JPH0394872A - レジスト塗布方法 - Google Patents
レジスト塗布方法Info
- Publication number
- JPH0394872A JPH0394872A JP22832889A JP22832889A JPH0394872A JP H0394872 A JPH0394872 A JP H0394872A JP 22832889 A JP22832889 A JP 22832889A JP 22832889 A JP22832889 A JP 22832889A JP H0394872 A JPH0394872 A JP H0394872A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- substrate
- center
- film thickness
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、スピンナー法によりレジストを回転塗布する
方法に関する。
方法に関する。
［従来の技術］
従来、Ｃ Ｄ、ビデオディスク、光磁気ディスク等の情
報を記録再生する情報記録媒体の基板（以後、情報記録
媒体等、と称する）の成形用スタンバーの製造工程にお
いて、ガラス基板にレジストを塗布する工程があり、お
もにガラス基板をターンテーブルに設置して回転させつ
つ、基板の主面にノズルからレジストを放出させ、レジ
ストの薄膜を形成させる、いわゆるスピンナー法がとり
おこなれれている。しかしながらこのようなスピンナー
法では、基板中央部ε基板周辺部とでレジストの塗布厚
に差が生じることが従来から指摘されていた。このよう
な膜厚差が極端な場合、その後の現像工程において適正
な現像時間を設定することが難しくなるという問題があ
った。
報を記録再生する情報記録媒体の基板（以後、情報記録
媒体等、と称する）の成形用スタンバーの製造工程にお
いて、ガラス基板にレジストを塗布する工程があり、お
もにガラス基板をターンテーブルに設置して回転させつ
つ、基板の主面にノズルからレジストを放出させ、レジ
ストの薄膜を形成させる、いわゆるスピンナー法がとり
おこなれれている。しかしながらこのようなスピンナー
法では、基板中央部ε基板周辺部とでレジストの塗布厚
に差が生じることが従来から指摘されていた。このよう
な膜厚差が極端な場合、その後の現像工程において適正
な現像時間を設定することが難しくなるという問題があ
った。
上記問題に対して、基板をその面に垂直な軸回りに自転
させると同時に、自転軸に平行な軸回りに公転させる方
法（特開昭５１−６５８８３、特開昭５４−１４４８７
７ ）が提案されている。これらの方法によれば、模厚
差を少なくする効果はあるものの、基板の駆動部を２箇
所設けなければならず、そのために装置が大型になり、
同時に駆動部から発生ずる塵埃による基板欠陥の頻度が
高くなる傾向があった。
させると同時に、自転軸に平行な軸回りに公転させる方
法（特開昭５１−６５８８３、特開昭５４−１４４８７
７ ）が提案されている。これらの方法によれば、模厚
差を少なくする効果はあるものの、基板の駆動部を２箇
所設けなければならず、そのために装置が大型になり、
同時に駆動部から発生ずる塵埃による基板欠陥の頻度が
高くなる傾向があった。
［発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、レジストのスピンナー塗布法において
発生するレジストの基板中央部と周辺部との膜厚差を少
なくするこヒであり、その手段どして前記のように基板
駆動部を改変することむく、目的を達成し得るレジスト
塗布力法を提供することにある。
発生するレジストの基板中央部と周辺部との膜厚差を少
なくするこヒであり、その手段どして前記のように基板
駆動部を改変することむく、目的を達成し得るレジスト
塗布力法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成し得る本発明は、スピンナーを用いたレ
ジストの塗布力法において、塗布すべきレジスト液の濃
度を連続的に変化きセつつ回転づる基板に供給すること
を特徴とするものである。
ジストの塗布力法において、塗布すべきレジスト液の濃
度を連続的に変化きセつつ回転づる基板に供給すること
を特徴とするものである。
以下、本発明によるレジスト塗布方法を詳細に説明する
６ スピンナー塗布法において、レジスト膜厚はスピンナー
の回転数とレジスト液の粘度で決定され、またレジスト
液の粘度は希釈剤との混合比によって決定される。従っ
て、スピンナーの回転数一定の場合に生じるレジスト膜
厚の基板中央部と周辺部での差は、基板に滴下された後
のレジスト液の粘度変化によるものと考えらる。そこで
、供給するレジスト液の粘度を連続的に変化させるごと
によって、すなわち、初期は低濃度で供給し、徐々に濃
度を上げていくことにより、レジスト嘆厚の偏りを小さ
くすることができるものｅある。
６ スピンナー塗布法において、レジスト膜厚はスピンナー
の回転数とレジスト液の粘度で決定され、またレジスト
液の粘度は希釈剤との混合比によって決定される。従っ
て、スピンナーの回転数一定の場合に生じるレジスト膜
厚の基板中央部と周辺部での差は、基板に滴下された後
のレジスト液の粘度変化によるものと考えらる。そこで
、供給するレジスト液の粘度を連続的に変化させるごと
によって、すなわち、初期は低濃度で供給し、徐々に濃
度を上げていくことにより、レジスト嘆厚の偏りを小さ
くすることができるものｅある。
第１図に本発明の方法を実施するためのスビノナー塗布
装置の概略図を示す６所定濃度のレジ・スト液１は、レ
ジスト供給ボンブ３により送液され、また希釈剤溶淑２
は希釈剤供給ボ゛ノブ４により送液されて、配管結合部
５で混合された後、｝Ｉｌ合コイル６で均一に混合さＡ
″Ｎ、ノズル７に供給さね、一定速度で回転する基板設
置ぞ−↑９Ｌの基板８にレジストが塗布される。ボンブ
３、４の供給量を相亙に連続的に変化させることによっ
て、供給されるレジスト液の濃度を連続的に変化させる
ことができ、前述した目的を速成ずるごとができる３ ［実施例］ 以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明する。
装置の概略図を示す６所定濃度のレジ・スト液１は、レ
ジスト供給ボンブ３により送液され、また希釈剤溶淑２
は希釈剤供給ボ゛ノブ４により送液されて、配管結合部
５で混合された後、｝Ｉｌ合コイル６で均一に混合さＡ
″Ｎ、ノズル７に供給さね、一定速度で回転する基板設
置ぞ−↑９Ｌの基板８にレジストが塗布される。ボンブ
３、４の供給量を相亙に連続的に変化させることによっ
て、供給されるレジスト液の濃度を連続的に変化させる
ことができ、前述した目的を速成ずるごとができる３ ［実施例］ 以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明する。
Ｘ鑑舅ユ
第１図に示すレジスト塗布’ＡＭを用いて、レジスト液
ヒしてＡＺ１．３５０（商品名、ヘキスト社製）希釈剤
溶液としてＡＺシンナー（商品名、ヘキスト社製）を使
用し、所定濃度で基板中心から３０ｍｍの地点の膜厚が
約５０００Ａとなるようにレジスト液供給量、希釈剤溶
液供給量および基板回転速度を設定した。所定濃度を１
（任意単位）とし、供給するレジスト液の濃度を初ｇ
Ｊｌｏ．９５から１まで連続的に変化させてレジスト液
を基板」二に供給することにより、第２図に示すよつに
基板中心部（中心から３ ０ｍｍの地点）と周辺部（中
心から１２０ｍｍの地点）とのレジスト膜厚の差は約３
０人であり、膜厚の偏りも小さくすることができた。
ヒしてＡＺ１．３５０（商品名、ヘキスト社製）希釈剤
溶液としてＡＺシンナー（商品名、ヘキスト社製）を使
用し、所定濃度で基板中心から３０ｍｍの地点の膜厚が
約５０００Ａとなるようにレジスト液供給量、希釈剤溶
液供給量および基板回転速度を設定した。所定濃度を１
（任意単位）とし、供給するレジスト液の濃度を初ｇ
Ｊｌｏ．９５から１まで連続的に変化させてレジスト液
を基板」二に供給することにより、第２図に示すよつに
基板中心部（中心から３ ０ｍｍの地点）と周辺部（中
心から１２０ｍｍの地点）とのレジスト膜厚の差は約３
０人であり、膜厚の偏りも小さくすることができた。
比慰１１
所定濃度を変化させることなく、同様に操作し，てレジ
ストを塗布した。結果を第２図に示すが、図に示すよう
に、基板中心部（中心から３０關の地点）と周辺部（中
心から１２０ｍｍの地点）とのレジスト膜厚の差は約２
００人であり、膜厚の偏りが大きいことがわかる。
ストを塗布した。結果を第２図に示すが、図に示すよう
に、基板中心部（中心から３０關の地点）と周辺部（中
心から１２０ｍｍの地点）とのレジスト膜厚の差は約２
００人であり、膜厚の偏りが大きいことがわかる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明の塗布方法を実施するこヒ
により、基板中心部と周辺部の膜厚の差を小さくするこ
とができ、その後の現像丁程において適正な現像時間を
設定することが容易となるものである。
により、基板中心部と周辺部の膜厚の差を小さくするこ
とができ、その後の現像丁程において適正な現像時間を
設定することが容易となるものである。
第１図は、本発明に使用可能なレジスト塗布装置の概略
図、第２図は実施例および比較例により塗布されたレジ
スト膜の暎厚と基板中心からの距ａｈの関係を示すグラ
フである。 １・・・レジスト液 ２・・・希釈剤溶液３・・・レジ
スト液供給ボンブ ４・・・希釈剤溶液供給ボンブ
図、第２図は実施例および比較例により塗布されたレジ
スト膜の暎厚と基板中心からの距ａｈの関係を示すグラ
フである。 １・・・レジスト液 ２・・・希釈剤溶液３・・・レジ
スト液供給ボンブ ４・・・希釈剤溶液供給ボンブ
Claims (1)
- スピンナーを用いたレジスト塗布において、塗布すべき
レジスト液の濃度を連続的に変化させつつ回転する基板
に供給することを特徴とするレジストの塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22832889A JPH0394872A (ja) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | レジスト塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22832889A JPH0394872A (ja) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | レジスト塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0394872A true JPH0394872A (ja) | 1991-04-19 |
Family
ID=16874733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22832889A Pending JPH0394872A (ja) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | レジスト塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0394872A (ja) |
-
1989
- 1989-09-05 JP JP22832889A patent/JPH0394872A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5324188A (en) | Roller stamper for molding a substrate sheet to become an information recording medium | |
| JPH08229499A (ja) | スピンコート方法 | |
| JPH0394872A (ja) | レジスト塗布方法 | |
| JP2980885B2 (ja) | 浅い条痕を有する磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| EP0078368B1 (en) | Spin coating apparatus and method | |
| JPS6115773A (ja) | 塗布装置 | |
| JP2545677B2 (ja) | フォトレジストの塗布方法 | |
| JP2681300B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板のテクスチャー加工方法 | |
| JPS6074624A (ja) | レジスト膜の形成方法 | |
| JPS63222327A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS6061923A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01264644A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
| JPS621547B2 (ja) | ||
| JPH0363944A (ja) | 光ディスク原盤用レジスト塗布装置 | |
| JPS6251030A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS6364631A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS5914890B2 (ja) | 回転塗布方法 | |
| JPH0312264A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3196259B2 (ja) | 光学ディスク用スタンパの研磨方法 | |
| JPS6342052A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPH0210517A (ja) | 磁界変調型デイスク | |
| JPH06150402A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPS614573A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH06124485A (ja) | 回転塗布方法 | |
| JPS6334733A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |