JPH0364065B2 - - Google Patents
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- JPH0364065B2 JPH0364065B2 JP9771684A JP9771684A JPH0364065B2 JP H0364065 B2 JPH0364065 B2 JP H0364065B2 JP 9771684 A JP9771684 A JP 9771684A JP 9771684 A JP9771684 A JP 9771684A JP H0364065 B2 JPH0364065 B2 JP H0364065B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
〔発明の技術分野〕
本発明は酸化亜鉛の比率が10〜50重量%のフタ
ロシアニン顔料及び酸化亜鉛を光導電体素子とす
る光導電層の上に、酸化亜鉛の比率が60〜85重量
%のフタロシアニン顔料及び酸化亜鉛を光導体素
子とする光導電層を設けた半導体レーザ露光用オ
フセツトマスターに関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
最近事務の合理化に伴ない、日本語ワードプロ
セツサが普及して来た。従来のタイプライタでは
一字一字紙の上に印字するが、ワードプロセツサ
で入力された文字はメモリーのなかに一度電気信
号として記録されるとともに、それを読み出して
ブラウン管に文字として表示される。
一方、ワードプロセツサのメモリー中へ記録し
ておいた電気信号から印刷版を作製するために
は、インキジエツト式、感熱記録式、ワイヤード
ツト式、電子写真式等によつて一度紙の上にハー
ドコピーとして出力し、それを原稿として酸化亜
鉛マスター紙に帯電、露光、定着することにより
版を作つていた。
しかしこの方法では、ハードコピーの出力と製
版の2工程を経るため手間と時間がかかり、また
このハードコピーから印刷版へ画像を複写するた
め印刷版中の画像の品質が落ちる欠点があつた。
またレーザ光により光導電性感光体上に直接像
露光して潜像を形成した後、現像、定着により版
を作る方法がある。この方法はアルゴン、ヘリウ
ムネオン、ヘリウムカドミウム、YAG、炭酸ガ
ス等のレーザが使用されるが必要とする出力を得
るためには、レーザ装置が大きく、また出力光量
に対し消費電力が大きい等の欠点がある。この点
半導体レーザはこれらのレーザと比べて超小形、
高能率、低電圧、低消費電力また駆動電流により
1GHzを超える高速変調ができ、ICなど周辺半導
体回路との整合性がよく、光導体特有の高い信頼
性がある、等の特徴がある。しかし、半導体レー
ザは出力光量が小さく、出力波長が実用化されて
いる半導体レーザのAlGaAsレーザ光では760〜
800nm又は830〜880nmとガスレーザ光と比べて
長波長となつている。これに感度を有する光導電
性感光体はCdS−Cu、Se−Te/Se、アモルフア
スSi、フタロシアニン感光体等があるが、オフセ
ツトマスター版として使用し、使用後捨てること
を考慮すると材料コストや衛生性の点でフタロシ
アニン以外は不適当である。
しかしフタロシアニン感光体として使用するフ
タロシアニン顔料は平均粒径が0.05μmと小さく、
低抵抗であるため感光体として使用するためには
分散樹脂成分比を多くしなくてはならず、フタロ
シアニン顔料単独で感光体を作製すると感光体の
表面は樹脂分が多く非常に平滑となるため水に対
する濡れ及び保持性が悪く、オフセツトマスター
版としては利用できなかつた。
オフセツトマスター版として具備しなければな
らない重要な性能の1つに親水性がある。光導電
層を設けた感光体にトナー画像を形成してオフセ
ツトマスター版とする場合、トナー画像部がイン
キ受容性となり、非画像部(光導電層表面)はイ
ンキ反発性、すなわち親水性で水を保持するよう
にならねばならない。従来のオフセツトマスター
版の代表的なものは、酸化亜鉛マスターであり、
光導電層中に酸化亜鉛微粉末が分散されたもので
あり、酸化亜鉛の平均粒径は0.3μmとフタロシア
ニン顔料に比べて一桁大きい。酸化亜鉛微粉末
は、フエリシアン化塩、フエロシアン化塩及びリ
ン酸塩を主成分とする、いわゆるエツチ液により
親水化処理できる。しかし、市販の酸化亜鉛マス
ターは可視光にしか感度を有していない。
〔発明の目的〕
本発明は以上の事情に着目してなされたもの
で、その目的とするところは、受容電位、暗減
衰、半導体レーザ感度などの電子写真特性と親水
化処理特性(エツチ処理特性)の良好なフタロシ
アニン系の半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーの提供にある。
〔問題点解決までの経過〕
本発明者らは、半導体レーザ露光用オフセツト
マスターの開発をめざし、半導体レーザに感度を
有するフタロシアニン顔料と親水化処理のための
酸化亜鉛微粉末及び結着剤としての誘電性樹脂を
組み合わせることを考えた。
まず、予備実験として、親水化処理に必要な酸
化亜鉛微粉末の含有量を求めることから始めた。
一般的な理論では、エツチ液によるエツチング処
理により、酸化亜鉛はエツチ液中のフエロシアン
化塩又はフエリシアン化塩と反応して親水性且つ
不溶性塩を生じ、不感脂化される。
酸化亜鉛微粉末として、堺化学社製の
SAZEX2000、結着剤樹脂として日本触媒化学工
業社製のアクリル樹脂Arotap3211を使用し、溶
剤にメチルエチルケトンを使い、ガラスビーズを
入れたペイントシエーカーによつて分散塗液を作
つた。分散塗液は酸化亜鉛と結着剤樹脂の比率を
変えたものを作り、それぞれ、東レ社製のポリエ
ステルフイルム(厚さ150μm)に15μm程度の膜
厚にワイヤーバーで塗布した。その塗布したフイ
ルムをそれぞれ、リヨービ社製の市販標準エツチ
液を入れたAM Multigraphics社製のエツチング
マシンMaster Converter124に2回通した後、リ
ヨービ社製の小型オフセツト印刷機2800CDで印
刷テストを行つた。インキはVanson1980を使用
した。その結果を表1に示す。〇印は給紙した白
紙が印刷後も印刷前と同じ白さ(地カブリのない
状態)であつたもので、△印は少し汚れがあつた
もの、×印は非常に汚れたものを示す。
[Technical Field of the Invention] The present invention provides a photoconductive layer containing a phthalocyanine pigment containing 10 to 50% by weight of zinc oxide and a photoconductive layer containing zinc oxide as a photoconductor element. The present invention relates to an offset master for semiconductor laser exposure provided with a photoconductive layer containing a phthalocyanine pigment and zinc oxide as photoconductor elements. [Technical background of the invention and its problems] Recently, with the rationalization of office work, Japanese word processors have become popular. Conventional typewriters print each character on paper, but characters entered with a word processor are recorded as electrical signals in memory, and then read out and displayed as characters on a cathode ray tube. On the other hand, in order to create a printing plate from electrical signals recorded in the memory of a word processor, it is necessary to first print them onto paper using an inkjet method, thermal recording method, wire dot method, electrophotographic method, etc. This was output as a copy, and used as a manuscript to create a plate by charging, exposing, and fixing it onto zinc oxide master paper. However, this method requires a lot of effort and time because it involves two steps: outputting a hard copy and making a plate.Also, since the image is copied from the hard copy to the printing plate, the quality of the image on the printing plate deteriorates. Another method is to form a plate by directly exposing a photoconductive photoreceptor to a laser beam to form a latent image, followed by development and fixing. This method uses lasers such as argon, helium neon, helium cadmium, YAG, carbon dioxide, etc., but in order to obtain the required output, the laser equipment is large and the power consumption is large relative to the output light amount. There is. In this respect, semiconductor lasers are ultra-small compared to these lasers.
High efficiency, low voltage, low power consumption and drive current
Features include high-speed modulation exceeding 1 GHz, good compatibility with peripheral semiconductor circuits such as ICs, and high reliability unique to optical conductors. However, the output light intensity of semiconductor lasers is small, and the output wavelength of AlGaAs laser light, which is a commercially available semiconductor laser, is 760 ~
It has a longer wavelength of 800 nm or 830 to 880 nm compared to gas laser light. Photoconductive photoreceptors that are sensitive to this include CdS-Cu, Se-Te/Se, amorphous Si, and phthalocyanine photoreceptors, but considering that they are used as offset master plates and discarded after use, the material cost is low. In terms of hygiene, materials other than phthalocyanine are inappropriate. However, the phthalocyanine pigment used as a phthalocyanine photoreceptor has a small average particle size of 0.05 μm.
Due to its low resistance, in order to use it as a photoreceptor, it is necessary to increase the ratio of dispersed resin components, and if a photoreceptor is made from phthalocyanine pigment alone, the surface of the photoreceptor will be extremely smooth due to the large amount of resin. It could not be used as an offset master plate because of its poor wettability and water retention properties. One of the important properties that an offset master plate must have is hydrophilicity. When a toner image is formed on a photoreceptor provided with a photoconductive layer to form an offset master plate, the toner image area becomes ink receptive, and the non-image area (photoconductive layer surface) has ink repellency, that is, hydrophilicity. It must be able to hold water. A typical conventional offset master version is zinc oxide master.
Zinc oxide fine powder is dispersed in the photoconductive layer, and the average particle size of zinc oxide is 0.3 μm, which is an order of magnitude larger than that of phthalocyanine pigments. Zinc oxide fine powder can be made hydrophilic using a so-called etchant containing ferricyanide salt, ferrocyanide salt, and phosphate as main components. However, commercially available zinc oxide masters are sensitive only to visible light. [Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to improve electrophotographic properties such as acceptance potential, dark decay, and semiconductor laser sensitivity, and hydrophilization processing properties (etch processing properties). ) An object of the present invention is to provide a good phthalocyanine-based offset master for semiconductor laser exposure. [Progress until the problem was solved] Aiming to develop an offset master for semiconductor laser exposure, the present inventors developed a phthalocyanine pigment that is sensitive to semiconductor lasers, fine zinc oxide powder for hydrophilic treatment, and a binder. We considered combining dielectric resins. First, as a preliminary experiment, we started by determining the content of zinc oxide fine powder necessary for hydrophilic treatment.
The general theory is that during etching with an etchant, zinc oxide reacts with the ferrocyanide salt or ferricyanide salt in the etchant to form a hydrophilic and insoluble salt, resulting in desensitization. As zinc oxide fine powder, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.
Using SAZEX 2000, acrylic resin Arotap 3211 manufactured by Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co., Ltd. as a binder resin, and methyl ethyl ketone as a solvent, a dispersion coating liquid was prepared using a paint sheaker containing glass beads. Dispersion coating solutions were prepared with varying ratios of zinc oxide and binder resin, and each was applied to a polyester film (thickness 150 μm) manufactured by Toray Industries, Inc. using a wire bar to a film thickness of approximately 15 μm. Each coated film was passed twice through an AM Multigraphics Master Converter 124 etching machine containing a standard Ryobi etchant and then printed on a Ryobi 2800CD compact offset printer. Vanson 1980 ink was used. The results are shown in Table 1. 〇 indicates that the fed blank paper was the same whiteness after printing as before printing (no background fog), △ indicates that it was slightly dirty, and × indicates that it was very dirty. .
【表】
エツチ液により完全に親水化が行われたなら
ば、水がZnO−樹脂層上に保持され、インキは付
着しないはずである。
同様な実験を、結着剤樹脂の種類を変え、三菱
レーヨン社製のアクリル樹脂タイヤナール#009、
東洋紡社製のポリエステル樹脂バイロン#200、
シエル石油化学社製のエポキシ樹脂エピコート
#1004についても行つたが、若干の相違はみられ
るものの、ほとんど表1の結果と同じであつた。
従つて、親水化については、結着剤樹脂の種類に
よる影響は無視でき、親水化を支配するのは、単
純に酸化亜鉛の含有量であると結論づけてよい。
表1より、酸化亜鉛の含有量が70重量%以上で良
好な親水性が得られることがわかる。
次に、フタロシアニン顔料として、東洋インキ
製造社製のε型銅フタロシアニンLionol Blue
ERを選び、上述と同様な方法によつて酸化亜鉛
及び結着剤樹脂と混合分散し、同様にポリエステ
ルフイルム(厚さ150μm)に塗布し、その親水化
の実験を行つた。フタロシアニン顔料は結着剤樹
脂(日本触媒社製のアクリル樹脂Arotap3211)
に対して常に30重量%になるよう入れ、酸化亜鉛
の比率を変化させた。評価方法は上述と同様であ
る。その結果を表2に示す。
表2より、酸化亜鉛の含有量が60重量%以上で
良好な親水性が得られることがわかる。表1と比
較して、酸化亜鉛の含有量が5〜10重量%少なく
ても良好な親水性が得られるという事は、親水化
を最も阻害しているのが結着剤樹脂であることを
示している。[Table] If the etchant had completely made it hydrophilic, water would be retained on the ZnO-resin layer and ink would not adhere. A similar experiment was carried out using acrylic resin tire knurl #009 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., with different types of binder resin.
Polyester resin Vylon #200 manufactured by Toyobo Co., Ltd.
The test was also carried out using the epoxy resin Epicoat #1004 manufactured by Shell Petrochemical Co., Ltd., and although there were some differences, the results were almost the same as those shown in Table 1.
Therefore, it can be concluded that the effect of the type of binder resin on hydrophilization can be ignored, and that it is simply the zinc oxide content that controls hydrophilization.
Table 1 shows that good hydrophilicity can be obtained when the zinc oxide content is 70% by weight or more. Next, as a phthalocyanine pigment, ε-type copper phthalocyanine Lionol Blue manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.
ER was selected, mixed and dispersed with zinc oxide and a binder resin in the same manner as described above, and similarly applied to a polyester film (thickness: 150 μm) to conduct an experiment to make it hydrophilic. The phthalocyanine pigment is a binder resin (acrylic resin Arotap3211 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
The ratio of zinc oxide was varied by always adding 30% by weight. The evaluation method is the same as described above. The results are shown in Table 2. Table 2 shows that good hydrophilicity can be obtained when the zinc oxide content is 60% by weight or more. Compared to Table 1, the fact that good hydrophilicity can be obtained even when the content of zinc oxide is 5 to 10% less by weight indicates that it is the binder resin that is most inhibiting hydrophilicity. It shows.
以下、図面により、詳細に説明すれば、本発明
の半導体レーザ露光用オフセツトマスターは、第
1図に示すように、導電性支持体1上に、フタロ
シアニン顔料−酸化亜鉛(10〜50重量%)−結着
剤樹脂の光導電層Aを設け、この光導電層Aに、
フタロシアニン顔料−酸化亜鉛(60〜85重量%)
−結着剤樹脂の光導電層Bを設けたものである。
本発明の光導電層Aと光導電層Bにおいて使用
するフタロシアニン顔料は同一のものでも異なる
種類のものでもよく、また、2種以上のフタロシ
アニン顔料を混合したものでもよく、そのフタロ
シアニン顔料としては、無金属フタロシアニン顔
料および各種金属フタロシアニン顔料があり、各
種結晶形のものが用いられる。
金属フタロシアニン顔料としては、銅フタロシ
アニン、錫フタロシアニン、アルミニウムフタロ
シアニン、ニツケルフタロシアニン、コバルトフ
タロシアニン、亜鉛フタロシアニン、バナジルフ
タロシアニンなどを例示することができるが、ε
型銅フタロシアニンなどのように赤外線領域で感
度を有するものを選択することが好ましい。
また、ニトロ基などの電子吸引性基を有するフ
タロシアニン誘導体をアシツドペーステイング処
理したフタロシアニン誘導体を用いると、TNF
などの増感剤を使用しなくとも実用上十分の感度
が得られる。電子吸引性基を有するフタロシアニ
ンとしては、無金属もしくは各種金属フタロシア
ニンの分子中のベンゼン核にハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、スルホン基、カルボキシル基、
スルホアミド基、カルボアミド基などの電子吸引
性基によつて置換されたものである。このフタロ
シアニン誘導体はフタロシアニン合成時に、フタ
ロシアニンの原料となるフタロニトリル、フタル
酸、無水フタル酸、フタルイミドとして、上記置
換基で置換されたフタロニトリル、フタル酸、無
水フタル酸、フタルイミドを用いること、もしく
は一部併用することによつて、得られる。フタロ
シアニン誘導体の製法としては特に制限されな
い。また、フタロシアニン誘導体1分子における
置換基の数としては1〜16個である。
上記、電子吸引性基を有するフタロシアニン
は、必要に応じて他の電子吸引性基を有しないフ
タロシアニンと共にアシツドペーステイング処理
し、フタロシアニン誘導体を得る。ここでアシツ
ドペーステイング処理とは、上記電子吸引性基を
有するフタロシアニンあるいは他のフタロシアニ
ンを硫酸、オルト硫酸、ピロリン酸、クロロスル
ホン酸、塩酸、ヨウ化水素酸、フツ化水素酸、臭
化水素酸等の無機酸によつて塩を形成せしめ、有
機顔料業界で公知のように水中に投入し、沈殿し
たフタロシアニン誘導体を濾過、水洗、乾燥する
処理法であり、α型結晶形を有するものが得られ
る。このフタロシアニン誘導体は他のフタロシア
ニンと混合して使用することができ、組成の選択
によつて所望の感度のものが得られる。
光導電層Aと光導電層Bの結着剤樹脂は同一の
ものでも異なる種類のものでもよく、また、2種
以上の結着剤樹脂を混合したものでもよく、結着
剤樹脂としてはメラミン樹脂、ブチラール樹脂、
エポキシ樹脂、ケイ素樹脂、ポリウレタン樹脂、
アクリル樹脂、キシレン樹脂、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、繊
維素誘導体などの体積固有抵抗が107Ωcm以上の
絶縁性を有する公知のものが用いられる。
また、溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ンなどのケトン、メタノール、エタノール、イソ
プロパノールなどのアルコール、酢酸エチル、メ
チルセロソルブなどのエステル、四塩化炭素、ク
ロロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン化炭
化水素、テトヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル、およびジメチルホルムアミド、、ジメ
チルスルオキシドなどが用いられる。
本発明の半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーは導電性支持体上に光導電層が形成されたもの
であり、導電性支持体としては、アルミニウム、
ニツケルなどの金属板、アルミニウム、ニツケル
などの金属を紙またはプラスチツクフイルムなど
の上に真空蒸着させたもの、アルミニウムなどの
金属箔と紙あるいはプラスチツクフイルムを貼り
合わせたもの、カーボン混抄紙、有機あるいは無
機の導電処理剤で処理した低抵抗紙などを用いる
ことができる。
〔発明の効果〕
本発明の半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーは、その光導電層を前述の如き構成の2層にし
てあるので、受容電位、暗減衰、半導体レーザ感
度などの電子写真特性が良好で、かつ親水化処理
特性(エツチ処理特性)も良好であり、延いては
良好な印刷物が多数作成できるものである。
〔実施例〕
以下、例をあげて本発明を更に説明する。例中
「部」とは重量部を示す。
実施例 1
銅フタロシアニン40部、テトラニトロ銅フタロ
シアニン0.5部を98%濃硫酸500部に十分撹拌しな
がら溶解した。溶解した液を水5000部にあけ、銅
フタロシアニン、テトラニトロ銅フタロシアニン
の組成物を析出させた後、水洗し、減圧下120℃
で乾燥した。このようにして得られた組成物
〔〕を東洋インキ製造社製のε型銅フタロシア
ニン(Lionol Blue ER)100部に対し100部混合
し、メタノール5000部中に分散させ均一混合分散
液とした。その後、ロ過し、減圧下120℃で乾燥
して混合物〔〕とした。
次に、上記混合物〔〕5部とアクリルポリオ
ール(武田薬品工業社製タケラツクUA−702固
形分50重量%)15部、エポキシ樹脂(シエル化学
社製エピコート#1007固形分70重量%)2部にメ
チルエチルケトン28部、セルソルブアセテート28
部を磁性ボールミルにて48時間練肉を行なつたの
ち、堺化学社製の酸化亜鉛SAZEX2000を17部加
えて9時間、イソシアネート(日本ポリウレタン
工業社製コロネートL固形分75重量%)を5部加
えて1時間磁性ボールミルで練肉し、その塗布を
ワイヤーバーを用いて、アルミニウムを蒸着させ
たポリエステルフイルム(東レ社製メタルミー)
上に10μmの厚さに塗布し、130℃で30分間乾燥さ
せた。この感光体の光導電層中の酸化亜鉛の比率
は49重量%である。
次に、無金属フタロシアニン40部、モノニトロ
銅フタロシアニン1.5部を98%濃硫酸1000部に十
分撹拌しながら溶解した。溶解した液を水10000
部に注入し、フタロシアニン系組成物を析出させ
た後、濾過、水洗し、減圧下120℃で乾燥した。
このようにして得られた組成物〔〕とε型銅フ
タロシアニン(Lionol Blue ER)100部に対し、
100部混合し、メタノール5000部中に分散させ均
一分散液とした。その後、ロ過し、減圧下120℃
で乾燥して混合物〔〕とした。上記混合物
〔〕を5部とシリコン樹脂(信越化学社製
KR211固形分70重量%)15部、アクリル樹脂
(東亜合成化学社製アロンS1001固形分50重量%)
3部、トルエン51部を加え、磁性ボールミルで30
時間分散を行なつたのち、光導電性酸化亜鉛(堺
化学社製SAZEX2000)を26部加えて、さらに10
時間分散した混合液をワイヤーバーを用いて、前
記感光層上に乾燥膜厚が4μmになるように塗布
し、130℃で30分間乾燥して電子写真感光体を得
た。こうして得られた電子写真感光体の上層の光
導電層中の酸化亜鉛の比率は60重量%であり、こ
れに対して+6.0KV、コロナギヤツプ10mm、
10m/minの帯電スピードでコロナ放電を与え、
放電停止後5秒後に分光機(日本光学社製G250)
で分光された800mmの波長の光(2μW/cm2)で露
光した。この時の露光直前の電位が50%低下する
のに要した光の照射量を感度とした。測定は静電
複写紙試験装置(川口電機社製SP428)で行つ
た。このようにして測定したサンプルの感度は
2.1μJ/cm2であり、半導体レーザ光の波長及び光
強度に対して十分な感度の値を示した。
次に、上記感光体を使用した画像形成方法につ
いて述べる。その装置として、キヤノン社製半導
体レーザビームプリンターLBP−10の改造を次
のように行なつた。まず入力側にフロツピーデイ
スクリーダならびにインターフエース回路を取り
つけ、キイボードより入力されフロツピーデイス
クに蓄えられた文字等の電気信号の読み出しを行
い、LPB−10の入力を可能とした。また、感光
ドラムをアルミニウムドラムに交換すると共に、
ドラムに溝を作り、そこに2ケ所のフツクをつ
け、感光体をドラムの周囲に巻き、前後をフツク
で固定できるようにし、また、プラス帯電装置の
みが機能するようにした。
上記装置を使い、現像器に岩崎通信機社製の全
自動電子複写製版機エレフアクスPM−40の現像
液(オフセツト印刷用のポジトナー)を入れ、感
光体をアルミニウムドラムにアースを取つて取り
付け、、レーザプリンターを動作させ、プラス帯
電、半導体レーザ光による画像部露光、オフセツ
ト印刷用のプラス荷電の液体トナーによる反転現
像、温風乾燥による定着を行つたのち、アルミニ
ウムドラムより取りはずし、オフセツトマスター
版を作つた。
次に、市販のリヨービ社製エツチ液を入れた
AMMultigraphics社製のエツチングマシン
Master Converter124に2回通した後、リヨービ
社製の小型オフセツト印刷機2800CDで
Vanson1980インキを用いて印刷した(4000回
転/時)結果、3000枚以上の良好な印刷物が得ら
れた。
実施例 2
銅フタロシアニン40部、テトラシアノコバルト
フタロシアニン0.5部を氷酢酸2000部に分散させ、
撹拌しながら10部の98%硫酸を滴下し、10時間撹
拌したのち、固形物をロ別し、さらにアンモニア
ガスを通じフタロシアニン系組成物を析出した
後、水洗し、減圧下120℃で乾燥した。このよう
にした得られた組成物〔〕を下記の処方に基づ
き混合した。
組成物〔〕 5部
ε型銅フタロシアニン(東洋インキ製造社製
Lionol Blue ER) 5部
分岐ポリエステルポリオール(日本ポリウレタ
ン工業社製デスモフエン#800固形分75重量%)
20部
セルソルブアセート 45部
以上のような組成物を磁性ボールミルにて24時
間常温で練肉後、光導電性酸化亜鉛(堺化学社製
SAZEX200)を5部加えて、さらに練肉を行な
つた後、イソシアネート(日本ポリウレタン工業
社製コロネートL固形分75重量%)を20部加え混
合した混合液をワイヤーバーを用いて、水溶性樹
脂としてカゼインを塗布したカーボンすき込み紙
(厚さ145μm)上に11μmの厚さに塗布し、120℃
で5分間乾燥させた。この感光体の光導電層中の
酸化亜鉛の比率は11重量%である。
次に、トリニトロ銅フタロシアニン50部を98%
濃硫酸600部に十分撹拌しながら溶解した。溶解
した液を水6000部にあけ、α型トリニトロン銅フ
タロシアニンの組成物を析出させた後、濾過、水
洗し、減圧下120℃で乾燥した。
このようにして得られた組成物〔〕100部と
ε型銅フタロシアニン100部とをメタノール5000
部中に分散させ、均一混合分散液とした。その
後、ロ過し、減圧下120℃で乾燥し混合物〔〕
とした。上記混合物〔〕を3部とアクリル樹脂
(日本触媒化学社製Arotap3211固形分50重量%)
6部にメチルエチルケトン31部、n−ブチルアル
コール15部、セルソルブアセテート15部を磁性ボ
ールミルで30時間分散を行なつたのち、光導電性
酸化亜鉛(堺化学社製SAZEX2000)を30部加え
て、さらに10時間分散した混合液をワイヤーバー
を用いて、前記感光層上に乾燥膜厚が4μmになる
ように塗布し、120℃で5分間乾燥して電子写真
感光体を得た。
こうして得られた感光体の上層の光導電層中の
酸化亜鉛の比率は85重量%であり、この電子写真
特性を実施例1と同様な方法で測定した結果、
800nmの波長での光感度は2.3μJ/cm2であつた。
この感光体を使つて、実施例1と同様な装置、材
料及び方法によつてオフセツトマスター版を作る
ことができた。さらに、このマスター版により、
実施例1と同様な方法で3000枚以上の良好なオフ
セツト印刷物を得ることができた。
実施例 3
ε型銅フタロシアニン(東洋インキ製造社製
Lionol Blue ER) 6部
ポリカーボネート樹脂(三菱瓦斯化学社製ユー
ピロンS−3000) 12部
ジクロルメタン 37部
1,2−ジクロルエタン 37部
以上の組成物をペイントシエーカーにて1時間
練肉したのち、酸化亜鉛(堺化学社製SAZEX
#2000)8部を添加し、さらに30分間練肉し、光
導電性塗料を得た。
この塗料をワイヤーバーを用いて、水溶性樹脂
としてカゼインを塗布したカーボンすき込み紙
(厚さ145μm)上に8μmの厚さに塗布し、120℃で
5分間乾燥させた。
この感光体の光導電層中の酸化亜鉛の比率は31
重量%である。
次に以下の光導電性組成物を製造した。
実施例1の組成物〔〕 4部
ブチラール樹脂(積水化学社製エスレツクB)
9部
エチルアルコール 60部
以上の組成物をペイントシエーカーにて1時間
練肉後、酸化亜鉛(堺化学工業社製SAZEX
#2000)27部を添加し、さらに30分間練肉し、光
導電性組成物を得た。
この光導電性組成物を、前記の感光体の上に乾
燥膜厚が7μmになるように、ワイヤーバーで塗布
し、80℃で5分間乾燥して半導体レーザ露光用感
光体を得た。
このようにして得られた感光体の上層の光導電
層中の酸化亜鉛の比率は68重量%であり、この電
子写真特性を実施例1と同様な方法で測定した結
果、800nmの波長での光感度は2.2μJ/cm2であつ
た。この感光体を使つて実施例1と同様な装置、
材料及び方法によつてオフセツトマスター版を作
ることができた。さらに、このマスター版によ
り、実施例1と同様な方法で3000枚以上の良好な
オフセツト印刷物を得ることができた。
比較例 1
実施例3の感光体において、上層の光導電層と
下層の光導電層を入れ換えた構成の感光体にした
場合、半導体レーザにより画像形成ができたが、
オフセツトマスター版として利用したときに、実
施例1と同様なエツチ液、エツチングマシンで、
10回通し以上で印刷しても地汚れは解消できず、
良好な印刷物は得られなかつた。
比較例 2
実施例2の感光体において、上層の光導電層中
の酸化亜鉛の比率を90重量%にした場合、電子写
真特性が悪くなるばかりでなく、光導電層の被膜
強度が低下し、実用に供しないものとなつた。
比較例 3
実施例1の感光体において、下層の光導電層を
取り除き、上層の光導電層を15μm形成したもの
は、帯電能が低く、実用に供しないものであつ
た。
Hereinafter, to explain in detail with reference to the drawings, the offset master for semiconductor laser exposure of the present invention, as shown in FIG. )-provide a photoconductive layer A of a binder resin, on this photoconductive layer A,
Phthalocyanine pigment - zinc oxide (60-85% by weight)
- A photoconductive layer B of a binder resin is provided. The phthalocyanine pigments used in the photoconductive layer A and photoconductive layer B of the present invention may be the same or different types, or may be a mixture of two or more types of phthalocyanine pigments, and the phthalocyanine pigments include: There are metal-free phthalocyanine pigments and various metal phthalocyanine pigments, and various crystal forms are used. Examples of metal phthalocyanine pigments include copper phthalocyanine, tin phthalocyanine, aluminum phthalocyanine, nickel phthalocyanine, cobalt phthalocyanine, zinc phthalocyanine, vanadyl phthalocyanine, etc.
It is preferable to select a material that is sensitive in the infrared region, such as type copper phthalocyanine. In addition, when a phthalocyanine derivative having an electron-withdrawing group such as a nitro group is acid-pasted, TNF
Practically sufficient sensitivity can be obtained without using sensitizers such as sensitizers. Examples of phthalocyanine having an electron-withdrawing group include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a sulfone group, a carboxyl group,
It is substituted with an electron-withdrawing group such as a sulfamide group or a carboamide group. This phthalocyanine derivative can be obtained by using phthalonitrile, phthalic acid, phthalic anhydride, or phthalimide substituted with the above-mentioned substituents as the raw material for phthalocyanine during phthalocyanine synthesis; It can be obtained by using both. The method for producing the phthalocyanine derivative is not particularly limited. Further, the number of substituents in one molecule of the phthalocyanine derivative is 1 to 16. The above-mentioned phthalocyanine having an electron-withdrawing group is subjected to acid pasting treatment with other phthalocyanine having no electron-withdrawing group, if necessary, to obtain a phthalocyanine derivative. Here, acid pasting treatment refers to phthalocyanine or other phthalocyanine having the above-mentioned electron-withdrawing group to This is a treatment method in which a salt is formed with an inorganic acid such as an acid, and the phthalocyanine derivative is poured into water as known in the organic pigment industry, and the precipitated phthalocyanine derivative is filtered, washed with water, and dried. can get. This phthalocyanine derivative can be used in combination with other phthalocyanines, and desired sensitivity can be obtained by selecting the composition. The binder resins of photoconductive layer A and photoconductive layer B may be the same or different types, or may be a mixture of two or more types of binder resins, and the binder resin may be melamine. resin, butyral resin,
Epoxy resin, silicone resin, polyurethane resin,
Known materials having insulating properties such as acrylic resins, xylene resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, polycarbonate resins, and cellulose derivatives having a volume resistivity of 10 7 Ωcm or more are used. In addition, as a solvent, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene,
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, esters such as ethyl acetate and methyl cellosolve, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, and dichloromethane, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. , dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, etc. are used. The offset master for semiconductor laser exposure of the present invention has a photoconductive layer formed on a conductive support, and the conductive support may include aluminum,
Metal plates such as nickel, aluminum, metals such as nickel vacuum-deposited on paper or plastic film, materials made by laminating metal foil such as aluminum with paper or plastic film, carbon-containing paper, organic or inorganic Low-resistance paper treated with a conductive treatment agent can be used. [Effects of the Invention] Since the offset master for semiconductor laser exposure of the present invention has a two-layer photoconductive layer having the above-mentioned structure, it has good electrophotographic properties such as acceptance potential, dark decay, and semiconductor laser sensitivity. Moreover, the hydrophilic treatment properties (etching treatment properties) are also good, and as a result, a large number of good printed materials can be produced. [Example] The present invention will be further explained below by giving examples. In the examples, "parts" indicate parts by weight. Example 1 40 parts of copper phthalocyanine and 0.5 part of tetranitrocopper phthalocyanine were dissolved in 500 parts of 98% concentrated sulfuric acid with thorough stirring. Pour the dissolved solution into 5000 parts of water to precipitate a composition of copper phthalocyanine and tetranitrocopper phthalocyanine, wash with water, and heat at 120°C under reduced pressure.
It was dried. 100 parts of the thus obtained composition [] was mixed with 100 parts of ε-type copper phthalocyanine (Lionol Blue ER) manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., and dispersed in 5000 parts of methanol to form a uniformly mixed dispersion. Thereafter, it was filtered and dried at 120°C under reduced pressure to obtain a mixture []. Next, 5 parts of the above mixture [], 15 parts of acrylic polyol (Takerakku UA-702, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., solid content 50% by weight), and 2 parts of epoxy resin (Siel Chemical Co., Ltd., Epicoat #1007, solid content 70% by weight) were added. Methyl ethyl ketone 28 parts, Cellsolve Acetate 28 parts
After 48 hours of kneading in a magnetic ball mill, 17 parts of zinc oxide SAZEX2000 manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd. was added for 9 hours, and 5 parts of isocyanate (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Industries, solid content 75% by weight) was added. In addition, it was kneaded in a magnetic ball mill for 1 hour, and then coated with a wire bar to form a polyester film (Metal Me, manufactured by Toray Industries, Inc.) on which aluminum was vapor-deposited.
It was coated on top to a thickness of 10 μm and dried at 130°C for 30 minutes. The proportion of zinc oxide in the photoconductive layer of this photoreceptor was 49% by weight. Next, 40 parts of metal-free phthalocyanine and 1.5 parts of mononitro copper phthalocyanine were dissolved in 1000 parts of 98% concentrated sulfuric acid with thorough stirring. Add the dissolved liquid to 10,000 ml of water.
After the phthalocyanine composition was precipitated, it was filtered, washed with water, and dried at 120°C under reduced pressure.
For the thus obtained composition [] and 100 parts of ε-type copper phthalocyanine (Lionol Blue ER),
100 parts were mixed and dispersed in 5000 parts of methanol to form a uniform dispersion. Then filtered at 120℃ under reduced pressure.
and dried to obtain a mixture [ ]. 5 parts of the above mixture [] and silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
KR211 solid content 70% by weight) 15 parts, acrylic resin (Toagosei Kagaku Aron S1001 solid content 50% by weight)
Add 3 parts and 51 parts of toluene, and mix with a magnetic ball mill to 30
After time dispersion, 26 parts of photoconductive zinc oxide (SAZEX2000 manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) was added, and an additional 10
The time-dispersed mixed solution was applied onto the photosensitive layer using a wire bar so that the dry film thickness was 4 μm, and dried at 130° C. for 30 minutes to obtain an electrophotographic photoreceptor. The ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor thus obtained was 60% by weight, while the temperature was +6.0KV, the corona gap was 10mm,
Corona discharge is applied at a charging speed of 10 m/min.
Spectrometer (G250 manufactured by Nippon Kogaku Co., Ltd.) 5 seconds after the discharge stops
The sample was exposed to light with a wavelength of 800 mm (2 μW/cm 2 ). The amount of light irradiation required for the potential immediately before exposure to decrease by 50% at this time was defined as the sensitivity. The measurement was performed using an electrostatic copying paper testing device (SP428 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). The sensitivity of the sample measured in this way is
The sensitivity was 2.1 μJ/cm 2 and showed sufficient sensitivity to the wavelength and light intensity of the semiconductor laser light. Next, an image forming method using the above photoreceptor will be described. As the device, a semiconductor laser beam printer LBP-10 manufactured by Canon Inc. was modified as follows. First, a floppy disk reader and interface circuit were installed on the input side to read out electrical signals such as characters entered from the keyboard and stored on the floppy disk, making it possible to input into the LPB-10. In addition, the photosensitive drum was replaced with an aluminum drum, and
A groove was made in the drum, two hooks were attached to the groove, and the photoreceptor was wrapped around the drum so that it could be fixed with hooks at the front and back, and only the positive charging device would function. Using the above device, fill the developer with the developer (positive toner for offset printing) of the fully automatic electronic copying plate machine Elephax PM-40 manufactured by Iwasaki Tsushinki Co., Ltd., and attach the photoreceptor to the aluminum drum with a ground connection. After operating the laser printer and performing positive charging, exposure of the image area with semiconductor laser light, reversal development with positively charged liquid toner for offset printing, and fixing with warm air drying, the plate is removed from the aluminum drum and the offset master plate is placed. I made it. Next, I added commercially available Ryobi etching liquid.
Etching machine manufactured by AMM Multigraphics
After passing through Master Converter 124 twice, it was printed on Ryobi's small offset printer 2800CD.
Printing with Vanson 1980 ink (4000 revolutions/hour) resulted in more than 3000 good prints. Example 2 40 parts of copper phthalocyanine and 0.5 part of tetracyanocobalt phthalocyanine were dispersed in 2000 parts of glacial acetic acid,
10 parts of 98% sulfuric acid was added dropwise with stirring, and after stirring for 10 hours, the solid matter was filtered out and ammonia gas was passed through to precipitate a phthalocyanine composition, which was then washed with water and dried at 120°C under reduced pressure. The thus obtained composition [] was mixed based on the following recipe. Composition [] 5 parts ε-type copper phthalocyanine (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.)
Lionol Blue ER) 5-branched polyester polyol (Desmophene #800 manufactured by Nippon Polyurethane Industries, solid content 75% by weight)
20 parts Cellsolve acetate 45 parts The above composition was milled in a magnetic ball mill at room temperature for 24 hours, then photoconductive zinc oxide (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)
After adding 5 parts of SAZEX200) and further kneading, 20 parts of isocyanate (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Industries Co., Ltd. solid content 75% by weight) was added and mixed. Using a wire bar, the water-soluble resin was mixed. Coated to a thickness of 11 μm on casein-coated carbon paper (145 μm thick) and heated at 120°C.
and dried for 5 minutes. The proportion of zinc oxide in the photoconductive layer of this photoreceptor was 11% by weight. Next, add 50 parts of trinitro copper phthalocyanine to 98%
It was dissolved in 600 parts of concentrated sulfuric acid with thorough stirring. The dissolved solution was poured into 6000 parts of water to precipitate a composition of α-trinitrone copper phthalocyanine, which was then filtered, washed with water, and dried at 120° C. under reduced pressure. 100 parts of the composition thus obtained and 100 parts of ε-type copper phthalocyanine were mixed with 5000 methanol.
A homogeneous mixed dispersion liquid was obtained. Thereafter, the mixture was filtered and dried at 120℃ under reduced pressure.
And so. 3 parts of the above mixture [] and acrylic resin (Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd. Arotap3211 solid content 50% by weight)
6 parts, 31 parts of methyl ethyl ketone, 15 parts of n-butyl alcohol, and 15 parts of cellosolve acetate were dispersed in a magnetic ball mill for 30 hours, and then 30 parts of photoconductive zinc oxide (SAZEX2000, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) was added. Further, the mixed solution dispersed for 10 hours was applied onto the photosensitive layer using a wire bar so as to have a dry film thickness of 4 μm, and dried at 120° C. for 5 minutes to obtain an electrophotographic photoreceptor. The ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer of the photoreceptor thus obtained was 85% by weight, and the electrophotographic properties were measured in the same manner as in Example 1.
The photosensitivity at a wavelength of 800 nm was 2.3 μJ/cm 2 .
Using this photoreceptor, an offset master plate could be made using the same equipment, materials, and method as in Example 1. Furthermore, with this master version,
Using the same method as in Example 1, more than 3,000 good offset prints could be obtained. Example 3 ε-type copper phthalocyanine (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.)
Lionol Blue ER) 6 parts polycarbonate resin (Iupilon S-3000 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 12 parts dichloromethane 37 parts 1,2-dichloroethane 37 parts The above composition was kneaded in a paint shaker for 1 hour, and then mixed with zinc oxide. (SAZEX manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.
#2000) was added and kneaded for an additional 30 minutes to obtain a photoconductive paint. This paint was applied to a thickness of 8 μm using a wire bar on carbon paper (thickness: 145 μm) coated with casein as a water-soluble resin, and dried at 120° C. for 5 minutes. The ratio of zinc oxide in the photoconductive layer of this photoreceptor is 31
Weight%. Next, the following photoconductive composition was manufactured. Composition of Example 1 [] 4-part butyral resin (Eslec B manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
9 parts ethyl alcohol 60 parts
#2000) was added and kneaded for further 30 minutes to obtain a photoconductive composition. This photoconductive composition was coated onto the photoreceptor using a wire bar to a dry film thickness of 7 μm, and dried at 80° C. for 5 minutes to obtain a photoreceptor for semiconductor laser exposure. The ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer of the photoreceptor thus obtained was 68% by weight, and its electrophotographic properties were measured in the same manner as in Example 1. The light sensitivity was 2.2 μJ/cm 2 . A device similar to that of Example 1 using this photoreceptor,
By using the materials and methods, it was possible to create an offset master version. Furthermore, using this master plate, it was possible to obtain more than 3,000 good offset prints in the same manner as in Example 1. Comparative Example 1 In the photoconductor of Example 3, when the photoconductor had a structure in which the upper photoconductive layer and the lower photoconductive layer were exchanged, image formation was possible using a semiconductor laser, but
When used as an offset master version, use the same etching solution and etching machine as in Example 1.
Even if you print more than 10 times, the background smear cannot be resolved.
Good prints could not be obtained. Comparative Example 2 In the photoreceptor of Example 2, when the ratio of zinc oxide in the upper photoconductive layer was set to 90% by weight, not only the electrophotographic properties deteriorated but also the film strength of the photoconductive layer decreased. It became unusable. Comparative Example 3 The photoreceptor of Example 1 in which the lower photoconductive layer was removed and the upper photoconductive layer was formed with a thickness of 15 μm had a low charging ability and could not be put to practical use.
第1図は本発明の半導体レーザ露光用オフセツ
トマスターの構成説明図である。
1……導電性支持体、A,B……光導電層。
FIG. 1 is an explanatory diagram of the structure of an offset master for semiconductor laser exposure according to the present invention. 1... Conductive support, A, B... Photoconductive layer.
Claims (1)
素子とする半導体レーザ露光用オフセツトマスタ
ーにおいて、下層にフタロシアニン顔料及び酸化
亜鉛を結着剤樹脂中に分散した光導電層A、上層
にフタロシアニン顔料及び酸化亜鉛を結着剤樹脂
中に分散した光導電層Bを設け、且つ、上記光導
電層Aの酸化亜鉛の比率が10〜50重量パーセン
ト、光導電層Bの酸化亜鉛の比率が60〜85重量パ
ーセントであることを特徴とする半導体レーザ露
光用オフセツトマスター。1 In an offset master for semiconductor laser exposure using a phthalocyanine pigment and zinc oxide as a photoconductor element, the lower layer is a photoconductive layer A in which a phthalocyanine pigment and zinc oxide are dispersed in a binder resin, and the upper layer is a photoconductive layer A in which a phthalocyanine pigment and zinc oxide are dispersed in a binder resin. A photoconductive layer B is provided in which the photoconductive layer B is dispersed in a binder resin, and the photoconductive layer A has a zinc oxide ratio of 10 to 50% by weight, and the photoconductive layer B has a zinc oxide ratio of 60 to 85% by weight. An offset master for semiconductor laser exposure characterized by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9771684A JPS60241060A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | Offset master for exposure of semiconductor laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9771684A JPS60241060A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | Offset master for exposure of semiconductor laser |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60241060A JPS60241060A (en) | 1985-11-29 |
| JPH0364065B2 true JPH0364065B2 (en) | 1991-10-03 |
Family
ID=14199610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9771684A Granted JPS60241060A (en) | 1984-05-16 | 1984-05-16 | Offset master for exposure of semiconductor laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60241060A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62111257A (en) * | 1985-07-02 | 1987-05-22 | Dainippon Ink & Chem Inc | Electrophotographic sensitive body |
-
1984
- 1984-05-16 JP JP9771684A patent/JPS60241060A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60241060A (en) | 1985-11-29 |
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