JPH0364064B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0364064B2 JPH0364064B2 JP9771584A JP9771584A JPH0364064B2 JP H0364064 B2 JPH0364064 B2 JP H0364064B2 JP 9771584 A JP9771584 A JP 9771584A JP 9771584 A JP9771584 A JP 9771584A JP H0364064 B2 JPH0364064 B2 JP H0364064B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phthalocyanine
- parts
- zinc oxide
- manufactured
- photoconductive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
- G03G5/047—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure characterised by the charge-generation layers or charge transport layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
〔発明の技術分野〕
本発明はフタロシアニン顔料および酸化亜鉛を
光導電体素子とする半導体レーザ露光用オフセツ
トマスターにおいて、フタロシアニン顔料−樹脂
分散層の上に、フタロシアニン顔料及び酸化亜鉛
−樹脂分散層を設けた半導体レーザ露光用オフセ
ツトマスターに関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
最近事務の合理化に伴ない、日本語ワードプロ
セツサが普及して来た。従来のタイプライタでは
一字一字紙の上に印字するが、ワードプロセツサ
で入力された文字はメモリーのなかに一度電気信
号として記録されるとともに、それを読み出して
ブラウン管に文字として表示される。
一方、ワードプロセツサのメモリー中へ記録し
ておいた電気信号から印刷版を作製するために
は、インキジエツト式、感熱記録式、ワイヤード
ツト式、電子写真式等によつて一度紙の上にハー
ドコピーとして出力し、それを原稿として酸化亜
鉛マスター紙に帯電、露光、定着することにより
版を作つていた。
しかしこの方法では、ハードコピーの出力と製
版の2工程を経るため手間と時間がかかり、また
このハードコピーから印刷版へ画像を複写するた
め印刷版中の画像の品質が落ちる欠点があつた。
またレーザ光により光導電性感光体上に直接像
露光して潜像を形成した後、現像、定着により版
を作る方法がある。この方法はアルゴン、ヘリウ
ムネオン、ヘリウムカドミウム、YAG、炭酸ガ
ス等のレーザが使用されるが必要とする出力を得
るためには、レーザ装置が大きく、また出力光量
に対し消費電力が大きい等の欠点がある。この点
半導体レーザはこれらのレーザと比べて超小形、
高能率、低電圧、低消費電力また駆動電流により
1GHzを超える高速変調ができ、ICなど周辺半導
体回路との整合性がよく、光導体特有の高い信頼
性がある、等の特徴がある。しかし、半導体レー
ザは出力光量が小さく、出力波長が実用化されて
いる半導体レーザのAlGaAsレーザ光では760〜
800nm又は830〜880nmとガスレーザ光と比べて
長波長となつている。これに感度を有する光導電
性感光体はCdS−Cu、Se−Te/Se、アモルフア
スSi、フタロシアニン感光体等があるが、オフセ
ツトマスター版として使用し、使用後捨てること
を考慮すると材料コストや衛生性の点でフタロシ
アニン以外は不適当である。
しかしフタロシアニン感光体として使用するフ
タロシアニン顔料は平均粒径が0.05μmと小さく、
低抵抗であるため感光体として使用するためには
分散樹脂成分比を多くしなくてはならず、フタロ
シアニン顔料単独で感光体を作製すると感光体の
表面は樹脂分が多く非常に平滑となるため水に対
する濡れ及び保持性が悪く、オフセツトマスター
版としては利用できなかつた。
オフセツトマスター版として具備しなければな
らない重要な性能の1つに親水性がある。光導電
層を設けた感光体にトナー画像を形成してオフセ
ツトマスター版とする場合、トナー画像部がイン
キ受容性となり、非画像部(光導電層表面)はイ
ンキ反発性、すなわち親水性で水を保持するよう
にならねばならない。従来のオフセツトマスター
版の代表的なものは、酸化亜鉛マスターであり、
光導電層中に酸化亜鉛微粉末が分散されたもので
あり、酸化亜鉛の平均粒径は0.3μmとフタロシア
ニン顔料に比べて一桁大きい。酸化亜鉛微粉末
は、フエリシアン化塩、フエロシアン化塩及びリ
ン酸塩を主成分とする、いわゆるエツチ液により
親水化処理できる。しかし、市販の酸化亜鉛マス
ターは可視光にしか感度を有していない。
〔発明の目的〕
本発明は以上の事情に着目してなされたもの
で、その目的とするところは、受容電位、暗減
衰、半導体レーザ感度などの電子写真特性と親水
化処理特性(エツチ処理特性)の良好なフタロシ
アニン系の半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーの提供にある。
〔問題点の解決までの経過〕
本発明者らは、フタロシアニン系の半導体レー
ザ露光用オフセツトマスターの開発をめざし、半
導体レーザに感度を有するフタロシアニン顔料と
親水化処理のための酸化亜鉛微粉末及び結着剤と
しての誘電性樹脂を組み合わせることを考えた。
まず、予備実験として、親水化処理に必要な酸
化亜鉛微粉末の含有量を求めることから始めた。
一般的な理論では、エツチ液によるエツチング処
理により、酸化亜鉛はエツチ液中のフエロシアン
化塩又はフエリシアン化塩と反応して親水性且つ
不溶性塩を生じ、不感脂化される。
酸化亜鉛微粉末として堺化学社製の
SAZEX2000、結着剤樹脂として日本触媒化学工
業社製のアクリル樹脂Arotap3211を使用し、溶
剤にメチルエチルケトンを使い、ガラスビーズを
入れたペイントシエーカーによつて分散塗液を作
つた。分散塗液は酸化亜鉛と結着剤樹脂の比率を
変えたものを作り、それぞれ、東レ社製のポリエ
ステルフイルム(厚さ150μm)に15μm程度の膜
厚にワイヤーバーで塗布した。その塗布したフイ
ルムをそれぞれ、リヨービ社製の市販標準エツチ
液を入れたAM Multigraphics社製のエツチング
マシンMaster Converter124に2回通した後、リ
ヨービ社製の小型オフセツト印刷機2800CDで印
刷テストを行つた。インキはVanson1980を使用
した。その結果を表1に示す。〇印は給紙した白
紙が印刷後も印刷前と同じ白さ(地カブリのない
状態)であつたもので、△印は少し汚れがあつた
もの、×印は非常に汚れたものを示す。
[Technical Field of the Invention] The present invention relates to an offset master for semiconductor laser exposure using a phthalocyanine pigment and zinc oxide as a photoconductor element. This invention relates to an offset master for semiconductor laser exposure. [Technical background of the invention and its problems] Recently, with the rationalization of office work, Japanese word processors have become popular. Conventional typewriters print each character on paper, but characters entered with a word processor are recorded as electrical signals in memory, and then read out and displayed as characters on a cathode ray tube. On the other hand, in order to create a printing plate from electrical signals recorded in the memory of a word processor, it is necessary to first print them onto paper using an inkjet method, thermal recording method, wire dot method, electrophotographic method, etc. This was output as a copy, and used as a manuscript to create a plate by charging, exposing, and fixing it onto zinc oxide master paper. However, this method requires a lot of effort and time because it involves two steps: outputting a hard copy and making a plate.Also, since the image is copied from the hard copy to the printing plate, the quality of the image on the printing plate deteriorates. Another method is to form a plate by directly exposing a photoconductive photoreceptor to a laser beam to form a latent image, followed by development and fixing. This method uses lasers such as argon, helium neon, helium cadmium, YAG, carbon dioxide, etc., but in order to obtain the required output, the laser equipment is large and the power consumption is large relative to the output light amount. There is. In this respect, semiconductor lasers are ultra-small compared to these lasers.
High efficiency, low voltage, low power consumption and drive current
Features include high-speed modulation exceeding 1 GHz, good compatibility with peripheral semiconductor circuits such as ICs, and high reliability unique to optical conductors. However, the output light intensity of semiconductor lasers is small, and the output wavelength of AlGaAs laser light, which is a commercially available semiconductor laser, is 760 ~
It has a longer wavelength of 800 nm or 830 to 880 nm compared to gas laser light. Photoconductive photoreceptors that are sensitive to this include CdS-Cu, Se-Te/Se, amorphous Si, and phthalocyanine photoreceptors, but considering that they are used as offset master plates and discarded after use, the material cost is low. In terms of hygiene, materials other than phthalocyanine are inappropriate. However, the phthalocyanine pigment used as a phthalocyanine photoreceptor has a small average particle size of 0.05 μm.
Due to its low resistance, in order to use it as a photoreceptor, it is necessary to increase the ratio of dispersed resin components, and if a photoreceptor is made from phthalocyanine pigment alone, the surface of the photoreceptor will be extremely smooth due to the large amount of resin. It could not be used as an offset master plate because of its poor wettability and water retention properties. One of the important properties that an offset master plate must have is hydrophilicity. When a toner image is formed on a photoreceptor provided with a photoconductive layer to form an offset master plate, the toner image area becomes ink receptive, and the non-image area (photoconductive layer surface) has ink repellency, that is, hydrophilicity. It must be able to hold water. A typical conventional offset master version is zinc oxide master.
Zinc oxide fine powder is dispersed in the photoconductive layer, and the average particle size of zinc oxide is 0.3 μm, which is an order of magnitude larger than that of phthalocyanine pigments. Zinc oxide fine powder can be made hydrophilic using a so-called etchant containing ferricyanide salt, ferrocyanide salt, and phosphate as main components. However, commercially available zinc oxide masters are sensitive only to visible light. [Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to improve electrophotographic properties such as acceptance potential, dark decay, and semiconductor laser sensitivity, and hydrophilization processing properties (etch processing properties). ) An object of the present invention is to provide a good phthalocyanine-based offset master for semiconductor laser exposure. [Progress until the problem was solved] Aiming to develop a phthalocyanine-based offset master for semiconductor laser exposure, the present inventors developed a phthalocyanine pigment that is sensitive to semiconductor lasers, a zinc oxide fine powder for hydrophilic treatment, and We considered combining dielectric resin as a binder. First, as a preliminary experiment, we started by determining the content of zinc oxide fine powder necessary for hydrophilic treatment.
The general theory is that during etching with an etchant, zinc oxide reacts with the ferrocyanide salt or ferricyanide salt in the etchant to form a hydrophilic and insoluble salt, resulting in desensitization. Manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd. as zinc oxide fine powder.
Using SAZEX 2000, acrylic resin Arotap 3211 manufactured by Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co., Ltd. as a binder resin, and methyl ethyl ketone as a solvent, a dispersion coating liquid was prepared using a paint sheaker containing glass beads. Dispersion coating solutions were prepared with varying ratios of zinc oxide and binder resin, and each was applied to a polyester film (thickness 150 μm) manufactured by Toray Industries, Inc. using a wire bar to a film thickness of approximately 15 μm. Each coated film was passed twice through an AM Multigraphics Master Converter 124 etching machine containing a standard Ryobi etchant and then printed on a Ryobi 2800CD compact offset printer. Vanson 1980 ink was used. The results are shown in Table 1. 〇 indicates that the fed blank paper was the same whiteness after printing as before printing (no background fog), △ indicates that it was slightly dirty, and × indicates that it was very dirty. .
【表】
エツチ液により完全に親水化が行われたならば
水がZnO−樹脂層上に保持され、インキは付着し
ないはずである。
同様な実験を、結着剤樹脂の種類を変え、三菱
レーヨン社製のアクリル樹脂タイヤナール#009、
東洋紡社製のポリエステル樹脂バイロン#200、
シエル石油化学社製のエポキシ樹脂エピコート
#1004についても行つたが、若干の相違はみられ
るものの、ほとんど表1の結果と同じであつた。
従つて、親水化については、結着剤樹脂の種類に
よる影響は無視でき、親水化を支配するのは、単
純に酸化亜鉛の含有量であると結論づけてよい。
表1より、酸化亜鉛の含有量が70重量%以上で良
好な親水性が得られることがわかる。
次に、フタロシアニン顔料としては、東洋イン
キ製造社製のε型銅フタロシアニンLionol Blue
ERを選び、上述と同様な方法によつて酸化亜鉛
及び結着剤樹脂と混合分散し、同様にポリエステ
ルフイルム(厚さ150μm)に塗布し、その親水化
の実験を行つた。フタロシアニン顔料は結着剤樹
脂(日本触媒化学工業社製のアクリル樹脂
Arotap3211)に対して常に30重量%になるよう
に入れ、酸化亜鉛の比率を変化させた。評価方法
は上述と同様である。その結果を表2に示す。
表2より、酸化亜鉛の含有量が60重量%以上で
良好な親水性が得られることがわかる。表1と比
較して、酸化亜鉛の含有量が5〜10重量%少なく
ても良好な親水性が得られるという事は、親水化
を最も阻害しているのが結着剤樹脂であることを
示している。[Table] If the etchant had completely made it hydrophilic, water would be retained on the ZnO-resin layer and ink would not adhere. A similar experiment was carried out using acrylic resin tire knurl #009 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., with different types of binder resin.
Polyester resin Vylon #200 manufactured by Toyobo Co., Ltd.
The test was also carried out using the epoxy resin Epicoat #1004 manufactured by Shell Petrochemical Co., Ltd., and although there were some differences, the results were almost the same as those shown in Table 1.
Therefore, it can be concluded that the effect of the type of binder resin on hydrophilization can be ignored, and that it is simply the zinc oxide content that controls hydrophilization.
Table 1 shows that good hydrophilicity can be obtained when the zinc oxide content is 70% by weight or more. Next, as a phthalocyanine pigment, ε-type copper phthalocyanine Lionol Blue manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.
ER was selected, mixed and dispersed with zinc oxide and a binder resin in the same manner as described above, and similarly applied to a polyester film (thickness: 150 μm) to conduct an experiment to make it hydrophilic. The phthalocyanine pigment is a binder resin (acrylic resin manufactured by Nippon Shokubai Chemical Co., Ltd.).
Arotap 3211) was always added at 30% by weight, and the ratio of zinc oxide was varied. The evaluation method is the same as described above. The results are shown in Table 2. Table 2 shows that good hydrophilicity can be obtained when the zinc oxide content is 60% by weight or more. Compared to Table 1, the fact that good hydrophilicity can be obtained even when the content of zinc oxide is 5 to 10% less by weight indicates that it is the binder resin that is most inhibiting hydrophilicity. It shows.
以下、図面により、詳細に説明すれば、本発明
の半導体レーザ露光用オフセツトマスターは、第
1図に示すように、導電性支持体1上に、フタロ
シアニン顔料−結着剤樹脂から成る第1光導電層
2を設け、更にこの第1光導電層2上に、フタロ
シアニン顔料及び60〜85重量%の酸化亜鉛を結着
剤樹脂中に分散した第2光導電層3を設けたもの
である。
本発明の第1光導電層2と第2光導電層3にお
いて使用するフタロシアニン顔料は同一のもので
も異なる種類のものでもよく、また、2種以上の
フタロシアニン顔料を混合したものでもよく、そ
のフタロシアニン顔料としては、無金属フタロシ
アニン顔料および各種金属フタロシアニン顔料が
あり、各種結晶形のものが用いられる。金属フタ
ロシアニン顔料としては、銅フタロシアニン、錫
フタロシアニン、アルミニウムフタロシアニン、
ニツケルフタロシアニン、コバルトフタロシアニ
ン、亜鉛フタロシアニン、バナジルフタロシアニ
ンなどを例示することができるが、ε型銅フタロ
シアニンなどのように赤外線領域で感度を有する
ものを選択することが好ましい。
また、ニトロ基などの電子吸引性基を有するフ
タロシアニン誘導体をアシツドペーステイング処
理したフタロシアニン誘導体を用いると、TNF
などの増感剤を使用しなくとも実用上十分の感度
が得られる。電子吸引性基を有するフタロシアニ
ンとしては、無金属もしくは各種金属フタロシア
ニンの分子中のベンゼン核にハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、スルホン基、カルボキシル基、
スルホアミド基、カルボアミド基などの電子吸引
性基によつて置換されたものである。このフタロ
シアニン誘導体はフタロシアニン合成時に、フタ
ロシアニンの原料となるフタロニトリル、フタル
酸、無水フタル酸、フタルイミドとして、上記置
換基で置換されたフタロニトリル、フタル酸、無
水フタル酸、フタルイミドを用いること、もしく
は一部用することによつて、得られる。フタロシ
アニン誘導体の製法としては特に制限されない。
また、フタロシアニン誘導体1分子における置換
基の数としては1〜16個である。
上記、電子吸引性基を有するフタロシアニン
は、必要に応じて他の電子吸引性基を有しないフ
タロシアニンと共にアシツドペーステイング処理
し、フタロシアニン誘導体を得る。ここでアシツ
ドペーステイング処理とは、上記電子吸引性基を
有するフタロシアニンあるいは他のフタロシアニ
ンを硫酸、オルト硫酸、ピロリン酸、クロロスル
ホン酸、塩酸、ヨウ化水素酸、フツ化水素酸、臭
化水素酸等の無機酸によつて塩を形成せしめ、有
機顔料業界で公知のように水中に投入し、沈殿し
たフタロシアニン誘導体を濾過、水洗、乾燥する
処理法であり、α型結晶形を有するものが得られ
る。このフタロシアニン誘導体は他のフタロシア
ニンと混合して使用することができ、組成の選択
によつて所望の感度のものが得られる。
第1光導電層2と第2光導電層3の結着剤樹脂
は同一のものでも異なる種類のものでもよく、ま
た、2種以上の結着剤を混合したものでもよく、
結着剤樹脂としてはメラミン樹脂、ブチラール樹
脂、エポキシ樹脂、ケイ素樹脂、ポリウレタン樹
脂、アクリル樹脂、キシレン樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹
脂、繊維素誘導体などの体積固有抵抗が107Ωcm
以上の絶縁性を有する公知のものが用いられる。
また、溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノールなどのアルコール、酢酸エチル、メチ
ルセロソルブなどのエステル、四塩化炭素、クロ
ロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン化炭化
水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル、およびジメチルホルムアミド、、ジメ
チルスルオキシドなどが用いられる。
本発明の半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーは導電性支持体上に光導電層が形成されたもの
であり、導電性支持体としては、アルミニウム、
ニツケルなどの金属板、アルミニウム、ニツケル
などの金属を紙またはプラスチツクフイルムなど
の上に真空蒸着させたもの、アルミニウムなどの
金属箔と紙あるいはプラスチツクフイルムを貼り
合わせたもの、カーボン混抄紙、有機あるいは無
機の導電処理剤で処理した低抵抗紙などを用いる
ことができる。
〔発明の効果〕
本発明の半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーは、その光導電層を前述の如き構成の2層にし
てあるので、受容電位、暗減衰、半導体レーザ感
度などの電子写真特性が良好で、かつ親水化処理
特性(エツチ処理特性)も良好であり、延いては
良好な印刷物が多数作成できるものである。
〔実施例〕
以下、例をあげて本発明を更に説明する。例中
「部」とは重量部を示す。
実施例 1
銅フタロシアニン40部、テトラシアノコバルト
フタロシアニン0.5部を氷酢酸200部に分散させ、
撹拌しながら10部の98%硫酸を滴下し、10時間撹
拌したのに、固形物を濾別し、さらにアンモニア
ガスを通じフタロシアニン系組成物を析出した
後、水洗し、減圧下120℃で乾燥した。この様に
して得られた組成物〔〕を下記の処方に基づき
混合した。
組成物〔〕 3部
ε型銅フタロシアニン(東洋インキ製造社製
Lionol Blue ER) 2部
分岐ポリエステルポリオール(日本ポリウレタ
ン工業社製デスモフエン#800固形分75重量%)
9部
セルソルブアセート 77部
以上のような組成物を磁性ボールミルにて24時
間常温で練肉後、イソシアネート(日本ポリウレ
タン工業社製コロネートL固形分75重量%)を9
部加え混合した混合液をバーコーターを用いて、
アルミニウムを蒸着させたポリエステルフイルム
(東レ社製メタルミー)上に10μmの厚さに塗布
し、120℃に均一に加熱されたオーブン中に30分
間置き乾燥硬化させ電荷移動層を形成した。
次に、銅フタロシアニン40部、テトラニトロ銅
フタロシアニン0.5部を98%濃硫酸500部に十分撹
拌しながら溶解した。溶解した液を水5000部にあ
け、銅フタロシアニン、テトラニトロ銅フタロシ
アニンの組成物を析出させた後、濾過、水洗し、
減圧下120℃で乾燥した。
このようにして得られた組成物50部とε型銅フ
タロシアニン(東洋インキ製造社製Lionol Blue
ER)100部とをメタノール5000部中に分散させ均
一混合分散液とした。その後、濾過し、減圧下
120℃で乾燥し混合物〔〕とし、下記処方に基
き、光導電性組成物を作成した。
混合物〔〕 8部
アクリルポリオール(武田薬品工業社製タケラ
ツクUA−702固形分50重量%) 9部
エポキシ樹脂(シエル化学社製エピコート
#1007固形分70重量%) 5部
メチルエチルケトン 20部
セルソルブアセテート 20部
以上の組成物を磁製ボールミルにて48時間練肉
後、酸化亜鉛(堺化学工業社製SAZEX#2000)
38部を添加し、さらに10時間練肉し、光導電性組
成物を得た。
この光導電性組成物を、前記の電荷移動層上に
乾燥膜厚が5μmになるように、バーコーターで塗
布し、130℃で30分間乾燥して電子写真感光体を
得た。こうして得られた電子写真感光体の上層の
光導電層中の酸化亜鉛の比率は70重量%であり、
これに対して、+6.0kV、コロナギヤツプ10mm、
10m/minの帯電スピードでコロナ放電を与え、
放電停止後5秒後に分光機(日本光学社製G250)
で分光された800nmの波長の光(2μW/cm2)で露
光した。この時の露光直前の電位が50%低下する
のに要した光の照射量を感度とした。測定は静電
複写紙試験装置(川口電機社製SP428)で行つ
た。このようにして測定したサンプルの感度は
2.3μJ/cm2であり、半導体レーザ光の波長及び光
強度に対して十分な感度の値を示した。
次に、上記感光体を使用した画像形成方法につ
いて述べる。その装置として、キヤノン社製半導
体レーザビームプリンターLBP−10の改造を次
のように行なつた。まず入力側にフロツピーデイ
スクリーダならびにインターフエース回路を取り
つけ、キイボードより入力されフロツピーデイス
クに蓄えられた文字等の電気信号の読み出しを行
い、LBP−10への入力を可能とした。また、感
光ドラムをアルミニウムドラムに交換すると共
に、ドラムに溝を作り、そこに2ケ所のフツクを
つけ、感光体をドラムの周囲に巻き、前後をフツ
クで固定できるようにし、また、プラス帯電装置
のみが機能するようにした。
上記装置を使い、現像器に岩崎通信機社製の全
自動電子複写製版機エレフアクスPM−40の現像
液(オフセツト印刷用のポジトナー)を入れ、感
光体をアルミニウムドラムにアースをとつて取り
付け、レーザプリンターを動作させ、プラス帯
電、半導体レーザ光による画像部露光、オフセツ
ト印刷用のプラス荷電の液体トナーによる反転現
像、温風乾燥による定着を行つたのち、アルミニ
ウムドラムより取りはずし、オフセツトマスター
版を作つた。
次に、市販のリヨービ社製エツチ液を入れた
AM Multigraphics社製のエツチングマシン
Master Converter124に2回通した後、リヨービ
社製の小型オフセツト印刷機2800CDで
Vanson1980インキを用いて印刷した(4000回
転/時)結果、3000枚以上の良好な印刷物が得ら
れた。
比較例 1
実施例1の感光体において、上層の光導電層中
の酸化亜鉛の比率を55重量%にした場合、電子写
真特性は良好であり、半導体レーザにより画像形
成ができたが、オフセツトマスター版として利用
したときに、実施例1と同様なエツチ液、エツチ
ングマシンで、10回通し以上が必要であつた。ま
た、エツチ回数が多いために印刷で印刷物の濃度
が上がらなかつた。
比較例 2
実施例1の感光体において、上層の光導電層中
の酸化亜鉛の比率を90重量%にした場合、電子写
真特性が悪くなるばかりでなく光導電層の被膜強
度が低下し、実用に供しないものとなつた。
比較例 3
実施例1の感光体において、下層の光導電層を
取り除き、上層の光導電層を15μm形成したもの
は、帯電能が低く、実用に供しないものであつ
た。
実施例 2
無金属フタロシアニン40部、モノニトロ銅フタ
ロシアニン1.5部を98%濃硫酸1000部に十分撹拌
しながら溶解した。溶解した液を水10000部に注
入し、フタロシアニン系組成物を析出した後、濾
過、水洗し、減圧下120℃で乾燥した。
この様にして得られた組成物()をε型銅フ
タロシアニン(東洋インキ製造社製Lionol Blue
ER)100部に対し、30部混合し、以下は実施例1
と同様な方法で混合物〔〕とし、下記処方に基
き、光導電性組成物を作成した。
混合物〔〕 15部
アクリル樹脂(東洋インキ製造社製T−
coatPEX−7120固形分30重量%) 30部
シリコン樹脂(信越化学社製KR211固形分70
重量%) 5部
メチルエチルケトン 30部
トルエン 20部
以上の組成物を磁製ボールミルにて48時間練肉
後、酸化亜鉛(実施例1と同じ)155部を添加し、
さらにメチルエチルケトンを加えて粘度を調製し
10時間練肉して得た光導電性組成物を実施例1と
同様の電荷移動層の上に、乾燥膜厚5μmとなるよ
うにバーコーターにより塗布し、120℃に均一加
熱されたオーブン中に30分間置き電子写真感光体
を得た。
こうして得られた感光体の上層の光導電層中の
酸化亜鉛の比率は85重量%であり、この電子写真
特性を実施例1と同様な方法で測定した結果、
800nmの波長での光感度は2.5μJ/cm2であつた。
この感光体を使つて、実施例1と同様な装置、材
料及び方法によつてオフセツトマスター版を作る
ことができた。さらに、このマスター版により、
実施例1と同様な方法で3000枚以上の良好なオフ
セツト印刷物を得ることができた。
実施例 3
ε型銅フタロシアニン(東洋インキ製造社製
Lionol Blue ER) 6部
ポリカーボネート樹脂(三菱瓦斯化学社製ユー
ピロンS−3000) 18部
ジクロルメタン 40部
1,2−ジクロルエタン 36部
以上の組成物をペイントシエーカーにて1時間
練肉し得られた光導電性塗料をバーコーターを用
いて、アルミニウムを蒸着させたポリエステルフ
イルム(東レ社製メタルミー)上に8μmの厚さに
塗布し、120℃に均一に加熱されたオーブン中に
5分間置き乾燥させ電荷移動層を形成した。
次に、以下の処方の光導電性組成物を製造し
た。
実施例1の組成物〔〕 8部
ブチラール樹脂(積水化学社製エスレツクB)
13部
エチルアルコール 47部
以上の組成物をペイントシエーカーにて1時間
練肉後、酸化亜鉛(堺化学工業社製SAZEX
#2000)32部を添加し、さらに30分間練肉し、光
導電性組成物を得た。
この光導電性組成物を、前記の電荷移動層の上
に乾燥膜厚が7μmになるように、バーコーターで
塗布し、80℃で5分間乾燥して電子写真感光体を
得た。
このようにして得られた感光体の上層の光導電
層中の酸化亜鉛の比率は60重量%であり、この電
子写真特性を実施例1と同様な方法で測定した結
果、800nmの波長での光感度は2.1μJ/cm2であつ
た。この感光体を使つて、実施例1と同様な装
置、材料及び方法によつてオフセツトマスター版
を作ることができた。さらに、このマスター版に
より、実施例1と同様な方法で3000枚以上の良好
なオフセツト印刷物を得ることができた。
Hereinafter, to explain in detail with reference to the drawings, the offset master for semiconductor laser exposure of the present invention, as shown in FIG. A photoconductive layer 2 is provided, and a second photoconductive layer 3 in which a phthalocyanine pigment and 60 to 85% by weight of zinc oxide are dispersed in a binder resin is further provided on the first photoconductive layer 2. . The phthalocyanine pigments used in the first photoconductive layer 2 and the second photoconductive layer 3 of the present invention may be the same or different types, or may be a mixture of two or more types of phthalocyanine pigments. Pigments include metal-free phthalocyanine pigments and various metal phthalocyanine pigments, and those in various crystal forms are used. Examples of metal phthalocyanine pigments include copper phthalocyanine, tin phthalocyanine, aluminum phthalocyanine,
Examples include nickel phthalocyanine, cobalt phthalocyanine, zinc phthalocyanine, and vanadyl phthalocyanine, but it is preferable to select one that is sensitive in the infrared region, such as ε-type copper phthalocyanine. In addition, when a phthalocyanine derivative having an electron-withdrawing group such as a nitro group is acid-pasted, TNF
Practically sufficient sensitivity can be obtained without using sensitizers such as sensitizers. Examples of phthalocyanine having an electron-withdrawing group include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a sulfone group, a carboxyl group,
It is substituted with an electron-withdrawing group such as a sulfamide group or a carboamide group. This phthalocyanine derivative can be obtained by using phthalonitrile, phthalic acid, phthalic anhydride, or phthalimide substituted with the above-mentioned substituents as the raw material for phthalocyanine during phthalocyanine synthesis; It can be obtained by using The method for producing the phthalocyanine derivative is not particularly limited.
Further, the number of substituents in one molecule of the phthalocyanine derivative is 1 to 16. The above-mentioned phthalocyanine having an electron-withdrawing group is subjected to acid pasting treatment with other phthalocyanine having no electron-withdrawing group, if necessary, to obtain a phthalocyanine derivative. Here, acid pasting treatment refers to phthalocyanine or other phthalocyanine having the above-mentioned electron-withdrawing group to This is a treatment method in which a salt is formed with an inorganic acid such as an acid, and the phthalocyanine derivative is poured into water as known in the organic pigment industry, and the precipitated phthalocyanine derivative is filtered, washed with water, and dried. can get. This phthalocyanine derivative can be used in combination with other phthalocyanines, and desired sensitivity can be obtained by selecting the composition. The binder resins of the first photoconductive layer 2 and the second photoconductive layer 3 may be the same or different types, or may be a mixture of two or more types of binders.
Binder resins include melamine resin, butyral resin, epoxy resin, silicone resin, polyurethane resin, acrylic resin, xylene resin, and vinyl chloride.
The volume resistivity of vinyl acetate copolymer resin, polycarbonate resin, cellulose derivatives, etc. is 10 7 Ωcm.
A known material having the above insulation properties is used.
Examples of solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, esters such as ethyl acetate, and methyl cellosolve, and tetrachloride. Carbon, halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and the like are used. The offset master for semiconductor laser exposure of the present invention has a photoconductive layer formed on a conductive support, and the conductive support may include aluminum,
Metal plates such as nickel, aluminum, metals such as nickel vacuum-deposited on paper or plastic film, materials made by laminating metal foil such as aluminum with paper or plastic film, carbon-containing paper, organic or inorganic Low-resistance paper treated with a conductive treatment agent can be used. [Effects of the Invention] Since the offset master for semiconductor laser exposure of the present invention has a two-layer photoconductive layer having the above-mentioned structure, it has good electrophotographic properties such as acceptance potential, dark decay, and semiconductor laser sensitivity. Moreover, the hydrophilic treatment properties (etching treatment properties) are also good, and as a result, a large number of good printed materials can be produced. [Example] The present invention will be further explained below by giving examples. In the examples, "parts" indicate parts by weight. Example 1 40 parts of copper phthalocyanine and 0.5 part of tetracyanocobalt phthalocyanine were dispersed in 200 parts of glacial acetic acid,
10 parts of 98% sulfuric acid was added dropwise with stirring, and the mixture was stirred for 10 hours. The solid matter was filtered off, and the phthalocyanine composition was precipitated through ammonia gas, washed with water, and dried at 120°C under reduced pressure. . The composition thus obtained was mixed according to the following recipe. Composition [] 3 parts ε-type copper phthalocyanine (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.)
Lionol Blue ER) Bipartite branched polyester polyol (Desmofene #800 manufactured by Nippon Polyurethane Industries, solid content 75% by weight)
9 parts Cellsolve acetate 77 parts The above composition was milled in a magnetic ball mill at room temperature for 24 hours, and then 9 parts of isocyanate (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Industries Co., Ltd. solid content 75% by weight) was added.
Using a bar coater, add and mix the mixed solution.
It was applied to a thickness of 10 μm on a polyester film (Metal Me, manufactured by Toray Industries, Inc.) on which aluminum had been vapor-deposited, and placed in an oven uniformly heated to 120° C. for 30 minutes to dry and harden to form a charge transfer layer. Next, 40 parts of copper phthalocyanine and 0.5 parts of tetranitrocopper phthalocyanine were dissolved in 500 parts of 98% concentrated sulfuric acid with thorough stirring. Pour the dissolved solution into 5000 parts of water to precipitate a composition of copper phthalocyanine and tetranitrocopper phthalocyanine, then filter and wash with water.
It was dried at 120°C under reduced pressure. 50 parts of the composition thus obtained and ε-type copper phthalocyanine (Lionol Blue manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.)
100 parts of ER) were dispersed in 5,000 parts of methanol to form a uniform mixed dispersion. Then filter and under reduced pressure
The mixture was dried at 120°C to form a mixture [], and a photoconductive composition was prepared based on the following formulation. Mixture [] 8 parts Acrylic polyol (Takerakku UA-702 manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. Solid content 50%) 9 parts Epoxy resin (Siel Chemical Co., Ltd. Epicoat #1007 Solid content 70%) 5 parts Methyl ethyl ketone 20 parts Cellsolve acetate 20 After kneading the above composition in a porcelain ball mill for 48 hours, zinc oxide (SAZEX#2000 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)
38 parts were added and kneaded for further 10 hours to obtain a photoconductive composition. This photoconductive composition was coated on the charge transfer layer using a bar coater to a dry film thickness of 5 μm, and dried at 130° C. for 30 minutes to obtain an electrophotographic photoreceptor. The ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor thus obtained was 70% by weight,
On the other hand, +6.0kV, corona gap 10mm,
Corona discharge is applied at a charging speed of 10 m/min.
Spectrometer (G250 manufactured by Nippon Kogaku Co., Ltd.) 5 seconds after the discharge stops
It was exposed to light (2 μW/cm 2 ) with a wavelength of 800 nm. The amount of light irradiation required for the potential immediately before exposure to decrease by 50% at this time was defined as the sensitivity. The measurement was performed using an electrostatic copying paper testing device (SP428 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). The sensitivity of the sample measured in this way is
The sensitivity was 2.3 μJ/cm 2 and showed sufficient sensitivity to the wavelength and light intensity of the semiconductor laser light. Next, an image forming method using the above photoreceptor will be described. As the device, a semiconductor laser beam printer LBP-10 manufactured by Canon Inc. was modified as follows. First, a floppy disk reader and interface circuit were installed on the input side to read out electrical signals such as characters input from the keyboard and stored on the floppy disk, making it possible to input them to the LBP-10. In addition, we replaced the photosensitive drum with an aluminum drum, made a groove in the drum, attached two hooks there, wrapped the photosensitive drum around the drum, and fixed it with hooks at the front and back.We also installed a positive charging device. only worked. Using the above device, fill the developer with the developer (positive toner for offset printing) of the fully automatic electronic copying plate machine Elephax PM-40 manufactured by Iwasaki Tsushinki Co., Ltd., attach the photoreceptor to the aluminum drum with a ground connection, and use the laser. After operating the printer, performing positive charging, exposing the image area with semiconductor laser light, reversal development with positively charged liquid toner for offset printing, and fixing with hot air drying, it is removed from the aluminum drum and an offset master plate is created. Ivy. Next, I added commercially available Ryobi etching liquid.
Etching machine manufactured by AM Multigraphics
After passing through Master Converter 124 twice, it was printed on Ryobi's small offset printer 2800CD.
Printing using Vanson 1980 ink (4000 revolutions/hour) resulted in more than 3000 good prints. Comparative Example 1 In the photoreceptor of Example 1, when the ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer was set to 55% by weight, the electrophotographic properties were good and images could be formed using a semiconductor laser, but offset When used as a master plate, it was necessary to pass it through at least 10 times using the same etching liquid and etching machine as in Example 1. Also, because the number of etchings was large, the density of the printed matter could not be increased during printing. Comparative Example 2 In the photoreceptor of Example 1, when the ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer was set to 90% by weight, not only the electrophotographic properties deteriorated but also the film strength of the photoconductive layer decreased, making it impractical for practical use. It became unusable. Comparative Example 3 The photoreceptor of Example 1 in which the lower photoconductive layer was removed and an upper photoconductive layer having a thickness of 15 μm was formed had a low charging ability and could not be put to practical use. Example 2 40 parts of metal-free phthalocyanine and 1.5 parts of mononitro copper phthalocyanine were dissolved in 1000 parts of 98% concentrated sulfuric acid with thorough stirring. The dissolved liquid was poured into 10,000 parts of water to precipitate the phthalocyanine composition, which was then filtered, washed with water, and dried at 120°C under reduced pressure. The composition () obtained in this way was mixed with ε-type copper phthalocyanine (Lionol Blue manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.).
Mix 30 parts to 100 parts of ER), and the following is Example 1
A mixture [] was prepared in the same manner as above, and a photoconductive composition was prepared based on the following formulation. Mixture [] 15 parts Acrylic resin (T- manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.)
coatPEX-7120 solid content 30% by weight) 30 parts silicone resin (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KR211 solid content 70%)
Weight%) 5 parts Methyl ethyl ketone 30 parts Toluene 20 parts The above composition was milled in a porcelain ball mill for 48 hours, and 155 parts of zinc oxide (same as in Example 1) was added.
Furthermore, methyl ethyl ketone was added to adjust the viscosity.
The photoconductive composition obtained by kneading for 10 hours was coated on the same charge transfer layer as in Example 1 using a bar coater so that the dry film thickness was 5 μm, and the mixture was placed in an oven uniformly heated to 120°C. for 30 minutes to obtain an electrophotographic photoreceptor. The ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer of the photoreceptor thus obtained was 85% by weight, and the electrophotographic properties were measured in the same manner as in Example 1.
The photosensitivity at a wavelength of 800 nm was 2.5 μJ/cm 2 .
Using this photoreceptor, an offset master plate could be made using the same equipment, materials, and method as in Example 1. Furthermore, with this master version,
Using the same method as in Example 1, more than 3,000 good offset prints could be obtained. Example 3 ε-type copper phthalocyanine (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.)
Lionol Blue ER) 6 parts Polycarbonate resin (Iupilon S-3000 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 18 parts Dichloromethane 40 parts 1,2-dichloroethane 36 parts Light obtained by kneading the above composition in a paint shaker for 1 hour Using a bar coater, apply conductive paint to a thickness of 8 μm on a polyester film (Metal Me, manufactured by Toray Industries, Inc.) on which aluminum has been deposited, and place it in an oven uniformly heated to 120°C for 5 minutes to dry and charge. A moving layer was formed. Next, a photoconductive composition having the following formulation was manufactured. Composition of Example 1 [] 8 parts butyral resin (Eslec B manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
13 parts ethyl alcohol 47 parts The above composition was kneaded for 1 hour in a paint shaker, then zinc oxide (SAZEX manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)
#2000) was added and kneaded for further 30 minutes to obtain a photoconductive composition. This photoconductive composition was coated onto the charge transfer layer using a bar coater to a dry film thickness of 7 μm, and dried at 80° C. for 5 minutes to obtain an electrophotographic photoreceptor. The ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer of the photoreceptor thus obtained was 60% by weight, and its electrophotographic properties were measured in the same manner as in Example 1. The light sensitivity was 2.1 μJ/cm 2 . Using this photoreceptor, an offset master plate could be made using the same equipment, materials, and method as in Example 1. Furthermore, using this master plate, it was possible to obtain more than 3,000 good offset prints in the same manner as in Example 1.
第1図は本発明の半導体レーザ露光用オフセツ
トマスターの構成説明図である。
1……導電性支持体、2……第1光導電層、3
……第2光導電層。
FIG. 1 is an explanatory diagram of the structure of an offset master for semiconductor laser exposure according to the present invention. 1... Conductive support, 2... First photoconductive layer, 3
...Second photoconductive layer.
Claims (1)
素子とする半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーにおいて、下層にフタロシアニン顔料を結着剤
樹脂中に分散した第1光導電層、上層にフタロシ
アニン顔料及び酸化亜鉛を結着剤樹脂中に分散し
た第2光導電層を設け、該第2光導電層の酸化亜
鉛の比率が60〜85重量パーセントであることを特
徴とする半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ー。1 In an offset master for semiconductor laser exposure using a phthalocyanine pigment and zinc oxide as a photoconductor element, the first photoconductive layer has a phthalocyanine pigment dispersed in a binder resin as the lower layer, and the phthalocyanine pigment and zinc oxide are bound as the upper layer. 1. An offset master for semiconductor laser exposure, comprising a second photoconductive layer dispersed in an adhesive resin, wherein the ratio of zinc oxide in the second photoconductive layer is 60 to 85 percent by weight.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9771584A JPS60241059A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | Offset master for exposure of semiconductor laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9771584A JPS60241059A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | Offset master for exposure of semiconductor laser |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60241059A JPS60241059A (en) | 1985-11-29 |
| JPH0364064B2 true JPH0364064B2 (en) | 1991-10-03 |
Family
ID=14199583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9771584A Granted JPS60241059A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | Offset master for exposure of semiconductor laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60241059A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62111257A (en) * | 1985-07-02 | 1987-05-22 | Dainippon Ink & Chem Inc | Electrophotographic sensitive body |
| EP0737722B1 (en) * | 1995-04-14 | 2001-07-04 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | New indoaniline metal complex, process for their production, and transparent recording medium and optical recording medium by use thereof |
-
1984
- 1984-05-16 JP JP9771584A patent/JPS60241059A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60241059A (en) | 1985-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2813812B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and method of manufacturing the same | |
| US3816117A (en) | Multilayer electrophotographic element containing high contrast and opaque barrier layers | |
| JPH0364064B2 (en) | ||
| JP3146547B2 (en) | Method for producing phthalocyanine-based photoconductive composition | |
| JP3876958B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, manufacturing method thereof, and electrophotographic apparatus | |
| JPS63226668A (en) | Electrophotographic printing plate | |
| JPH0364065B2 (en) | ||
| JPH0365546B2 (en) | ||
| JP2922219B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor | |
| JPH0546544B2 (en) | ||
| EP0081363B1 (en) | A persistent photoconductive element | |
| JPH0546542B2 (en) | ||
| JP3144881B2 (en) | Method for producing phthalocyanine-based composition | |
| JPH0416782B2 (en) | ||
| JPS59116760A (en) | Manufacture of lithographic plate | |
| JP2813813B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor | |
| JPS61273994A (en) | Plate material for planographic printing plate | |
| JP2704657B2 (en) | Photoconductor | |
| JP2813811B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor | |
| JPH0261737B2 (en) | ||
| JP2813810B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor | |
| JPH0548465B2 (en) | ||
| JP2570365B2 (en) | Lithographic printing plate manufacturing method | |
| JPH0546543B2 (en) | ||
| JP3150388B2 (en) | Phthalocyanine-based photoconductive composition |