JPH0363928A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、磁気記録媒体、特に電磁変換特性を著しく改
良した磁気記録媒体に関する。
良した磁気記録媒体に関する。
(従来の技術)
近年磁気記録媒体は高密度記録が要求され、高度の電磁
変換特性が要求されると共に、走行性も満足することが
必要であった。良好な電磁変換特性をえるために従来よ
り平坦な磁性1面が検討され、カレンダー処理工程が採
用されてきた。又走行性を改良するためにバック層にフ
ィラーを混入して適度な粗さをすることが行われてきた
。
変換特性が要求されると共に、走行性も満足することが
必要であった。良好な電磁変換特性をえるために従来よ
り平坦な磁性1面が検討され、カレンダー処理工程が採
用されてきた。又走行性を改良するためにバック層にフ
ィラーを混入して適度な粗さをすることが行われてきた
。
ところが最近の5−VHSビデオテープに代表される微
粒子の強磁性粉末の採用のビデオテープにおいては、更
なる高密度記録のための表面設計が要求されており、磁
気ヘッドとのスペーシングロスを極力小さくしなければ
ならない。すなわち従来の1/2′用ベースフイルムで
は粗すぎて電磁変換特性が悪くなってしまう。
粒子の強磁性粉末の採用のビデオテープにおいては、更
なる高密度記録のための表面設計が要求されており、磁
気ヘッドとのスペーシングロスを極力小さくしなければ
ならない。すなわち従来の1/2′用ベースフイルムで
は粗すぎて電磁変換特性が悪くなってしまう。
これを解決するためには、1つの方法として、表裏とも
平坦面(触針式粗さ計でのRaが0.005μm以下)
であるベースを使い、磁性層(以下マグネ層ということ
もある)・バック層の処方で望みの表面粗さを有した磁
気テープとする方法があり、これに対応して製造できる
ベースフィルムとしては、特開昭62−130848号
に示されているものがある、しかし、このベースフィル
ムは製膜工程における巻取部でシワやキズを発生させる
比率が高く、ベースフィルムの製造得率を著しく下げ、
コストを5〜10倍(対1/2インチ用ベース)にして
しまうものである。
平坦面(触針式粗さ計でのRaが0.005μm以下)
であるベースを使い、磁性層(以下マグネ層ということ
もある)・バック層の処方で望みの表面粗さを有した磁
気テープとする方法があり、これに対応して製造できる
ベースフィルムとしては、特開昭62−130848号
に示されているものがある、しかし、このベースフィル
ムは製膜工程における巻取部でシワやキズを発生させる
比率が高く、ベースフィルムの製造得率を著しく下げ、
コストを5〜10倍(対1/2インチ用ベース)にして
しまうものである。
また別の方法として特開昭62−248131号には、
表裏の表面粗さが違う、いわゆるデュアルサーフェスベ
ースフィルムで本課題を解決しようとする方法が記され
ているが、バック層側に使用するベースフィルム面の表
面粗さが粗すぎるために、磁性層面への形状転写が取巻
保存時におこり、電磁を下げてしまうことがわかった。
表裏の表面粗さが違う、いわゆるデュアルサーフェスベ
ースフィルムで本課題を解決しようとする方法が記され
ているが、バック層側に使用するベースフィルム面の表
面粗さが粗すぎるために、磁性層面への形状転写が取巻
保存時におこり、電磁を下げてしまうことがわかった。
このようにビデオテープの高C/N化を磁性層表面性を
向上させる事により実現する方策が種々と行われてきた
が、使用ベースフィルムの表面性自体を向上させる事と
、その有用な手段である。
向上させる事により実現する方策が種々と行われてきた
が、使用ベースフィルムの表面性自体を向上させる事と
、その有用な手段である。
しかし、使用ベースフィルムの表面性向上は、単にその
表面粗さのRa値(中心線平均表面粗さ;JIS B
O601)の最小化ということにのみ着眼されてきた傾
向が強かった。使用ベースフィルムのRa値をより小さ
い方向にすれば、磁気テープの出力は向上するが、その
分使用ベース製造工程のハンドリングが悪化して大幅な
得率ダウンによるコストアップが避けられない、つまり
、使用ベースフィルムの表面粗さの最適化という問題は
容易ではなく、現在の市販磁気テープでは特に高C/N
化を要求されている品種において十分達成されていると
は言えない、ここにおいて言う高C/N化を要求されて
いる品種とは、5−VH3規格の様にハイバンド化され
た品種のことを指す。
表面粗さのRa値(中心線平均表面粗さ;JIS B
O601)の最小化ということにのみ着眼されてきた傾
向が強かった。使用ベースフィルムのRa値をより小さ
い方向にすれば、磁気テープの出力は向上するが、その
分使用ベース製造工程のハンドリングが悪化して大幅な
得率ダウンによるコストアップが避けられない、つまり
、使用ベースフィルムの表面粗さの最適化という問題は
容易ではなく、現在の市販磁気テープでは特に高C/N
化を要求されている品種において十分達成されていると
は言えない、ここにおいて言う高C/N化を要求されて
いる品種とは、5−VH3規格の様にハイバンド化され
た品種のことを指す。
従来塗布型磁気テープ用市販非磁性支持体用フィルムは
その表面粗さが光波干渉式三次元粗さ計で250μm角
のエリアを測定して10点平均突起高さ(P、)を測定
したところ両面ともPl。≧38nm以上であった。
その表面粗さが光波干渉式三次元粗さ計で250μm角
のエリアを測定して10点平均突起高さ(P、)を測定
したところ両面ともPl。≧38nm以上であった。
この様なベースフィルムを用いるとマグネ層表面にも、
ベース表面突起形状がかなり残ってきてその凹凸が、磁
気ヘッドと磁気テープのスペーシングロスを増大させ高
S/N化が不可能となる。
ベース表面突起形状がかなり残ってきてその凹凸が、磁
気ヘッドと磁気テープのスペーシングロスを増大させ高
S/N化が不可能となる。
一方蒸着用ベースフィルムは例外的にPl。が低く、1
〜10n−程度であり、これを使用して1/2インチ磁
気テープを作成しても5−VH3用ビデオテープとして
高C/Nのものを実現できるが、ベースフィルムの巻取
得率が非常に悪く、また磁性層塗布工程においてもスク
ラッチを発生して性能や得率をダウンしやすいため、最
終目的物である磁気テープの製造コストが高くなってし
まう。
〜10n−程度であり、これを使用して1/2インチ磁
気テープを作成しても5−VH3用ビデオテープとして
高C/Nのものを実現できるが、ベースフィルムの巻取
得率が非常に悪く、また磁性層塗布工程においてもスク
ラッチを発生して性能や得率をダウンしやすいため、最
終目的物である磁気テープの製造コストが高くなってし
まう。
このように磁気テープ製造コストを上昇させることなく
、高C/N化でき、5−V)is用としても使えるベー
スフィルムが求められた。
、高C/N化でき、5−V)is用としても使えるベー
スフィルムが求められた。
(発明の目的)
すなわち本発明の目的は磁気テープ製造コストを上昇さ
せることなく、電磁変換特性、特に高出力と貰C/Nの
磁気記録媒体を提供することにある。更に本発明の目的
はハイバンド、5−VH3用磁気テープに適した磁気記
録媒体を提供することにある。
せることなく、電磁変換特性、特に高出力と貰C/Nの
磁気記録媒体を提供することにある。更に本発明の目的
はハイバンド、5−VH3用磁気テープに適した磁気記
録媒体を提供することにある。
(発明の構成)
本発明の上記目的は、非磁性支持体上に強磁性酸化鉄粉
末を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体
において、前記非磁性支持体の磁性層面側の光波干渉式
三次元表面粗さのP、。が15〜35nsであり、Rm
ax/Proが2.8以下であり、磁性層面側と反対の
面のPl。も15〜35r+sであることを特徴とする
磁気記録媒体によって達成できる。
末を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体
において、前記非磁性支持体の磁性層面側の光波干渉式
三次元表面粗さのP、。が15〜35nsであり、Rm
ax/Proが2.8以下であり、磁性層面側と反対の
面のPl。も15〜35r+sであることを特徴とする
磁気記録媒体によって達成できる。
すなわち、本発明はP、。が15〜35nmという適度
な平滑ベースを用い、かつRmaxも大きくない均一な
ベースフィルムを用いることにより、磁気テープ製造コ
ストを上昇させることなく、高C/N、高出力を達成し
た磁気記録媒体である。
な平滑ベースを用い、かつRmaxも大きくない均一な
ベースフィルムを用いることにより、磁気テープ製造コ
ストを上昇させることなく、高C/N、高出力を達成し
た磁気記録媒体である。
更に好ましくは本発明の上記目的は、前記強磁性酸化鉄
粉末がCo含有酸化鉄粉末で保磁力Hcが850Oe
= 1200Oe結晶子サイズが200〜400人の強
磁性粉末であることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成することができる。
粉末がCo含有酸化鉄粉末で保磁力Hcが850Oe
= 1200Oe結晶子サイズが200〜400人の強
磁性粉末であることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成することができる。
すなわち本発明はハイバンド 5−HVS用磁気テープ
に好適な高Hc、微粒子のCo含有酸化鉄を組合わせて
用いることにより高出力、高C/Nが得られ、かつ製造
コストを上昇させることがない磁気記録媒体を提供する
ものである。
に好適な高Hc、微粒子のCo含有酸化鉄を組合わせて
用いることにより高出力、高C/Nが得られ、かつ製造
コストを上昇させることがない磁気記録媒体を提供する
ものである。
本発明においてP、。とRmaxは光波干渉式三次元粗
さ計により測定されたものである。
さ計により測定されたものである。
尚測定面積は0.25m角=0.06m5”である。
光波干渉式三次元粗さ計は、USAアリシナ州立大のW
YANT教授によって提唱され、WYKO社の名によっ
て米国特許US4639139として開示されている測
定原理に基づくものである。
YANT教授によって提唱され、WYKO社の名によっ
て米国特許US4639139として開示されている測
定原理に基づくものである。
アウトプット形式としては、JIS−BO601に表さ
れている様な、表面粗さ曲線が基本であるが、三次元的
に微小面積内の表面座標情報を鳥観図(第1図)として
出力できる。尚、J I 5−B12O3に示されてい
る様に、表面粗さを定量化しようとすれば、必ず、規定
長さ内の形状全体にわたる傾斜・うねり等を除去しなけ
ればならない。
れている様な、表面粗さ曲線が基本であるが、三次元的
に微小面積内の表面座標情報を鳥観図(第1図)として
出力できる。尚、J I 5−B12O3に示されてい
る様に、表面粗さを定量化しようとすれば、必ず、規定
長さ内の形状全体にわたる傾斜・うねり等を除去しなけ
ればならない。
光波干渉計の情報は直接の画像情報には、この傾向・う
ねりが含まれてしまうため、画像からの座標情報に下記
の3つの補正を加えて、250μm角内の傾斜・うねり
を排除した。
ねりが含まれてしまうため、画像からの座標情報に下記
の3つの補正を加えて、250μm角内の傾斜・うねり
を排除した。
(1)傾斜補正
ある平面を想定した際に、その平面と原信号座標の偏差
の二乗平均平方II(RMS)が最小となる様な平面を
算出し、その平面の座標分を各点の原信号座標から引く
、これを第1補正座標と呼ぶ。
の二乗平均平方II(RMS)が最小となる様な平面を
算出し、その平面の座標分を各点の原信号座標から引く
、これを第1補正座標と呼ぶ。
(2)球面補正
第1補正座標に対し、ある球面を想定し、その球面と第
1補正座標の偏差のRMSが最小となる様な球面を算出
し、その球面の座標分を第1補正座標から引く、これを
第1補正座標と呼ぶ。
1補正座標の偏差のRMSが最小となる様な球面を算出
し、その球面の座標分を第1補正座標から引く、これを
第1補正座標と呼ぶ。
(3)円筒補正
第2補正座標に対し、中心面(罰点の相加平均レベル)
に平行な中心軸をもつ円筒面を想定し、その円筒面と第
2補正座標の偏差のRMSが最小となる様な円筒面を算
出し、その円筒面の座標分を第2補正座標から引く、こ
れを第3補正座標と呼ぶ。
に平行な中心軸をもつ円筒面を想定し、その円筒面と第
2補正座標の偏差のRMSが最小となる様な円筒面を算
出し、その円筒面の座標分を第2補正座標から引く、こ
れを第3補正座標と呼ぶ。
Rmax:第3補正座標のZ軸(高さ)方向における最
大値と最小値の間隔をいう。
大値と最小値の間隔をいう。
PI@:第3補正座標により描き出された表面形状にお
いて凸状の部分の山頂のZ座標で、値の大きいもの10
点の平均値である。
いて凸状の部分の山頂のZ座標で、値の大きいもの10
点の平均値である。
但し、2座標において中心面を0とした。
本発明において、特に光波干渉式三次元表面粗さの規定
を設けた理由は触針式表面粗さ計では、本件の様な微妙
な表面粗さを記述する事が不可能であるからである。こ
のことは、後述の実施例からも明らかである。
を設けた理由は触針式表面粗さ計では、本件の様な微妙
な表面粗さを記述する事が不可能であるからである。こ
のことは、後述の実施例からも明らかである。
本発明に使用される非磁性支持体はポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポ
リエステル類;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類;セルローストリアセテート、セルロース
ダイアセテート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導
体;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリチン等のビニル計
樹脂;ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミトイ逅
ド等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、
銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不1=
li4などの非磁性金属類;紙、バライタまたはポリエ
チレン、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体な
との炭素数2〜1oのα−ポリオレフィン類を塗布また
はうくネートした紙などである。
タレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポ
リエステル類;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類;セルローストリアセテート、セルロース
ダイアセテート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導
体;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリチン等のビニル計
樹脂;ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミトイ逅
ド等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、
銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不1=
li4などの非磁性金属類;紙、バライタまたはポリエ
チレン、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体な
との炭素数2〜1oのα−ポリオレフィン類を塗布また
はうくネートした紙などである。
最も好ましい非磁性支持体は、上述にあるプラスチック
フィルムに不活性無機粒子、或いは有機粒子の類を含有
させて表裏の表面粗さを所定の範囲に調整したものであ
る。
フィルムに不活性無機粒子、或いは有機粒子の類を含有
させて表裏の表面粗さを所定の範囲に調整したものであ
る。
これら有機、無機の添加粒子として好ましいものは微細
な球状の粒子である。この中で比較的大きな粒子のもの
と、比較的小さな粒子のものを用いることが好ましい、
大きな粒子のものは巻き特性をもたせるために必要であ
り、小さな粒子のものは易滑性を持たせるのに必要であ
る。
な球状の粒子である。この中で比較的大きな粒子のもの
と、比較的小さな粒子のものを用いることが好ましい、
大きな粒子のものは巻き特性をもたせるために必要であ
り、小さな粒子のものは易滑性を持たせるのに必要であ
る。
上述の不活性無機粒子の例としては、無機粉体もしくは
研磨剤と称されるもので、成分をあげること、α−アル
果す、T−アルミナ、炭化ケイ素、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、リン化鉄、炭化チタン、窒化チタン、α−
とβ−酸化ケイ素、アルくニウム、蓚酸カルシウム、鉄
、α−酸化第1鉄、亜鉛、二酸化亜鉛、酸化第2ニッケ
ル、ニッケル、銅、クロミア、水酸化マグネシウム、ジ
ルコニア、イツトリア、セリア、ジルコン、酸化アンチ
モンなどがある。
研磨剤と称されるもので、成分をあげること、α−アル
果す、T−アルミナ、炭化ケイ素、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、リン化鉄、炭化チタン、窒化チタン、α−
とβ−酸化ケイ素、アルくニウム、蓚酸カルシウム、鉄
、α−酸化第1鉄、亜鉛、二酸化亜鉛、酸化第2ニッケ
ル、ニッケル、銅、クロミア、水酸化マグネシウム、ジ
ルコニア、イツトリア、セリア、ジルコン、酸化アンチ
モンなどがある。
有機微粒子としては、ベンゾグアナミンホルムアルデヒ
ド、ポリテトラフルオロエチレンのように有機マット材
として市販されているものが使用できる。これら粒子の
平均粒径は0.001〜3μm1好ましくは0.01〜
0.5μmであることが好ましい。
ド、ポリテトラフルオロエチレンのように有機マット材
として市販されているものが使用できる。これら粒子の
平均粒径は0.001〜3μm1好ましくは0.01〜
0.5μmであることが好ましい。
尚、前述のように粗大突起密度を低減するには、上記の
粒子添加後、多段フィルターにより濾過して除去するこ
ともできるが、もともとの添加粒子粉体自身に粗大粒子
が存在しない方が好ましい。
粒子添加後、多段フィルターにより濾過して除去するこ
ともできるが、もともとの添加粒子粉体自身に粗大粒子
が存在しない方が好ましい。
その点からみて、α−とβ−酸化ケイ素或いは有機微粒
子が最も好ましい。添加量としては粒径0゜1〜1μの
ものを0.01〜1.0重量%、粒径0.3〜5.0μ
のものを0.005〜1. 0重量%という2IIi、
分糸が最も好ましい。
子が最も好ましい。添加量としては粒径0゜1〜1μの
ものを0.01〜1.0重量%、粒径0.3〜5.0μ
のものを0.005〜1. 0重量%という2IIi、
分糸が最も好ましい。
このような条件を選定することにより、本発明の磁性層
面及び反対面側の光波干渉式三次元表面粗さのPIGが
15〜35nmであり、好ましくは20〜30r+mで
あり、かつRnaax / P r oが1.1〜2.
8である非磁性支持体が得られる。pH1が15nm未
満であるとフィルム−フィルム間の滑す性が悪くなり、
巻得率が70%に満たなくなる。その結果ベースフィル
ムの製造コストが高くなってしまう。Pl。が35nm
より大であると磁性層表面が粗くなり、C/Nが低くな
ってしまう。一方Rmax/P+oが2.8より大であ
ると、250μm角に1個〜2個程度の大きな突起が存
在することになり、PIGとしては15〜35nsの値
であってもC/Nは低くなってしまう。
面及び反対面側の光波干渉式三次元表面粗さのPIGが
15〜35nmであり、好ましくは20〜30r+mで
あり、かつRnaax / P r oが1.1〜2.
8である非磁性支持体が得られる。pH1が15nm未
満であるとフィルム−フィルム間の滑す性が悪くなり、
巻得率が70%に満たなくなる。その結果ベースフィル
ムの製造コストが高くなってしまう。Pl。が35nm
より大であると磁性層表面が粗くなり、C/Nが低くな
ってしまう。一方Rmax/P+oが2.8より大であ
ると、250μm角に1個〜2個程度の大きな突起が存
在することになり、PIGとしては15〜35nsの値
であってもC/Nは低くなってしまう。
本発明に使用される強磁性酸化鉄粉末はCo含有(被着
、ドープ、固溶を含む)酸化鉄粉末であることが好まし
い。例えば″Co含有γ−Fe203、Co含有Fez
O4、Co含有FeOx (1,3<X< 1゜5)等
が好ましい0強磁性粉末の特性としては保持力Hcが磁
性層で850Oe 〜1200Oe 。
、ドープ、固溶を含む)酸化鉄粉末であることが好まし
い。例えば″Co含有γ−Fe203、Co含有Fez
O4、Co含有FeOx (1,3<X< 1゜5)等
が好ましい0強磁性粉末の特性としては保持力Hcが磁
性層で850Oe 〜1200Oe 。
好ましくは850Oe〜1000Oeである。850O
eより小さいと7MHzの出力が低くなる。
eより小さいと7MHzの出力が低くなる。
又1200Oeより大であると記録が十分できなくなり
、又消去もしにくくなる。又結晶子サイズとしては20
0〜400人が好ましい。200人未満であると強磁性
粉末の分散性が悪くなり、磁性層表面が粗れてきて、7
MHzの出力が低下してしまう。又400人より大であ
るとノイズが高くなってくる。
、又消去もしにくくなる。又結晶子サイズとしては20
0〜400人が好ましい。200人未満であると強磁性
粉末の分散性が悪くなり、磁性層表面が粗れてきて、7
MHzの出力が低下してしまう。又400人より大であ
るとノイズが高くなってくる。
Co量は1〜10重量%が好ましく、特に3〜7重量%
が好ましい。
が好ましい。
本発明の磁気記録媒体を得るためにはこのように高Hc
、高微粒子で高充填の強磁性粉末であることが好ましい
、高充填すなわち最大磁束密度Bmが1600ガウス以
上であることが好ましい。
、高微粒子で高充填の強磁性粉末であることが好ましい
、高充填すなわち最大磁束密度Bmが1600ガウス以
上であることが好ましい。
このような強磁性酸化鉄粉末と前記非磁性支持体とを組
合わせて用いることにより、顕著に高出力、高C/Nが
達成でき、製造コストも上昇せず5−VH3用として好
適な磁気テープが得られる。
合わせて用いることにより、顕著に高出力、高C/Nが
達成でき、製造コストも上昇せず5−VH3用として好
適な磁気テープが得られる。
本発明に使用される結合材としては従来公知の熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使
用される。
樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使
用される。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150°C以下、平均
分子量が10,000〜300,000 、重合°Cが
約50〜1 、000程度のもので、例えば塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル・アクリロニトリル共重合体、アクリル
酸エステル・アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステル・塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル
・スチレン共重合体、メタクリル酸エステル・アクリロ
ニトリル共重合体、メタクリル酸エステル・塩化ビニリ
デン共重合体、メタクリル酸エステル・スチレン共重合
体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂
、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリ弗化ビニル
、塩化ビニリデン・アクリロニトリル共重合体、ブタジ
ェンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体(セルロースアセ
テートブチレート、セルロースダイアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニト
ロセルロース等)、スチレンブタジェン共重合体、ポリ
エステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステ
ル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性
樹脂及びこれらの混合物等が使用される。
分子量が10,000〜300,000 、重合°Cが
約50〜1 、000程度のもので、例えば塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル・アクリロニトリル共重合体、アクリル
酸エステル・アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステル・塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル
・スチレン共重合体、メタクリル酸エステル・アクリロ
ニトリル共重合体、メタクリル酸エステル・塩化ビニリ
デン共重合体、メタクリル酸エステル・スチレン共重合
体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂
、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリ弗化ビニル
、塩化ビニリデン・アクリロニトリル共重合体、ブタジ
ェンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体(セルロースアセ
テートブチレート、セルロースダイアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニト
ロセルロース等)、スチレンブタジェン共重合体、ポリ
エステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステ
ル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性
樹脂及びこれらの混合物等が使用される。
さらに熱可塑性樹脂として好ましいものとして側鎖に下
記一般式 %式% および−0−P−OM (式中、MはH,Li、Na
ま1 たはKを表わす) で表わされる極性基からなる群から選ばれた極性基を有
する樹脂、特に塩化ビニル系共重合体を使用するとその
効果が顕著に表われる。
記一般式 %式% および−0−P−OM (式中、MはH,Li、Na
ま1 たはKを表わす) で表わされる極性基からなる群から選ばれた極性基を有
する樹脂、特に塩化ビニル系共重合体を使用するとその
効果が顕著に表われる。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
200.000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加
熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量は
無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂
が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ま
しい、具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂
、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、
アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/ト
リフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ボリア
ξン樹脂及びこれらの混合物等である。
200.000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加
熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量は
無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂
が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ま
しい、具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂
、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、
アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/ト
リフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ボリア
ξン樹脂及びこれらの混合物等である。
これらの結合材の単独又は組合わされたものが使われ、
ほかに添加剤が加えられる0強磁性粉末と結合剤との混
合割合は重量比で強磁性粉末100重量部に対して結合
剤5〜300重量部の範囲で使用される。
ほかに添加剤が加えられる0強磁性粉末と結合剤との混
合割合は重量比で強磁性粉末100重量部に対して結合
剤5〜300重量部の範囲で使用される。
添加剤は分散剤、潤滑剤、研磨剤等が加えられ本発明に
もちいるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソ
シアネート、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジ
イソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネー
ト、0−)ルイジンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート
等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類とポリ
アルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依
って生成したポリイソシアネート等を使用することがで
きる。これらポリイソシアネート類の市販されている商
品名としては、コロネートL1コロネートHL、コロネ
ー)2030、コロネート2031. ミリオネートM
R,ξリオネー)MTL(日本ポリウレタン■製)、タ
ケネートD−102、タケネー)D−LLON、タケネ
ートD−200、タケネートD−202(武田薬品■製
)、デスモジュールL1デスモジュールIL、デスモジ
ュールN、デスモジュールHL(住友バイエル社製)等
があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用し
て二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用する
ことができる。
もちいるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソ
シアネート、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジ
イソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネー
ト、0−)ルイジンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート
等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類とポリ
アルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依
って生成したポリイソシアネート等を使用することがで
きる。これらポリイソシアネート類の市販されている商
品名としては、コロネートL1コロネートHL、コロネ
ー)2030、コロネート2031. ミリオネートM
R,ξリオネー)MTL(日本ポリウレタン■製)、タ
ケネートD−102、タケネー)D−LLON、タケネ
ートD−200、タケネートD−202(武田薬品■製
)、デスモジュールL1デスモジュールIL、デスモジ
ュールN、デスモジュールHL(住友バイエル社製)等
があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用し
て二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用する
ことができる。
本発明に使用する分散剤としては、カプリル酸、カプリ
ン酸、ラウリ・ン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、
リルン酸、ステアロール酸等の炭素数10〜22個の脂
肪酸(R+C0OH,R+ は炭素数9〜21個のアル
キル基)、前記の脂肪酸のアルカリ金属(L tSNa
SK等)またはアルカリ土類金属(Mg、Ca、Ba等
)、Cu。
ン酸、ラウリ・ン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、
リルン酸、ステアロール酸等の炭素数10〜22個の脂
肪酸(R+C0OH,R+ は炭素数9〜21個のアル
キル基)、前記の脂肪酸のアルカリ金属(L tSNa
SK等)またはアルカリ土類金属(Mg、Ca、Ba等
)、Cu。
Pd等から戒る金属石鹸;レシチン等が使用される。こ
の他に炭素数10以上の高級アルコール、及びこれらの
硫酸エステル、燐酸エステル等も使用可能である。これ
らの分散剤は結合剤100重量部に対して0.05〜2
0重量部の範囲で添加される。これら分散剤の使用方法
は、強磁性粉末や非磁性微粉末の表面に予め被着させて
も良く、また分散途中で添加してもよい。
の他に炭素数10以上の高級アルコール、及びこれらの
硫酸エステル、燐酸エステル等も使用可能である。これ
らの分散剤は結合剤100重量部に対して0.05〜2
0重量部の範囲で添加される。これら分散剤の使用方法
は、強磁性粉末や非磁性微粉末の表面に予め被着させて
も良く、また分散途中で添加してもよい。
本発明に使用される潤滑剤としては、シリコンオイル、
グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛
、弗素アルコール、ポリオレフィン(ポリエチレンワッ
クス等)、ポリグリコール(ポリエチレンオキシドワッ
クス等)、アルキル燐酸エステル、ポリフェニルエーテ
ル、二硫化タングステン、炭素数10〜20の一塩基性
脂肪酸と炭素数3〜12個の一価のアルコールもしくは
二価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコー
ル、六価のアルコールのいずれか1つもしくは2つ以上
とから成る脂肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩
基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11
〜28個と成る一価〜六価のアルコールから戒る脂肪酸
ニススル類等が使用できる。又、炭素数8〜22の脂肪
酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族アルコールも使用できる
。
グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛
、弗素アルコール、ポリオレフィン(ポリエチレンワッ
クス等)、ポリグリコール(ポリエチレンオキシドワッ
クス等)、アルキル燐酸エステル、ポリフェニルエーテ
ル、二硫化タングステン、炭素数10〜20の一塩基性
脂肪酸と炭素数3〜12個の一価のアルコールもしくは
二価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコー
ル、六価のアルコールのいずれか1つもしくは2つ以上
とから成る脂肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩
基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11
〜28個と成る一価〜六価のアルコールから戒る脂肪酸
ニススル類等が使用できる。又、炭素数8〜22の脂肪
酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族アルコールも使用できる
。
これら有機化合物潤滑剤の具体的な例としては、カプリ
ル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、
ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸
エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチル、
パルミチン酸エチル、パルもチン酸ブチル、バルミチン
酸オクチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル
、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、アンヒ
ドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタン
ジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレー
ト、アンヒドロソルビタンテトラステアレート、オレイ
ルアルコール、ラウリルアルコール等がある。また本発
明に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独
で使用出来、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、錆
どめ剤(ナフテン酸、アルケニルコハク酸、ジラウリル
フォスフェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアル
コール等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレ
ジルフォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清
浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡とめ剤等
がある。これらの潤滑剤は結合剤100重量部に対して
0.05〜20重量部の範囲で添加される。
ル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、
ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸
エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチル、
パルミチン酸エチル、パルもチン酸ブチル、バルミチン
酸オクチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル
、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、アンヒ
ドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタン
ジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレー
ト、アンヒドロソルビタンテトラステアレート、オレイ
ルアルコール、ラウリルアルコール等がある。また本発
明に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独
で使用出来、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、錆
どめ剤(ナフテン酸、アルケニルコハク酸、ジラウリル
フォスフェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアル
コール等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレ
ジルフォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清
浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡とめ剤等
がある。これらの潤滑剤は結合剤100重量部に対して
0.05〜20重量部の範囲で添加される。
本発明に用いる帯電防止剤としてはグラファイト、カー
ボンブラック、カーボンブラックグラフトポリマー等の
導電性粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価ア
ルコール、多価アルコールニースル、アルキルフェノー
ルEC011体等のノニオン界面活性剤;高級アルキル
アミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドア
逅ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリ
ジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン界面活性剤;カルホン酸、スルホ
ン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸
性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類;アミノス
ルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステ
ル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用
される。
ボンブラック、カーボンブラックグラフトポリマー等の
導電性粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価ア
ルコール、多価アルコールニースル、アルキルフェノー
ルEC011体等のノニオン界面活性剤;高級アルキル
アミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドア
逅ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリ
ジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン界面活性剤;カルホン酸、スルホ
ン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸
性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類;アミノス
ルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステ
ル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用
される。
本発明に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック等を用いる事ができる。これらカーボンブラック
の米国における省略の具体例を示すとSAF、I SA
F、I I SAF、T。
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック等を用いる事ができる。これらカーボンブラック
の米国における省略の具体例を示すとSAF、I SA
F、I I SAF、T。
HAF、SPF、FF、FEFS HMF、GPF。
APFS SRF、MPF、ECFS SCF、CF。
FT、MT、HCCS HCF、MCFS LFF。
RCF 等があり、米国のASTM規格のD−176
5−82aに分類されているものを使用することができ
る0本発明に使用されるこれらカーボンブラックの平均
粒子サイズは10〜1000ミIJ Qクロン(電子顕
微鏡)、窒素吸着法比表面積は1〜800ボ/g、pH
は6〜11(JIS規格に−6221−1982法)、
DBP吸油量は10〜400d/100g (JIS規
格に−6221−1982法)である。本発明に使用さ
れるカーボンブラックのサイズは、塗布膜の表面電気抵
抗を下げる目的で10〜100ξリミクロンのカーボン
ブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに50〜
1000ミリミクロンのカーボンブラックを用いる。ま
た塗布膜の表面粗さを制御する目的でスペーシングロス
減少のための平滑化のためにより微粒子のカーボンブラ
ック(100ミリξクロン以下)を、粗面化して摩擦係
数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(50ミリ
ミクロン以上)を用いる。このようにカーボンブラック
の種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に応じ
て使い分けられる。また、これらのカーボンブラックを
、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト
化して使用してもよい。
5−82aに分類されているものを使用することができ
る0本発明に使用されるこれらカーボンブラックの平均
粒子サイズは10〜1000ミIJ Qクロン(電子顕
微鏡)、窒素吸着法比表面積は1〜800ボ/g、pH
は6〜11(JIS規格に−6221−1982法)、
DBP吸油量は10〜400d/100g (JIS規
格に−6221−1982法)である。本発明に使用さ
れるカーボンブラックのサイズは、塗布膜の表面電気抵
抗を下げる目的で10〜100ξリミクロンのカーボン
ブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに50〜
1000ミリミクロンのカーボンブラックを用いる。ま
た塗布膜の表面粗さを制御する目的でスペーシングロス
減少のための平滑化のためにより微粒子のカーボンブラ
ック(100ミリξクロン以下)を、粗面化して摩擦係
数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(50ミリ
ミクロン以上)を用いる。このようにカーボンブラック
の種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に応じ
て使い分けられる。また、これらのカーボンブラックを
、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト
化して使用してもよい。
また、カーボンブラックを製造するときの炉の温度を2
000 ’C以上で処理して表面の一部をグラファイト
化したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラッ
クとして中空カーボンブラックを使用することもできる
。これらのカーボンブラックは磁性層の場合、強磁性粉
末100重量部に対して011〜20重量部で用いるこ
とが望ましい。
000 ’C以上で処理して表面の一部をグラファイト
化したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラッ
クとして中空カーボンブラックを使用することもできる
。これらのカーボンブラックは磁性層の場合、強磁性粉
末100重量部に対して011〜20重量部で用いるこ
とが望ましい。
本発明に使用できるカーボンブラックは例えば「カーボ
ンブラック便覧」、カーボンブラック協会[(昭和46
年発行)を参考にすることが出来る。
ンブラック便覧」、カーボンブラック協会[(昭和46
年発行)を参考にすることが出来る。
本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒とし
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン
、テトラヒドロンラン等のケトン系;メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノ
ールなどのアルコール系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エ
チル、酢酸グリコール、モノエチルエーテル等のエステ
ル系;エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコール
エーテル系;ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系(芳香族
炭化水素);メチレンクロライド、エチレンクロライド
、四塩化炭酸、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン
、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、N、 N−ジ
メチルホルムアルデヒド、ヘキサン等のものが使用でき
る。
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン
、テトラヒドロンラン等のケトン系;メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノ
ールなどのアルコール系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エ
チル、酢酸グリコール、モノエチルエーテル等のエステ
ル系;エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコール
エーテル系;ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系(芳香族
炭化水素);メチレンクロライド、エチレンクロライド
、四塩化炭酸、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン
、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、N、 N−ジ
メチルホルムアルデヒド、ヘキサン等のものが使用でき
る。
混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順序
などは適宜設定することができる。磁性塗料の調製には
通常の混練機、例スば、二本ロールミル、三本ロールミ
ル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラ
インダー、Szegvariアトライター、高速インペ
ラー、分散機、高速ストーン宅ル、高速度衝撃ミル、デ
イスパー、ニダー、高速ミキサー、リボンプレンダー、
コニーダー、インテンシブミキサー、タンブラ−、プレ
ンダー、ディスパーザ−、ホモジナイザー、単軸スクリ
ュー押し出し機、二輪スクリュー押し出し機、及び超音
波分散機などを用いることができる混線分散に関する技
術の詳細は、T、C,FATTON著″Pa1nt F
low and Pigment Dispersio
n”(1964年John Wiley & 5ons
社発行)や田中信−著「工業材料」25巻37 (19
77)などに記載されている。また、米国特許第2,5
81.414号及び同第2,855.156号などの明
細書にも記載がある0本発明においても上記の文献など
に記載された方法に準じて混線分散を行い磁性塗料を調
製することができる。
などは適宜設定することができる。磁性塗料の調製には
通常の混練機、例スば、二本ロールミル、三本ロールミ
ル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラ
インダー、Szegvariアトライター、高速インペ
ラー、分散機、高速ストーン宅ル、高速度衝撃ミル、デ
イスパー、ニダー、高速ミキサー、リボンプレンダー、
コニーダー、インテンシブミキサー、タンブラ−、プレ
ンダー、ディスパーザ−、ホモジナイザー、単軸スクリ
ュー押し出し機、二輪スクリュー押し出し機、及び超音
波分散機などを用いることができる混線分散に関する技
術の詳細は、T、C,FATTON著″Pa1nt F
low and Pigment Dispersio
n”(1964年John Wiley & 5ons
社発行)や田中信−著「工業材料」25巻37 (19
77)などに記載されている。また、米国特許第2,5
81.414号及び同第2,855.156号などの明
細書にも記載がある0本発明においても上記の文献など
に記載された方法に準じて混線分散を行い磁性塗料を調
製することができる。
磁性層の形成は上記の組成などを任意に組合せて有機溶
媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥する
。テープとして使用する場合には支持体の厚み2.5〜
100ミクロン程度、好ましくは3〜70Gクロン程度
が良い。
媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥する
。テープとして使用する場合には支持体の厚み2.5〜
100ミクロン程度、好ましくは3〜70Gクロン程度
が良い。
これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プ
ラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵膜処理、金属蒸着
処理、アルカリ処理を行ってもよい、これら支持体に関
しては例えば西独特許3゜338.854A、特開昭5
9−116926号、米国特許第4,388.368号
;三石幸夫著「繊維と工業」31巻p50〜55.19
75年などに記載されている。
ラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵膜処理、金属蒸着
処理、アルカリ処理を行ってもよい、これら支持体に関
しては例えば西独特許3゜338.854A、特開昭5
9−116926号、米国特許第4,388.368号
;三石幸夫著「繊維と工業」31巻p50〜55.19
75年などに記載されている。
支持体上へ前記の磁性層を塗布する方法としてはエアー
ドクターコート、ブレードコート、エアナイフコート、
スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコ
ート、キャストコート、スプレィコート等が利用出来、
その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は朝食
書店発行の「コーティング工学」253頁〜277頁(
昭和46年3月20日発行)に詳細に記載されている。
ドクターコート、ブレードコート、エアナイフコート、
スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコ
ート、キャストコート、スプレィコート等が利用出来、
その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は朝食
書店発行の「コーティング工学」253頁〜277頁(
昭和46年3月20日発行)に詳細に記載されている。
このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
必要により層中の強磁性粉末を直ちに乾燥しながら配向
させる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。
必要により層中の強磁性粉末を直ちに乾燥しながら配向
させる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。
このときの支持体の搬送速度は、通常10m/分〜50
0m/分で行われ、乾燥温度が20°C〜120℃で制
御される。又必要によりカレンダー処理等の表面平滑化
加工を施したり、所望の形状に裁断したりして、本発明
の磁気記録媒体を製造する。
0m/分で行われ、乾燥温度が20°C〜120℃で制
御される。又必要によりカレンダー処理等の表面平滑化
加工を施したり、所望の形状に裁断したりして、本発明
の磁気記録媒体を製造する。
(発明の効果)
本発明により、特に5−VH3規格において高出力、高
C/Nを実現する磁気テープを、製造コストを上げるこ
となく生産できる。その理由は、まず使用するベースフ
ィルムであり、光波干渉式三次元表面粗さのP、を15
〜35nmに均一に調整することで、製造得率を落さず
、しかも磁性層表面に粗すことかないため表面性の優れ
た磁気テープを安価に生産できる。そして、使用する強
磁性粉末として、保磁力Hcが850〜1200Oe結
晶子サイズが200〜400λの強磁性Co含有酸化鉄
を用いることで、5−VHSシステムにおいて高出力で
しかもノイズの少ない磁性層が製作できるものである。
C/Nを実現する磁気テープを、製造コストを上げるこ
となく生産できる。その理由は、まず使用するベースフ
ィルムであり、光波干渉式三次元表面粗さのP、を15
〜35nmに均一に調整することで、製造得率を落さず
、しかも磁性層表面に粗すことかないため表面性の優れ
た磁気テープを安価に生産できる。そして、使用する強
磁性粉末として、保磁力Hcが850〜1200Oe結
晶子サイズが200〜400λの強磁性Co含有酸化鉄
を用いることで、5−VHSシステムにおいて高出力で
しかもノイズの少ない磁性層が製作できるものである。
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
尚、実施例中の「部Jとの表示は「重量部jを示すもの
とする。
とする。
実施例(1)
下記に示す&IItcの磁性塗料を調整して厚さ13μ
mのポリエチレンテレフタレートベースフィルム上に各
々塗布し、カレンダー処理後スリットして1/2#ビデ
オテープサンプル阻1〜19を得た。
mのポリエチレンテレフタレートベースフィルム上に各
々塗布し、カレンダー処理後スリットして1/2#ビデ
オテープサンプル阻1〜19を得た。
〈磁性塗料〉
Co含有強磁性粉末(針状比=8) 300部リン酸
基含有塩化ビニル共重合体 30部ポリウレタン樹
脂 20部ポリイソシアネート
10部カーボンブラック
8部研磨剤(α−1!、O,)
5部レシチン 3部ラ
ウリン酸 3部オレイン酸
3部酢酸ブチル
100部メチルエチルケトン
150部尚、各サンプルは表に示す通り強磁
性粉末とベースフィルムの特性に差を付けである。
基含有塩化ビニル共重合体 30部ポリウレタン樹
脂 20部ポリイソシアネート
10部カーボンブラック
8部研磨剤(α−1!、O,)
5部レシチン 3部ラ
ウリン酸 3部オレイン酸
3部酢酸ブチル
100部メチルエチルケトン
150部尚、各サンプルは表に示す通り強磁
性粉末とベースフィルムの特性に差を付けである。
得られた磁気記録媒体について、再生RF出力及びC/
Nについて調べた。
Nについて調べた。
再生RF出力について市販の5−VHSデツキにフェラ
イトヘッドを使用して、記録波長0.83μmにおける
再生RF出力(つまりIMHzの出力)を測定した。C
/Nについては上記再生RF出力に対するノイズとの比
を測定した。
イトヘッドを使用して、記録波長0.83μmにおける
再生RF出力(つまりIMHzの出力)を測定した。C
/Nについては上記再生RF出力に対するノイズとの比
を測定した。
尚、再生出力及びC/Nは富士写真フィルム■性スーハ
ーX G T 120 (D再生出力をOdBとし
たときの相対値である。ここで5−VH3用テープとし
ては7MHzにおけるC/Nが+2.2dB以上が実用
可能レベルである。
ーX G T 120 (D再生出力をOdBとし
たときの相対値である。ここで5−VH3用テープとし
ては7MHzにおけるC/Nが+2.2dB以上が実用
可能レベルである。
使用ベース特性評価は下記の方法で行った。
■製造得率:各実施例におけるベースフィルムを製膜し
た時の得率 製膜機から直接巻取られるベースフィルムロールは、幅
約5m、長さ約10000 mである。これを磁気テー
プ製造工程に流す際には前もって1m幅xtoooo
m長にスリットするが、その工程において巻取形状不良
のために得率が低下する。ここにおいて定義する得率と
はこのスリット工程における得率を指す。
た時の得率 製膜機から直接巻取られるベースフィルムロールは、幅
約5m、長さ約10000 mである。これを磁気テー
プ製造工程に流す際には前もって1m幅xtoooo
m長にスリットするが、その工程において巻取形状不良
のために得率が低下する。ここにおいて定義する得率と
はこのスリット工程における得率を指す。
■光波干渉式三次元表面粗さ(Rmax、P+*)WY
KO社(U、S、A、アリシナ州)製 光波干渉式三次
元粗さ計高標rTOPo−3D、を用い、250μm角
の表面粗さを測定(対物レンズ40x)して最大高さか
ら最低深さまでの間隔をRmax(n■)とした。
KO社(U、S、A、アリシナ州)製 光波干渉式三次
元粗さ計高標rTOPo−3D、を用い、250μm角
の表面粗さを測定(対物レンズ40x)して最大高さか
ら最低深さまでの間隔をRmax(n■)とした。
更にこの表面粗さを形状情報を元に、高い突起から順に
10点の突起の中心面(全点の平均高さ)からの貰さを
抽出し相加平均として10点平均突起高さP 、 o
(nm)とした。
10点の突起の中心面(全点の平均高さ)からの貰さを
抽出し相加平均として10点平均突起高さP 、 o
(nm)とした。
サンプルNα2〜6.8〜10.12〜17が本発明の
範囲内の磁気テープであるが表に示すとおり、高C/N
(λ−0,83μmにおいて2.4dB以上)を出し
ている。これに対し、非磁性支持体マグネ面側のP10
が本特許請求範囲より大きくなっている恥7ではC/N
があまり高くない、また前記Pl。が本特許請求範囲よ
り小さくなっている弘1では、高C/Nは実現できてい
るがベース製造得率が悪く、これでは磁気テープ製造コ
ストが大幅に上がってしまう、また前記Pl。は本特許
請求範囲内であるがRmaxが該範囲外であるNa11
ではやはり高C/Nが実現できていない、また非磁性支
持体バック面側のPl。が本特許請求範囲より大きくな
っている石18.19ではバック面粗さの磁性層面への
転写の影響が大きくなってやはり高C/Nが実現できて
いない。
範囲内の磁気テープであるが表に示すとおり、高C/N
(λ−0,83μmにおいて2.4dB以上)を出し
ている。これに対し、非磁性支持体マグネ面側のP10
が本特許請求範囲より大きくなっている恥7ではC/N
があまり高くない、また前記Pl。が本特許請求範囲よ
り小さくなっている弘1では、高C/Nは実現できてい
るがベース製造得率が悪く、これでは磁気テープ製造コ
ストが大幅に上がってしまう、また前記Pl。は本特許
請求範囲内であるがRmaxが該範囲外であるNa11
ではやはり高C/Nが実現できていない、また非磁性支
持体バック面側のPl。が本特許請求範囲より大きくな
っている石18.19ではバック面粗さの磁性層面への
転写の影響が大きくなってやはり高C/Nが実現できて
いない。
以上のことから、本特許請求範囲が示す樺なPIoとR
maxを有するベースフィルムを使って作成した磁気テ
ープにおいては製造コストを上げることなく、高C/N
が実現できることがわかる。
maxを有するベースフィルムを使って作成した磁気テ
ープにおいては製造コストを上げることなく、高C/N
が実現できることがわかる。
この効果は特に5−VH3規格において著しいものがあ
るが、通常のVHS、βなど各規格においても同様な効
果は期待できる。
るが、通常のVHS、βなど各規格においても同様な効
果は期待できる。
第1図は光波干渉式三次元粗さ計により測定した表面粗
さを三次元的に微少面積内の表面座標情報として出力し
た鳥観図である。
さを三次元的に微少面積内の表面座標情報として出力し
た鳥観図である。
Claims (2)
- (1)非磁性支持体上に強磁性酸化鉄粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記
非磁性支持体の磁性層面側の光波干渉式三次元表面粗さ
のP_1_0が15〜35nmであり、Rmax/P_
1_0が2.8以下であり、磁性層面側と反対の面のP
_1_0も15〜35nmであることを特徴とする磁気
記録媒体。 - (2)前記強磁性酸化鉄粉末がCo含有酸化鉄粉末で保
磁力Hcが850Oe〜1200Oe結晶子サイズが2
00〜400Åの強磁性粉末であることを特徴とする請
求項(1)の磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1198677A JP2640276B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 磁気記録媒体 |
| US07/560,633 US4997696A (en) | 1989-07-31 | 1990-07-31 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1198677A JP2640276B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0363928A true JPH0363928A (ja) | 1991-03-19 |
| JP2640276B2 JP2640276B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=16395212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1198677A Expired - Fee Related JP2640276B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4997696A (ja) |
| JP (1) | JP2640276B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5217820A (en) * | 1988-12-16 | 1993-06-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | High density slave magnetic recording media having specified perpendicular squareness rectangular ratio, roughness and number of projections |
| US5458947A (en) * | 1989-10-31 | 1995-10-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium |
| US5949612A (en) * | 1995-03-21 | 1999-09-07 | Censtor Corp. | Low friction sliding hard disk drive system |
| JP2861306B2 (ja) * | 1990-07-10 | 1999-02-24 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US6631242B1 (en) * | 1990-10-31 | 2003-10-07 | Sony Corporation | Apparatus for recording and reproducing digital picture data |
| JPH0724226A (ja) | 1993-07-15 | 1995-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | チキソトロピック液の濾過方法及びフィルタ |
| JPH0785463A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-03-31 | A G Technol Kk | 磁気ディスク |
| US6236542B1 (en) | 1994-01-21 | 2001-05-22 | International Business Machines Corporation | Substrate independent superpolishing process and slurry |
| US6804085B1 (en) * | 1995-03-21 | 2004-10-12 | Seagate Technology, Llc | Hard drive system interface between a disk surface and a transducer contacting the surface during communication |
| US5976714A (en) * | 1995-10-23 | 1999-11-02 | Mitsubishi Chemical Corporation | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US5737229A (en) * | 1995-11-07 | 1998-04-07 | The Ohio State University | Method of texturing a magnetic recording medium for optimum skewness and kurtosis to reduce friction with a magnetic head |
| JP3466041B2 (ja) * | 1997-03-03 | 2003-11-10 | アルプス電気株式会社 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59203232A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-17 | Diafoil Co Ltd | 磁気記録体用ポリエステルフイルム |
| JPS61239930A (ja) * | 1985-04-17 | 1986-10-25 | Teijin Ltd | 磁気記録用ポリエステルフイルム |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1198677A patent/JP2640276B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-07-31 US US07/560,633 patent/US4997696A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2640276B2 (ja) | 1997-08-13 |
| US4997696A (en) | 1991-03-05 |
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Legal Events
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