にフロツピーデイスク装置１２６へ転送され格納
される。ROM１２２には、文字、数字、記号な
どのドツトパターンが格納されている。

CRTデイスプレイ装置１２８は、オペレータ
との対話のための各種メツセージの表示、異物マ
ツプやその他のデータの表示などに利用されるも
のであり、その表示データはビデオRAM１３８
にビツトマツプ展開される。１４０はビデオコン
トローラであり、ビデオRAM１３８の書込み、
読出しなどの制御の外に、ドツトパターンに応じ
たビデオ信号の発生などを行う。このビデオコン
トローラ１４０はインターフエイス回路１４２を
介してシステムバス１３２に接続されている。

Ｘ−Ｙプロツタ１２７は異物マツプなどの印刷
出力に使用されるものであり、プロツタコントロ
ーラ１３７を介してシステムバス１３２に接続さ
れている。

次に、自動異物検査処理について、第６図のフ
ローチヤートを参照しながら説明する。

回転ステージ２２にウエハ３０をセツトした状
態で、オペレータがキーボード１３０より検査開
始を指令すると、フロツピーデイスク装置１２６
からRAM１２４のプログラム領域１２４Ｂへロ
ードされた自動検査処理プログラムが走り始め
る。

まず、マイクプロセツサ１２０は、後述のテー
ブル、カウンタ、検査データのバツフアなどのた
めの記憶領域（第２図参照）をRAM１２０上に
確保する（ステツプ200）。

上記テーブル（テーブル領域１２４Ｄに作成さ
れる）の概念図を第５図に示す。このテーブル１
５０の各エントリは、異物の番号（検出された順
番）、異物の位置、その種類ないし性質（目視観
察によつて調べられる）、およびサイズの情報か
ら構成されている。

次にマイクロプロセツサ１２０は、回転ステー
ジ２２を初期位置（ｘ＝０、θ＝０）に位置決め
させるためのモータ制御情報をインターフエイス
回路１０８の内部レジスタにセツトする（ステツ
プ205）。このモータ制御情報に従い、モータコン
トローラ１１６がモータ１４，２４を制御し、各
ステージを初期位置に移動させる。

マイクロプロセツサ１２０は、ウエハ輪郭画像
のドツトパターンを生成し、インターフエイス回
路１４２を通じてビデオコントローラ１４０へ順
次転送する（ステツプ210）。ビデオコントローラ
１４０は、転送されたドツトパターンをビデオ
RAM１３８に順次書き込み、また、それと並行
して、ビデオRAM１３８の内容を順次読み出し
それをビデオ信号に変換してCRTビデオデイス
プレイ装置１２８へ供給する。かくして、オリフ
ラを下側に向けたウエハ輪郭画像がCRTデイス
プレイ装置１２８の画面に表示される。

次にマイクロプロセツサ１２０は、インターフ
エイス回路１０８を通じモータコントローラ１１
６に対し走査開始を指示する（ステツプ215）。こ
の指示を受けたモータコントローラ１１６は、前
述のような螺旋走査を一定速度で行わせるように
モータ１４，２４を駆動する。またマイクロプロ
セツサ１２０は、RAM１２４上のＰカウンタ１
２４Ｋに１をセツトする（ステツプ218）。

走査開始から一定時間経過後に、マイクロプロ
セツサ１２０は一定時間間隔でインターフエイス
回路１０８内の特定のレジスタの内容、すなわ
ち、位置ｘ，θのコードと、レベル比較回路１０
２によるレベル比較結果コード、およびレベル比
較回路１０３のレベル比較結果ビツトを取り込
み、RAM１２４上の入力バツフア１２４Ｃに書
き込む（ステツプ220）。

ウエハ３０が１回転する期間に、静電容量変位
計５３の出力信号レベルは、例えば第７図の波形
図のように変化する。すなわち、静電容量変位計
５３の直下にウエハ３０の輪郭部が存在する時に
は出力レベルはレベル比較回路１０３の閾値Ｌよ
り高いが、ウエハ３０のオリフラ部分が静電容量
変位計５３を通過する時には出力信号レベルが大
きく低下する。レベル比較回路路１０３は、静電
容量変位計５３の出力信号と閾値Ｌとのレベル差
が所定範囲以内の時、つまりオリフラの端部が静
電容量変位計５３を通過する時に論理“１”の一
致信号を出力する。

さて、マイクロプロセツサ１２０は、取り込ん
だレベル比較回路１０３の比較結果ビツトが
“１”であるか判定する（ステツプ225）。判定結
果がNOならばステツプ220に戻り、次のレジス
タ読込みのタイミングを待つが、判定結果が
YESならば、Ｐカウンタ１２４Ｋの値が１か判
定する（ステツプ230）。その判定結果がNOなら
ば、マイクロプロセツサ１２０は、入力バツフア
１２４Ｃに記憶している回転方向位置θの情報を
オフセツト角度レジスタ１２４Ｊに書き込み（ス
テツプ235）、Ｐカウンタ１２４Ｋを１だけデクリ
メントし（ステツプ240）、ステツプ220へ戻る。

ステツプ230の判定結果がYESの場合、マイク
ロプロセツサ１２０は、入力バツフア１２４に記
憶した回転方向位置θと、オフセツト角度レジス
タ１２４Ｊに記憶されている回転方向位置θとを
用い、特定の演算を実行することにより、オフセ
ツト角度を求め、それをオフセツト角度レジスタ
１２４Ｊに書き込む（ステツプ245）。

このオフセツト角度について、第７図により説
明する。ウエハ３０のオリフラの端部が静電容量
変位計５３の直下を通過し、レベル比較回路１０
３から一致信号が出た時の回転方向位置をθ₁，θ₂
とする。オリフラの中心点が静電容量変位計１０
３の直下を通過する時の回転方向位置θ₃は、θ₁と
θ₂の中間値であり、ステツプ245で得られる。そ
して、回転ステージ２２に対するオフセツト角度
が０ならば、θ₃が０となるように、静電容量変位
計５３の位置が決められている。したがつて、θ₃
がオフセツト角度そのものである。

以上説明したようなオフセツト角度検出処理を
終了すると、ステツプ260以降の実際の異物検査
処理に進む。

まずマイクロプロセツサ１２０は、検査開始位
置へ走査点を急速に移動させるためにモータ制御
情報を、インターフエイス回路１０８を介してモ
ータコントローラ１１６へ与える（ステツプ
260）。モータコントローラ１１６は、ステツピン
グモータ１４を高速駆動して検査開始位置までＸ
ステージ１０を急速移動させ、検査開始位置に到
達した後は、走査のための通常のＸ方向送りを行
うようにステツビングモータ１４を駆動する。

この位置決め操作の後、マイクロプロセツサ１
２０は、位置θ，ｘとレベル比較回路１０２の比
較結果コード（Ｌコード）をインターフエイス回
路１０８より取り込み、入力バツフア１２４Ｃに
書き込む（ステツプ265）。

マイクロプロセツサ１２０は、読み込んだＸ方
向位置ｘを検査終了位置と比較し、走査の終了判
定行う（ステツプ270）。この判定の結果がNO
（検査途中）ならば、マイクロプロセツサ１２０
は、取り込んだＬコードのゼロ判定を行う（ステ
ツプ275）。Ｌ＝000ならば、その走査位置には異
物が存在しない。Ｌ≠000ならば、異物が存在す
る。

ステツプ275の判定結果がYESならばステツプ
265に戻る。ステツプ275の判定結果がNOなら
ば、マイクロプロセツサ１２０は、入力バツフア
１２４Ｃに記憶されている回転方向位置θから、
オフセツト角度レジスタ１２４Ｊに記憶されてい
るオフセツト角度を減算してオフセツト角度分補
正した回転方向位置を求め、その補正後の回転方
向位置θ′を入力バツフア１２４Ｃに戻す（ステツ
プ280）。

次にマイクロプロセツサ１２０は、入力バツフ
ア１２４Ｃに記憶されている位置情報（ｘ，θ′）
と、テーブル１５０に記憶されている既検出の他
の異物の位置情報（回転方向位置は補正済み）と
を比較する（ステツプ285）。

この位置比較で一致がとれた場合、現在の異物
は既検出の他の異物と同一とみなせるので、ステ
ツプ265に戻る。

位置比較が不一致の場合、新しい異物が検出さ
れたとみなせる。そこで、マイクロプロセツサ１
２０は、RAM１２４上のＮカウンタ１２４Ｅを
１だけインクリメントする（ステツプ290）。そし
て、テーブル１５０のＮ番目のエントリに、入力
バツフア１２４Ｃにある当該異物の位置情報およ
びＬコード（サイズ情報）を書き込む（ステツプ
295）。

また、マイクロプロセツサ１２０は、当該異物
のサイズ情報（Ｌコード）に対応したドツトパタ
ーンデータをROM１２２から読み出し、当該異
物の位置情報に対応したビデオRAM１３８のア
ドレス情報とともにビデオコントローラ１４０へ
転送し、ビデオRAM１３８に書き込ませる（ス
テツプ297）。この処理により、検出された異物
が、そのサイズに固有のパターンとしてデイスプ
レイ装置１２８の画面に表示される。ウエハ３０
の走査が終了するまで、同様の処理が繰り返し実
行される。

前述のように、ウエハ輪郭画像は、オリフラが
下側になるように一定の向きで表示されている
が、その向きはオフセツト角度が０の場合に相当
する。一方、異物の回転方向位置は、ウエハ上の
実位置に相当するようにオフセツト角度に従い補
正されている。したがつて、ウエハ上の実際の異
物分布を表す一定向きの異物マツプが画面に表示
されることになる。

ステツプ270で走査終了と判定されると、マス
タ１２０は、インターフエイス回路１０８を通じ
て、モータコントローラ１１６に対し走査停止指
示を送る（ステツプ300）。この指示に応答して、
モータコントローラ１１６はモータ１４，２４の
駆動を停止する。

次にマイクロプロセツサ１２０は、テーブル１
５０を参照し、Ｌコードが1₂の異物の合計数
TL₁、コードＬが3₂の異物の合計数TL₂、コード
Ｌが7₂の異物の合計数TL₃を計算し、その異物合
計数データを、RAM１２４上のレジスタ１２４
Ｆ，１２４Ｇ，１２４Ｈに書き込む（ステツプ
305）。そして、テーブル１５０の記憶内容および
異物合計データを、ウエハ番号を付加してフロツ
ピーデイスク装置１２６へ転送し、格納させる
（ステツプ310）。

なお、詳細は説明しないが、フロツピーデイス
ク装置１２６から異物検査結果データを読み出
し、プロツタコントローラ１３７へ転送し、異物
マツプ、異物合計データ、ウエハ番号などをＸ−
Ｙプロツタ１２７に印刷出力させることができ
る。

また、自動検査済みのウエハを回転ステージ２
２にセツトし、そのウエハに対するテーブル１５
０をフロツピーデイスク装置１２６からRAM１
２４へロードし、ウエハの各異物の目視観察を行
い、その観察結果をテーブル１５０に登録し、目
視観察を終了した時点で、テーブル１５０をフロ
ツピーデイスク装置１２６へ格納するような処理
もできる。

以上、この発明の一実施例について説明した
が、この発明はそれだけに限定されるものではな
く、適宜変形して実施し得るものである。

例えば、ウエハのオリフラを検出するためのセ
ンサは、静電容量変位計に限らず、光学センサな
どを用いることも可能である。

オリフラ検出用センサの出力信号からオフセツ
ト角度を求める手段、およびオフセツト角度に従
い異物位置を補正する手段は、ハードウエアによ
つて構成してもよく、そのようなハードウエア
は、当業者であれば、前記実施例の説明に基づき
容易に実現できるであろう。

ホトマルチプライヤの代わりに、他の適当な光
電素子を用い得る。

前述の検査処理の流れは飽くまで一例であり、
適宜変更し得ることは言うまでもない。

また、この発明は、偏光レーザ光以外の光ビー
ムを利用する同様なウエハ異物検査装置にも適用
可能である。

［発明の効果］ 以上説明したように、この発明によれば、回転
ステージに載置されたウエハの表面を螺旋状に走
査しながら該ウエハの表面上の異物を検出するウ
エハ異物検査装置において、前記回転ステージ上
のウエハの該回転ステージに対するオフセツト角
度を検出するオフセツト角度検出手段と、該オフ
セツト角度検出手段により検出されたオフセツト
角度に従い、検出された異物の回転方向位置を補
正する位置補正手段とが設けられ、さらに、その
関連発明によれば、一定の向きのウエハ輪郭画像
に前記位置補正手段により補正後の異物をプロツ
トして異物マツプを生成する手段と、該手段によ
り生成された異物マツプを出力する手段とが設け
られるから、ウエハの取り付け角度のばらつきに
よる影響を除去した異物の位置情報をを得られ、
ウエハの取り付け角度のばらつきに関係なく、異
物の位置情報を一括して管理または処理できるよ
うになるとともに、標準ウエハまたは他のウエハ
との異物マツプの比較などが容易になるなどの効
果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明によるウエハ異物検査装置の
光学系などの概要図、第２図は同ウエハ異物検査
装置の信号処理および制御系を示す概略ブロツク
図、第３図はウエハ面走査の説明図、第４図は異
物の粒径とホトマルチプライヤの出力信号との関
係、およびレベル比較の閾値との関係を示すグラ
フ、第５図は検査処理に関連するテーブルの概念
図、第６図は検査処理のフローチヤート、第７図
は静電容量変位計の出力信号の波形図である １０……Ｘステージ、１４……ステツピングモ
ータ、２２……回転ステージ、２４……直流モー
タ、３０……ウエハ、３６，３８……Ｓ偏光レー
ザ発振器、５０……検出系、５２……顕微鏡、５
３……静電容量変位計、７２……スリツト、８６
……Ｓ偏光カツトフイルタ、９０……ホトマルチ
プライヤ、１００……増幅器、１０２，１０３…
…レベル比較回路、１０４……データ処理システ
ム、１０８……インターフエイス回路、１１６…
…モータコントローラ、１１７……ソレノイドド
ライバ、１２０……マイクロプロセツサ、１２２
……ROM、１２４……RAM、１２６……フロ
ツピーデイスク装置、１２７……Ｘ−Ｙプロツ
タ、１２８……CRTデイスプレイ装置、１３０
……キーボード、１３８……ビデオRAM、１５
０……テーブル。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 回転ステージに載置されたウエハの表面を螺
   旋状に走査しながら該ウエハの表面上の異物を検
   出するウエハ異物検査装置において、前記回転ス
   テージ上のウエハの該回転ステージに対するオフ
   セツト角度を検出する手段と、該手段により検出
   されたオフセツト角度に従い、検出された異物の
   回転方向位置を補正する手段とを備えることを特
   徴とするウエハ異物検査装置。 ２ 前記オフセツト角度を検出する手段は、前記
   回転ステージ上のウエハのオリフラ部を検出する
   ためのセンサと、該センサの出力信号を所定の閾
   値とレベル比較する手段と、該手段から一致信号
   が出力された時に前記回転ステージの回転方向位
   置を読み取る手段と、該手段に読み取られた回転
   方向位置から前記オフセツト角度を求める手段と
   からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載のウエハ異物検査装置。 ３ 前記センサは前記回転ステージに対向させて
   所定位置に設けられた静電容量変位計であること
   を特徴とする特許請求の範囲第２項記載のウエハ
   異物検査装置。