JPH036410A - パターン検査装置 - Google Patents
パターン検査装置Info
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- JPH036410A JPH036410A JP1141694A JP14169489A JPH036410A JP H036410 A JPH036410 A JP H036410A JP 1141694 A JP1141694 A JP 1141694A JP 14169489 A JP14169489 A JP 14169489A JP H036410 A JPH036410 A JP H036410A
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- pattern
- data
- inspection
- determination
- standard
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、プリント基板や十トマスクにおける配線パタ
ーンの欠陥検査を行うパターン検査装置に関するもので
ある。
ーンの欠陥検査を行うパターン検査装置に関するもので
ある。
従来の技術
プリント基板への電子部品実装の高密度化に伴い、基板
の配線パターンの細密化、複雑化が進んでいる。この配
線パターンの欠陥検査は目視による外観検査が行われて
きたが、配線パターンの高密度化に伴い目視による検査
作業が困難になってきている。このような背景のもと配
線パターンを正確かつ迅速に検査するパターン検査装置
の開発が要求されている。
の配線パターンの細密化、複雑化が進んでいる。この配
線パターンの欠陥検査は目視による外観検査が行われて
きたが、配線パターンの高密度化に伴い目視による検査
作業が困難になってきている。このような背景のもと配
線パターンを正確かつ迅速に検査するパターン検査装置
の開発が要求されている。
従来のパターン検査装置は、原画像を走査分解して得ら
れた2値データに対し、大別して比較法と設計ルール法
と呼ばれる検査方式で欠陥検出処理が行われている。比
較法は良品パターンあるいはCADによる配線パターン
の設計データと検査基板の配線パターンとのパターンマ
ツチングを行うもので、精密な位置合ねせを必要とする
反面正確な検査が可能となる。(例えば特開昭60−2
63807号公報)一方、設計ルール法は配線幅やパタ
ーンの配置関係などのパターン設計上のルールに対し、
検査パターンの幅やパターン間の関係を示す特徴量を計
測し前記設計ルールに違反していないかどうかを検査す
る方式で、標準パターンを準備しなくても最初の1枚か
ら検査できるという特長を有する。(例えば特開昭62
−299711号公報)発明が解決しようとする課題 しかし、上述した比較法は標準パターンを記憶するため
の大容量の記憶装置もしくは標準パターンと検査パター
ンを同時入力するだめの2系統の入力装置が必要となり
大規模装置構成となる。また設計ルール法は欠陥パター
ンの有する特徴量と一定の設計基準とを照合するために
、外層板のように表面実装部品用の特殊なパターンや文
字記号が存在する場合、これらのパターンを欠陥として
検出するため検査開始時に該当領域をマスクする作業が
必要となる。
れた2値データに対し、大別して比較法と設計ルール法
と呼ばれる検査方式で欠陥検出処理が行われている。比
較法は良品パターンあるいはCADによる配線パターン
の設計データと検査基板の配線パターンとのパターンマ
ツチングを行うもので、精密な位置合ねせを必要とする
反面正確な検査が可能となる。(例えば特開昭60−2
63807号公報)一方、設計ルール法は配線幅やパタ
ーンの配置関係などのパターン設計上のルールに対し、
検査パターンの幅やパターン間の関係を示す特徴量を計
測し前記設計ルールに違反していないかどうかを検査す
る方式で、標準パターンを準備しなくても最初の1枚か
ら検査できるという特長を有する。(例えば特開昭62
−299711号公報)発明が解決しようとする課題 しかし、上述した比較法は標準パターンを記憶するため
の大容量の記憶装置もしくは標準パターンと検査パター
ンを同時入力するだめの2系統の入力装置が必要となり
大規模装置構成となる。また設計ルール法は欠陥パター
ンの有する特徴量と一定の設計基準とを照合するために
、外層板のように表面実装部品用の特殊なパターンや文
字記号が存在する場合、これらのパターンを欠陥として
検出するため検査開始時に該当領域をマスクする作業が
必要となる。
本発明は、以上のような課題を解消するもので、誤報の
ない正確な検査が可能なパターン検査装置を提供するも
のである。
ない正確な検査が可能なパターン検査装置を提供するも
のである。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために本発明は、対象基板の配線パ
ターンを光学的に検知し光電変換を行うパターン検知手
段と、前記光電変換した入力信号を2値画像データに変
換する2値化手段と、前記2値データを走査窓で走査し
その窓の中心位置がパターンのエツジを検出したとき窓
内パターンの形状と所定の論理との一致判定を行うパタ
ーン形状判定手段と、前記パターンのエツジを検出した
窓走査位置で窓の中心を通る直線上のパターンの連続す
る長さを測長し所定の条件との一致判定を行うパターン
幅判定手段と、前記パターン形状とパターン幅判定結果
の組み合せから当該走査位置が欠陥パターンの特徴を有
するかどうかを判定し欠陥である場合その判定コードと
位置情報を特徴データとして出力する特徴判定手段と、
入カバターンが標準パターンか検査パターンかによって
前記特徴データの記憶先を切り替える特徴データ切替手
段と、前記標準パターンの特徴データを記憶する手段と
、前記検査パターンの特徴データを記憶する手段と、前
記記憶されている標準パターン及び検査パターンの特徴
データを比較し同じ位置に同じ特徴が存在しない場合欠
陥と判定する比較判定手段とを設けたものである。
ターンを光学的に検知し光電変換を行うパターン検知手
段と、前記光電変換した入力信号を2値画像データに変
換する2値化手段と、前記2値データを走査窓で走査し
その窓の中心位置がパターンのエツジを検出したとき窓
内パターンの形状と所定の論理との一致判定を行うパタ
ーン形状判定手段と、前記パターンのエツジを検出した
窓走査位置で窓の中心を通る直線上のパターンの連続す
る長さを測長し所定の条件との一致判定を行うパターン
幅判定手段と、前記パターン形状とパターン幅判定結果
の組み合せから当該走査位置が欠陥パターンの特徴を有
するかどうかを判定し欠陥である場合その判定コードと
位置情報を特徴データとして出力する特徴判定手段と、
入カバターンが標準パターンか検査パターンかによって
前記特徴データの記憶先を切り替える特徴データ切替手
段と、前記標準パターンの特徴データを記憶する手段と
、前記検査パターンの特徴データを記憶する手段と、前
記記憶されている標準パターン及び検査パターンの特徴
データを比較し同じ位置に同じ特徴が存在しない場合欠
陥と判定する比較判定手段とを設けたものである。
作用
本発明は上記構成により、標準パターンと検査パターン
の双方において欠陥の特徴データ及びその位置情報を検
出し記憶するため、比較判定手段において双方の特徴デ
ータ及び位置情報を比較し双方の同じ位置に同じ特徴デ
ータがある場合にその特徴データを相殺し、相互に異な
る特徴データが存在する場合に欠陥と判定することによ
り、検査対象に特殊パターンや文字記号が存在してもマ
スク作業の不要な正確な検査を可能にするものである。
の双方において欠陥の特徴データ及びその位置情報を検
出し記憶するため、比較判定手段において双方の特徴デ
ータ及び位置情報を比較し双方の同じ位置に同じ特徴デ
ータがある場合にその特徴データを相殺し、相互に異な
る特徴データが存在する場合に欠陥と判定することによ
り、検査対象に特殊パターンや文字記号が存在してもマ
スク作業の不要な正確な検査を可能にするものである。
実施例
第1図は本発明の一実施例におけるパターン検査装置の
構成図である。第1図において、lは対象基板の配線パ
ターンを光学的に検知し光電変換を行うパターン検知手
段、2はその光電変換された入力信号を所定ピッチでサ
ンプリングし一定しヘルのしきい値で2値化する2値化
手段、3はその2値データを走査窓で走査し窓の中心位
置がパターンのエツジを検出したとき窓内パターンの形
状と所定の論理との比較を行いパターンのエツジの凹凸
形状を判定するパターン形状判定手段、4はそのパター
ンのエツジを検出した窓走査位置で窓の中心を通る直線
上のパターンの連続する長さを測長し所定の条件との一
致判定を行うパターン幅判定手段、5はそのパターン形
状とくぐターン幅判定結果の組み合せから当該走査位置
が欠陥パターンの特徴を有するかどうかを判定し欠陥で
ある場合その判定コードと位置情報を特徴データとして
出力する特徴判定手段、6は入カバターンが標準パター
ンか検査パターンかによって前記判定コード及び位置情
報の記憶先を切り替える特徴データ切替手段、7は標準
パターンの特徴データを記憶する標準データ記憶手段、
8は検査パターンの特徴データを記憶する検査データ記
憶手段、9はその標準データ及び検査データの各記憶手
段7.8に記憶された特徴データを比較し相違を判定す
る比較判定手段である。
構成図である。第1図において、lは対象基板の配線パ
ターンを光学的に検知し光電変換を行うパターン検知手
段、2はその光電変換された入力信号を所定ピッチでサ
ンプリングし一定しヘルのしきい値で2値化する2値化
手段、3はその2値データを走査窓で走査し窓の中心位
置がパターンのエツジを検出したとき窓内パターンの形
状と所定の論理との比較を行いパターンのエツジの凹凸
形状を判定するパターン形状判定手段、4はそのパター
ンのエツジを検出した窓走査位置で窓の中心を通る直線
上のパターンの連続する長さを測長し所定の条件との一
致判定を行うパターン幅判定手段、5はそのパターン形
状とくぐターン幅判定結果の組み合せから当該走査位置
が欠陥パターンの特徴を有するかどうかを判定し欠陥で
ある場合その判定コードと位置情報を特徴データとして
出力する特徴判定手段、6は入カバターンが標準パター
ンか検査パターンかによって前記判定コード及び位置情
報の記憶先を切り替える特徴データ切替手段、7は標準
パターンの特徴データを記憶する標準データ記憶手段、
8は検査パターンの特徴データを記憶する検査データ記
憶手段、9はその標準データ及び検査データの各記憶手
段7.8に記憶された特徴データを比較し相違を判定す
る比較判定手段である。
上記構成において、以下その動作についてその詳細構成
とともに説明する。第2図はパターン検知手段1及び2
値化手段2の具体的構成図である。
とともに説明する。第2図はパターン検知手段1及び2
値化手段2の具体的構成図である。
第2図において、11は試料基板、12はxy子テーブ
ル13は照明ランプ、14は検査パターン結像用のレン
ズ、15は試料基板11の反射光を光電変換するCCD
ラインセンサ、16ばCCDラインセンサ15にクロッ
クパルスを供給するクロックパルス発生回路、17はC
CDラインセンサ15で光電変換されたアナログ画信号
、18はアナログ比較器、19はアナログ比較器18に
比較基準電位を供給する端子、20は2値画像データの
出力端子、21及び22は後述する画信号処理系に対し
ライン同期クロック及び画素転送りロックを供給する端
子、23及び24は試料基板11をxy子テーブル2に
固定する固定ピンである。上記構成により試料基板11
を搭載したχy子テーブル2は端子21から供給される
ライン同期クロックに同期してX方向に移動し、基板の
方向の走査が終了するとX方向へL移動する。移動後再
びX方向へ前回の走査と逆向きに走査し基板全面を走査
する。Lはレンズ14の結像倍率にとCCDラインセン
サ15の素子数mに基づき次式により決定される。
ル13は照明ランプ、14は検査パターン結像用のレン
ズ、15は試料基板11の反射光を光電変換するCCD
ラインセンサ、16ばCCDラインセンサ15にクロッ
クパルスを供給するクロックパルス発生回路、17はC
CDラインセンサ15で光電変換されたアナログ画信号
、18はアナログ比較器、19はアナログ比較器18に
比較基準電位を供給する端子、20は2値画像データの
出力端子、21及び22は後述する画信号処理系に対し
ライン同期クロック及び画素転送りロックを供給する端
子、23及び24は試料基板11をxy子テーブル2に
固定する固定ピンである。上記構成により試料基板11
を搭載したχy子テーブル2は端子21から供給される
ライン同期クロックに同期してX方向に移動し、基板の
方向の走査が終了するとX方向へL移動する。移動後再
びX方向へ前回の走査と逆向きに走査し基板全面を走査
する。Lはレンズ14の結像倍率にとCCDラインセン
サ15の素子数mに基づき次式により決定される。
L=k・δ・ (m−me) ■(ここにδ
はCCDラインセンサの素子サイズ、moはオーバーラ
ツプ走査の画素数を示す。)試料基板11はランプ13
で照明され、反射光がレンズ14によりCCDラインセ
ンサ15に拡大結像される。
はCCDラインセンサの素子サイズ、moはオーバーラ
ツプ走査の画素数を示す。)試料基板11はランプ13
で照明され、反射光がレンズ14によりCCDラインセ
ンサ15に拡大結像される。
アナログ画信号17はアナログ比較器18へ入力され端
子19より供給される所定のしきい値レベルで2値化さ
れる。
子19より供給される所定のしきい値レベルで2値化さ
れる。
次にパターン形状判定手段3、パターン幅判定手段4、
特徴判定手段5、特徴データ切替手段6、標準データ記
憶手段7及び検査データ記憶手段8における画信号処理
について第3図を参照しながら説明する。まず端子31
から入力された2値画像データはnXn走査窓で走査さ
れ窓内のパターン形状及びパターン幅がパターン形状判
定手段3及びパターン幅判定手段4により判定される。
特徴判定手段5、特徴データ切替手段6、標準データ記
憶手段7及び検査データ記憶手段8における画信号処理
について第3図を参照しながら説明する。まず端子31
から入力された2値画像データはnXn走査窓で走査さ
れ窓内のパターン形状及びパターン幅がパターン形状判
定手段3及びパターン幅判定手段4により判定される。
なお、2値化手段2におけるラインメモリとシフトレジ
スタを用いた窓走査回路は公知の技術であり説明は省略
する。第4図にパターン形状判定手段3の具体的判定方
法を示す。第4図(a)はパターン形状判定マスクであ
る。まず3×3マスク52において次式により配線パタ
ーンのエツジを検出する。
スタを用いた窓走査回路は公知の技術であり説明は省略
する。第4図にパターン形状判定手段3の具体的判定方
法を示す。第4図(a)はパターン形状判定マスクであ
る。まず3×3マスク52において次式により配線パタ
ーンのエツジを検出する。
do ・ (dl+d3+d5+d7) ・ (+L
+d3+ds+d7) −■第■式の値が1の時、
窓の中心位置(doの位置)は配線パターンのエツジ上
にある。このときリング領域51におけるパターンの配
置関係で当該エツジの形状を直線、凹、凸あるいは不規
則パターンのいずれかに分類する。同図ではリングの半
径が3の場合を示している。いまリング領域に連続する
黒画素領域が1箇所だけあるとき、黒領域と白領域の画
素数の差をもとに第4図(f)のパターン形状判定テー
ブルに示すように形状を分類する。すング領域51に複
数の黒領域がある時(同図(e))、不規則パターンと
判定する。第4図の(b)、(C)及び(d)は各々直
線、凹及び凸形状の場合を示している。
+d3+ds+d7) −■第■式の値が1の時、
窓の中心位置(doの位置)は配線パターンのエツジ上
にある。このときリング領域51におけるパターンの配
置関係で当該エツジの形状を直線、凹、凸あるいは不規
則パターンのいずれかに分類する。同図ではリングの半
径が3の場合を示している。いまリング領域に連続する
黒画素領域が1箇所だけあるとき、黒領域と白領域の画
素数の差をもとに第4図(f)のパターン形状判定テー
ブルに示すように形状を分類する。すング領域51に複
数の黒領域がある時(同図(e))、不規則パターンと
判定する。第4図の(b)、(C)及び(d)は各々直
線、凹及び凸形状の場合を示している。
前記パターン形状判定テーブルの判定結果は、2ビツト
のコードでROMに書き込んでおき、リング領域の構成
画素a。−alsをアドレスとしてROMを参照し判定
結果を出力する。
のコードでROMに書き込んでおき、リング領域の構成
画素a。−alsをアドレスとしてROMを参照し判定
結果を出力する。
第5図にパターン幅判定手段4の具体的判定方法を示す
。本実施例ではパターン幅は6〜7画素、クリアランス
は8画素以上の場合を正常とする。
。本実施例ではパターン幅は6〜7画素、クリアランス
は8画素以上の場合を正常とする。
第5図(a)はパターン幅判定マスクである。窓中心位
置(同図斜線位置)が配線パターンのエツジ上にあると
き、中心画素から8方向にパターン検出画素を配置する
。そして各方向に連続する黒画素をカウントし最小値を
パターン幅として選択する。
置(同図斜線位置)が配線パターンのエツジ上にあると
き、中心画素から8方向にパターン検出画素を配置する
。そして各方向に連続する黒画素をカウントし最小値を
パターン幅として選択する。
第5図(b)にその具体的構成図を示す。Ao及びB。
をMSBとして比較器61でA。−A、とB0〜B。
の大小を比較し、小さい方の値をセレクタ67で選択す
る。同様に比較器62とセレクタ68で00〜C1とり
。−D、の大小を比較し、小さい方の値を選択する。セ
レクタ67と68で選択された2つの値はさらに、比較
器65とセレクタ71で小さい方の値が選択され、プラ
イオリティエンコーダ73が測長値に変換される。45
度、135度、225度及び315度方向についても同
様に比較器63.64.66、セレクタ69.70.7
2及びプライオリティエンコーダ74を用いてE。”E
b 、Fo ”Fb 、Go −Gb 、H8−H6の
うちの最小の測長値を求める。OR回路76及びゲート
回路77は最小クリアランス違反をチエ7りするために
設けてあり、例えばA。が0かつA8が1のときは最小
クリアランス違反として検出する。プライオリティエン
コーダ73の出力4ビツト、プライオリティエンコーダ
74の出力3ビツト及びOR回路76の出力1ビツトの
合計8ビツトを用いてパターン幅判定テーブル75を参
照する。
る。同様に比較器62とセレクタ68で00〜C1とり
。−D、の大小を比較し、小さい方の値を選択する。セ
レクタ67と68で選択された2つの値はさらに、比較
器65とセレクタ71で小さい方の値が選択され、プラ
イオリティエンコーダ73が測長値に変換される。45
度、135度、225度及び315度方向についても同
様に比較器63.64.66、セレクタ69.70.7
2及びプライオリティエンコーダ74を用いてE。”E
b 、Fo ”Fb 、Go −Gb 、H8−H6の
うちの最小の測長値を求める。OR回路76及びゲート
回路77は最小クリアランス違反をチエ7りするために
設けてあり、例えばA。が0かつA8が1のときは最小
クリアランス違反として検出する。プライオリティエン
コーダ73の出力4ビツト、プライオリティエンコーダ
74の出力3ビツト及びOR回路76の出力1ビツトの
合計8ビツトを用いてパターン幅判定テーブル75を参
照する。
判定内容は次表に示すように2ビットコードでROMに
書き込まれている。
書き込まれている。
以下余白
冊
さて、第3図において特徴判定手段5は、パターン形状
判定手段3及びパターン幅判定手段4で判定したパター
ン形状とパターン幅を用いて、当該パターンが欠陥の特
徴パターンがどうが全判定し、欠陥の特徴を有する場合
その判定コードを座標カウント値とともに標準データ記
憶手段7あるいは検査データ記憶手段8に記憶する。特
徴データ切替手段6は、入カバターンが標準基板が検査
基板かによって、判定結果の記憶先を標準データ記憶手
段7あるいは検査データ記憶手段8に切り替えるために
設けてあり、その制御は、ライン周期クロック端子34
からYカウンタ35を介して、ま1ま た画素転送りロック端子36からXカウンタ3フを介し
て実施される。そして、外部から端子33に切替信号を
与えることにより記憶先を切り替える。
判定手段3及びパターン幅判定手段4で判定したパター
ン形状とパターン幅を用いて、当該パターンが欠陥の特
徴パターンがどうが全判定し、欠陥の特徴を有する場合
その判定コードを座標カウント値とともに標準データ記
憶手段7あるいは検査データ記憶手段8に記憶する。特
徴データ切替手段6は、入カバターンが標準基板が検査
基板かによって、判定結果の記憶先を標準データ記憶手
段7あるいは検査データ記憶手段8に切り替えるために
設けてあり、その制御は、ライン周期クロック端子34
からYカウンタ35を介して、ま1ま た画素転送りロック端子36からXカウンタ3フを介し
て実施される。そして、外部から端子33に切替信号を
与えることにより記憶先を切り替える。
第6図に特徴判定手段5の具体的判定内容を示す。形状
判定コードを上位2ピント、線幅判定コードを下位2ビ
ツトとして合計4ピントで当該パターンが欠陥特徴を有
するか否かを判定する。第6図に示すように判定コード
が0001.0010.01旧、1001.1010の
場合と上位2ビツトあるいは下位2ビツトが11の場合
欠陥特徴があると判定する。
判定コードを上位2ピント、線幅判定コードを下位2ビ
ツトとして合計4ピントで当該パターンが欠陥特徴を有
するか否かを判定する。第6図に示すように判定コード
が0001.0010.01旧、1001.1010の
場合と上位2ビツトあるいは下位2ビツトが11の場合
欠陥特徴があると判定する。
第7図(a)、(b)に標準データ及び検査データを記
憶する標準データ記憶手段7のメモリ及び検査データ記
憶手段8のメモリの記憶内容を示す。走査線番号と判定
コートを1ワード、X座標を1ワード、X座標を1ワー
ドの合計3ワードを1組の特徴データとして走査順に記
憶する。その走査線番号は第7図(C)に示すように、
試料基板11におけるCCDラインセンサ15の走査線
の番号を示すものである。
憶する標準データ記憶手段7のメモリ及び検査データ記
憶手段8のメモリの記憶内容を示す。走査線番号と判定
コートを1ワード、X座標を1ワード、X座標を1ワー
ドの合計3ワードを1組の特徴データとして走査順に記
憶する。その走査線番号は第7図(C)に示すように、
試料基板11におけるCCDラインセンサ15の走査線
の番号を示すものである。
第1図における比較判定手段9においては、マイクロコ
ンピュータにより標準データ記憶手段7のメモリ及び検
査データ記憶手段8のメモリをアクセスし、特徴データ
の比較判定を行・う。第8図に比較判定の処理手順を示
す。まず81において標準データ記憶手段7のメモリ及
び検査データ記憶手段8のメモリから最初の標準データ
(判定コートCH1X座標Xo、V座標YH)及び検査
データ(判定コートCゆ、X座標xK、)’座標YX)
を読む。次に82で標準データと検査データの位置座標
の大小を比較し標準データの位置が検査データの位置を
越えている場合、83において未判定の標準データが標
準データ記憶手段7のメモリに残っているかどうかを判
定し、残っている場合に84で次の標準データを読み込
み再び82の判定にかける。
ンピュータにより標準データ記憶手段7のメモリ及び検
査データ記憶手段8のメモリをアクセスし、特徴データ
の比較判定を行・う。第8図に比較判定の処理手順を示
す。まず81において標準データ記憶手段7のメモリ及
び検査データ記憶手段8のメモリから最初の標準データ
(判定コートCH1X座標Xo、V座標YH)及び検査
データ(判定コートCゆ、X座標xK、)’座標YX)
を読む。次に82で標準データと検査データの位置座標
の大小を比較し標準データの位置が検査データの位置を
越えている場合、83において未判定の標準データが標
準データ記憶手段7のメモリに残っているかどうかを判
定し、残っている場合に84で次の標準データを読み込
み再び82の判定にかける。
82の判定で検査データの位置が標準データの位置に達
するかあるいは達しない場合、85において標準データ
と検査データの一致判定を行い一致しない場合、86は
未判定の検査データが検査データ記憶手段8のメモリに
残っているかどうかを判定し、残っている場合に87で
次の検査データを読み込み再び82の判定にかける。8
5の判定で標準データと検査データが一致した場合、当
該標準データ及び検査データをメモリから消去する。そ
して89において未判定の標準データ及び検査データが
標準データ記憶手段7のメモリ及び検査データ記憶手段
8のメモリに残っているかどうかを判定し、残っている
場合に90で次の標準データ及び検査データを読み込み
再び82の判定にかける。82と85におLjる位置座
標の大小比較は、座標を示ず2値データの所定の上位ビ
ットに関して行うことにより、標準基板と検査基板の微
少な位置ずれの影響を受けずに判定することができる。
するかあるいは達しない場合、85において標準データ
と検査データの一致判定を行い一致しない場合、86は
未判定の検査データが検査データ記憶手段8のメモリに
残っているかどうかを判定し、残っている場合に87で
次の検査データを読み込み再び82の判定にかける。8
5の判定で標準データと検査データが一致した場合、当
該標準データ及び検査データをメモリから消去する。そ
して89において未判定の標準データ及び検査データが
標準データ記憶手段7のメモリ及び検査データ記憶手段
8のメモリに残っているかどうかを判定し、残っている
場合に90で次の標準データ及び検査データを読み込み
再び82の判定にかける。82と85におLjる位置座
標の大小比較は、座標を示ず2値データの所定の上位ビ
ットに関して行うことにより、標準基板と検査基板の微
少な位置ずれの影響を受けずに判定することができる。
以上の処理を未判定の特徴データがなくなるまで繰り返
し、最終的に標準データ記憶手段7のメモリ及び検査デ
ータ記憶手段8のメモリに残った特徴データが欠陥の位
置及び特徴を示すものである。
し、最終的に標準データ記憶手段7のメモリ及び検査デ
ータ記憶手段8のメモリに残った特徴データが欠陥の位
置及び特徴を示すものである。
発明の効果
以上のように本発明は標準基板と検査基板の両方につい
て、配線パターンの形状及び幅に関する特徴を検出し、
その特徴の組み合せで欠陥パター5 ンの有する特徴かどうかを判定し、欠陥の特徴があると
判定された場合その位置座標及び判定結果を記憶し、記
憶された標準データと検査データを比較することにより
、検査基板上の特殊パターンや文字記号の存在による誤
報を防ぎ正確な検査が行える。
て、配線パターンの形状及び幅に関する特徴を検出し、
その特徴の組み合せで欠陥パター5 ンの有する特徴かどうかを判定し、欠陥の特徴があると
判定された場合その位置座標及び判定結果を記憶し、記
憶された標準データと検査データを比較することにより
、検査基板上の特殊パターンや文字記号の存在による誤
報を防ぎ正確な検査が行える。
第1図は本発明の一実施例におけるパターン検査装置の
ブロック結線図、第2図は同装置における要部パターン
検知手段及び2値化手段のブロック結線図、第3図は同
装置における要部パターン形状判定手段、パターン幅判
定手段、特徴判定手段、特徴データ切替手段、標準デー
タ記憶手段及び検査データ記憶手段のブロック結線図、
第4図は同パターン形状判定手段における判定方法を示
す概念図、第5図(a)、(b)は同パターン幅判定手
段における判定方法を示す概念図及び詳細ブロック結線
図、第6図は同特徴判定手段における判定方法を示す概
念図、第7図は同標準データ記憶手段及び検査データ記
憶手段における特徴データの記6 憶内容を示す概念図、第8図は同比較判定手段における
処理手順を示す流れ図である。 ■・・・・・・パターン検出手段、2・・・・・・2値
化手段、3・・・・・・パターン形状判定手段、4・・
・・・パターン幅判定手段、5−・・−特徴判定手段、
6・・・・・特徴データ切替手段、7・・・・・・標準
データ記憶手段、8・・・・検査データ記憶手段、9・
・・・・・比較判定手段。
ブロック結線図、第2図は同装置における要部パターン
検知手段及び2値化手段のブロック結線図、第3図は同
装置における要部パターン形状判定手段、パターン幅判
定手段、特徴判定手段、特徴データ切替手段、標準デー
タ記憶手段及び検査データ記憶手段のブロック結線図、
第4図は同パターン形状判定手段における判定方法を示
す概念図、第5図(a)、(b)は同パターン幅判定手
段における判定方法を示す概念図及び詳細ブロック結線
図、第6図は同特徴判定手段における判定方法を示す概
念図、第7図は同標準データ記憶手段及び検査データ記
憶手段における特徴データの記6 憶内容を示す概念図、第8図は同比較判定手段における
処理手順を示す流れ図である。 ■・・・・・・パターン検出手段、2・・・・・・2値
化手段、3・・・・・・パターン形状判定手段、4・・
・・・パターン幅判定手段、5−・・−特徴判定手段、
6・・・・・特徴データ切替手段、7・・・・・・標準
データ記憶手段、8・・・・検査データ記憶手段、9・
・・・・・比較判定手段。
Claims (3)
- (1) プリント基板あるいはホトマスクに形成された
配線パターンを光学的に検知し光電変換するパターン検
知手段と、前記光電変換された信号を所定ピッチでサン
プリングし2値データに変換する2値化手段と、前記2
値データを窓走査しその窓の中心位置がパターン上にあ
るとき窓内パターン構造を所定の論理と比較しパターン
の形状を判定するパターン形状判定手段と、当該走査位
置において前記窓の中心位置を通るパターン幅を測長し
その測長値と所定の条件との一致判定を行うパターン幅
判定手段と、そのパターン形状とパターン幅判定結果の
組み合せから欠陥パターンか否かを判定し欠陥パターン
の場合その判定コード及び前記窓の走査位置を特徴デー
タとして出力する特徴判定手段と、標準パターンの入力
と検査パターンの入力の各々の特徴データの記憶先を切
り替える特徴データ切替手段と、前記特徴データ切替手
段の切替えにより前記標準パターンの特徴データを記憶
する標準データ記憶手段と、前記特徴データの切替手段
の切替えにより前記検査パターンの特徴データを記憶す
る検査データ記憶手段と、前記標準データ記憶手段及び
前記検査データ記憶手段に記憶された特徴データを比較
し相違を判定する比較判定手段とを具備するパターン検
査装置。 - (2) パターン形状判定手段は、パターンのエッジを
検出し走査窓の中心位置がエッジ上にあるとき、前記中
心位置に対し所定サイズ半径のリング領域内のパターン
の占める面積比率からエッジの凹凸を判定することを特
徴とする請求項(1)記載のパターン検査装置。 - (3) パターン幅判定手段は、パターンのエッジを検
出し走査窓の中心位置がエッジ上にあるとき、前記中心
位置を通る所定方向の直線上に連続するパターンの幅の
うち、最小のパターン幅を選択し標準線幅と比較判定す
ることを特徴とする請求項(1)記載のパターン検査装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14169489A JPH0726827B2 (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14169489A JPH0726827B2 (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | パターン検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH036410A true JPH036410A (ja) | 1991-01-11 |
| JPH0726827B2 JPH0726827B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=15298039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14169489A Expired - Fee Related JPH0726827B2 (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | パターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0726827B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01179813A (ja) * | 1988-01-09 | 1989-07-17 | Daikichi Hajiki | 廃タイヤ燃焼方法及びその装置 |
| WO2000065407A1 (en) * | 1999-04-21 | 2000-11-02 | Seiko Instruments Inc. | Photomask correction device |
| JP2002323749A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクの欠陥部ないし修正後の欠陥部の判定方法 |
| JP2009036736A (ja) * | 2007-08-04 | 2009-02-19 | Djtech Co Ltd | 印刷半田検査方法及び装置 |
-
1989
- 1989-06-02 JP JP14169489A patent/JPH0726827B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01179813A (ja) * | 1988-01-09 | 1989-07-17 | Daikichi Hajiki | 廃タイヤ燃焼方法及びその装置 |
| WO2000065407A1 (en) * | 1999-04-21 | 2000-11-02 | Seiko Instruments Inc. | Photomask correction device |
| KR100720215B1 (ko) * | 1999-04-21 | 2007-05-21 | 에스아이아이 나노 테크놀로지 가부시키가이샤 | 포토마스크 수정장치 |
| JP2002323749A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクの欠陥部ないし修正後の欠陥部の判定方法 |
| JP2009036736A (ja) * | 2007-08-04 | 2009-02-19 | Djtech Co Ltd | 印刷半田検査方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0726827B2 (ja) | 1995-03-29 |
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