JPH0363944A - 光ディスク原盤用レジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ビデオディスク、ディジタルオーディオディ
スク、静止画１文書フッイルなどの光ディスクを作製す
るための光ディスク原盤用レジスト塗布装置に関するも
のである。

従来の技術 一般に光ディスクはその情報密度が極めて大きいことや
、Ｓ／Ｎ比が太きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタフレ
オーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号
を記録、再生する光ディスクとしても近年研究開発が行
なわれている。

以下、図面を参照しながら上述した従来の光ディスク原
盤用レジヌト塗布装置の一例について説明する。第３図
は、従来の光ディスク原盤用レジスト塗布装置のブロッ
ク図であシ、第４図はレジスト（ここでは、−数的に使
用されているポジ型しジスト液ＡＺ１３００シリーズを
回転数５００ｒｐｍ　で塗布した場合を例に上げである
。）の濃度に対して形成される膜厚の関係を示すグラフ
であシ、第６図はレジスト液濃度が一定の場合の回転数
とレジスト膜厚の関係を示すグラフである。

第３図にかいて、１は光ディスク原盤、２はターンテー
プ／Ｌ／ａとモータｂから成る回転部、３はレジヌト液
吐出用の電磁弁、４は一定に稀釈されたレジスト液供給
用タンクである。レジスト液を塗布するには、あらかじ
め第４図のグラフで示すように形成する膜厚に応じて稀
釈したレジスト液をレジスト液用タンク４に入れエアー
で加圧してかき、光ディスク原盤１をターンテープｌｖ
ａに載せ、回転用モータｂで一定の低速度で回転しなか
ら液吐出用の電磁弁３を開閉し、レジスト液を光ディス
ク原盤１の上に吐出後、第５図に示すような膜厚に応じ
た速度で一定の角速度で回転することにより、レジスト
膜の形成を行なうものである。

発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成では、回転数を変えるこ
とによシ形成する膜厚を狭い範囲内（１〜２倍程度）で
設定することが出来るが、大幅に違った膜厚（２倍以上
）を形成する場合には、その度に膜厚に応じてレジスト
濃度を変えたレジスト液を作製し、この稀釈濃度を変え
たレジスト液と交換することで対応しなければならない
。従って必要以上にレジスト液釦よびレジスト稀釈液が
必要となシ、また膜厚に応じて必要な濃度に稀釈したレ
ジスト液と交換しなければならない為、時間がかかシ、
交換時にホコリやゴミが発生し、不良の原因にもなる。

本発明は上記の課題に鑑み、さらに簡単でいかなるレジ
スト膜厚をも形成出来る光ディスク原盤用レジスト塗布
装置を提供するものである。

課題を解決するための手段 上記の課題を解決するために本発明の光ディスク原盤用
レジスト塗布装置は、レジスト液を吐出時に装置内で混
合稀釈出来るようにし、またレジスト液およびレジスト
稀釈液に加える圧力を変えることで、レジスト液を交換
することなく稀釈濃度も自由に変えられるようにしたも
のである。

作　　　用 本発明は上記した構成によシ各種膜厚を、レジスト液お
よびレジスト稀釈液に加える圧力を調整するだけで、簡
単に形成出来るようにしたものである。

実施例 以下本発明の一実施例の光ディスク原盤用レジヌト塗布
装置について図面を参照しながら説明する。第１図は本
発明の第１の実施例にかける光ディスク原盤用レジスト
塗布装置のブロック図であり、第２図はレジスト原液釦
よびレジスト稀釈液に加える圧力比に対して得られる吐
出時のレジメト稀釈濃度の関係を示すものである。第１
図において、１１は光ディスク原盤、１２はターンテー
プｔｖｃとモータｄから戒る回転部、１３は液吐出用の
電磁弁、１４はレジスト液供給用タンク、１６はレジス
ト液加圧調整用レギュレータ、１６はレジスト稀釈液供
給用タンク、１７はレジスト稀釈液加圧調整用レギュレ
ータである。

以下第１図１よび第２図を用いてその動作を説明する。

筐ず、レジスト液供給タンク１４にレジスト原液を、レ
ジスト稀釈液供給タンク１６にレジスト稀釈液を入れ、
各々の圧力を圧力調整用レギュレータ１５．１７を設定
する（例えば、第２図に示すように稀釈濃度が５０％の
場合は加圧調整用レギュレータ１５．１７を等しくする
。）。

次に、光ディスク原盤１１をターンテーブルＣに載せ、
回転用モータｄによシ一定の低速度で回転しなから液吐
出用電磁弁１３を開閉し、稀釈されたレジスト液を光デ
ィスク原盤１１上に吐出後、形成する膜厚に応じた速度
で一定の角速度で回転することにより、レジスト膜の形
成を行なうものである。

発明の効果 以上のように本発明は、レジスト液を交換することなく
、自由にレジスト稀釈濃度を変えることが出来、従って
形成する膜厚も任意にかつ簡単に変えることが出来る。

また、膜厚を変える度にレジスト液を変える必要が無い
為、交換時のホコリやゴミの発生を防ぐことが出来、高
品質の光ディスクを作製することが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明第１の実施例にむける光ディスク原盤用
レジスト塗布装置のブロック図、第２図は各々のタンク
に加える圧力比に対し得られるレジスト液の稀釈濃度の
関係を示すグラフ、第３図は従来の光ディスク原盤用レ
ジスト塗布装置のブロック図、第４図はレジスト濃度と
形成される膜厚の関係を示すグラフ、第５図は回転数と
形成される膜厚の関係を示すグラフである。 １１・・・・・・光ディスク原盤、１２・−・・−・回
転部、１３・・・・・・電磁弁、１４・・・・・・レジ
スト液供給用タンク、５・・・・・・圧力調整用レギュ
レータ、６・・・・・・レジ スト稀釈液供給用タンク、 ７・・・・・・圧力調整用レ ギュレータ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. レジスト液供給用タンクと、レジスト稀釈液供給用タン
   クと、各々のタンクに加える圧力の調整用レギュレータ
   と、液の混合吐出用電磁弁と、光ディスク原盤の回転部
   とを備えたことを特徴とする光ディスク原盤用レジスト
   塗布装置。