JPH0364930B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体及びその製造方法に係
り、特に磁性層上にオーバコート層を有する薄膜
形磁気記録媒体において、オーバコート層をプラ
ズマ重合層とその上に形成された有グラフト層に
より構成し、スペーシングロスを少なくしかつ走
行性、耐摩耗性及び耐蝕性を改良した磁気記録媒
体及びその製造方法に関する。 従来技術 従来の磁気記録媒体の多くは、いわゆる塗布形
磁気記録媒体に属している。これは強磁性粉末を
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂からなる結合剤に
混練分散させた磁性塗料を支持体上に塗布乾燥さ
せて磁気記録媒体を形成したものである。しかし
ながら、この塗布形磁気記録媒体は、酸化鉄のよ
うな金属酸化物を磁性材料に使用しているため強
磁性金属よりは飽和磁化が小さいことと、磁性材
料の充填密度が結合剤の分だけ小さいことのため
高密度記録ができにくいのみならず、塗布膜の膜
厚が大きくなるため例えばビテイオ機器に使用さ
れた場合磁気ヘツドに走査される部分は塗布膜の
表層部に限られるので塗布膜の走査されないでロ
スになる部分すなわちスペーシングロスが大きく
なり、その結果再生出力も小さくならざるを得な
いという欠点がある。 近年、記録すべき情報量の増大に伴い高密度記
録が可能な磁気記録媒体の出現がのぞまれるよう
になつてきた。このようなものとしては磁性材料
の充填密度を高めることが出来るとともに飽和磁
化を大きくできるものが好ましいが、このような
ものとして強磁性金属層は支持体上に直接設けた
いわゆる薄膜形磁気記録媒体が真空蒸着法、スパ
ツタリング、イオンプレーテイング、メツキ等の
方法により作成可能になつてきた。 しかし、このような薄膜形磁気記録媒体の強磁
性層は空気中にさらされるとその金属が酸素や水
分により酸化されるので耐蝕性に乏しく、また、
機械的強度が弱く摩擦係数も大きいため磁気ヘツ
ド、ガイドローラ、ライナ等との摩擦により傷が
つき易い。このように酸化腐食されることにより
生成される例えば酸化鉄は飽和磁化が小さくなり
それだけ記録媒体としての記録密度を減少させる
のみならず、この腐食された部分や傷が生じた部
分がノイズの原因になることもある。このように
強磁性層の摩擦係数が大きいことはまた、上記磁
気ヘツド等に接触するときの走行性が良くないこ
とにもなり、これは一定速度で記録又は再生する
ことを妨げ、記録又は再生の質を低下させる原因
になつている。 このような薄膜形磁気記録媒体の欠点を改善す
るために、これまで強磁性層上にオーバコート層
を塗布、真空蒸着、スパツタリング、イオンプレ
ーテイング等の方法により設ける試みがなされて
きた。このようなものとしては次のようなものが
挙げられる。 真空蒸着法により、ロジウム、クロムのよう
な金属や、WC、TiO₂、CaF₂、MgF₂のような
高硬度無機物、金属石鹸のような潤滑性有機物
によるオーバコート層を設ける。 潤滑性有機物を塗布する塗布法により潤滑性
有機物含有層のオーバコート層を設ける。 プレポリマー液を塗布した後、塗布膜に紫外
線を照射して重合反応を起こさせて重合体のオ
ーバコート層を設ける。 特開昭57−167132号公報、同57−167133号公
報、同57−167134号公報に記載されているよう
に、強磁性層上に窒素ガス又は酸素ガスのイオ
ン又はこれらのガスをプラズマ処理することに
より窒化膜、酸化膜を形成する。 特開昭57−135442号公報に記載されているよ
うに強磁性層上に、非弗素含有モノマーガスと
含弗素有機物モノマーガスをプラズマ重合させ
てこの重合体のオーバコート層を設ける。 昭和58年電子通信学会総会全国大会No.175
（1983）に報告されているように、有機珪素系
プラズマ重合膜のオーバーコート層を設ける。 特開昭57−164434号公報に記載されているよ
うに磁性金属蒸着薄膜の表面をグロー処理した
後、高分子と潤滑剤を蒸着したオーバコート層
を設ける。 しかしながら、上記、で得られた蒸着膜及
び塗布膜は、膜強度が小さく、特に高分子塗布膜
の場合は薄膜にするのが困難で膜厚が厚くなり、
そのためスペーシングロスを生じ出力低下を招
く。また、の方法で得られた塗布硬化層は、す
べり性があまりないので長期にわたり潤滑特性を
維持することが困難である。また、の方法で得
られた窒化、酸化膜は走行性の点で安定性を欠
く。また、の方法で得られた弗素含有有機物か
らなるプラズマ重合体のオーバコート層は、走行
性、耐摩擦性の点で満足な特性が得られない。ま
た、の有機珪素系プラズマ重合体のオーバコー
ト層は耐蝕性としては良好な特性を示すが、十分
な耐摩耗性、走行性を得るには比較的厚い膜を必
要とし、これはスペーシングロスを大きくする欠
点がある。さらにの高分子と潤滑剤によるオー
バコート層は耐摩耗性において満足な特性が得ら
れない。 また、特開昭57−164433号公報には、窒素プラ
ズマにより磁性金属蒸着薄膜の表面を窒化処理し
て窒化金属層を形成し、その上に真空雰囲気下で
高分子、高級脂肪酸、脂肪酸エステル等の保護膜
を形成させる方法も記載されているが、この保護
膜は窒化金属層に物理的に接着しているに過ぎな
いので、と同様に耐摩耗性において不十分であ
る。 以上のように、薄膜系磁気記録媒体用のオーバ
コート層としては従来、スペーシングロスを少な
くしてかつ走行性、耐摩耗性及び磁性層の耐蝕性
を向上する保護機能を有するものがなく、その改
善が望まれていた。 発明の目的 本発明の目的は、特に薄膜形磁気記録媒体の走
行性、耐摩耗性及び耐蝕性の改良にあり、特に支
持体上に設けた強磁性層上のオーバコート層の走
行性、耐摩耗性及び磁性層の耐蝕性を向上するそ
の保護機能の改良を直接の目的とするものであ
る。 発明の構成 本発明は、上記目的を達成するために磁性層
に、プラズマ重合層に有機物処理層を有するオー
バコート層を設け、プラズマ重合層の持つ特長、
すなわち薄膜の形成が可能でかつこの薄膜状態で
均一性、高耐久性を持つとともに緻密性に基づく
磁性層に対する耐蝕性を有する特性と、グラフト
層がもつ潤滑性及び上記プラズマ重合層に対する
強固な接着性に基づく耐摩耗性の特性を利用しこ
れらが単独では得られないような両者を組み合わ
せたことにより両者の特性を相乗的に発揮出来る
ようにした磁気記録媒体及びその製造方法を提供
するものである。 そのために、本発明の磁気記録媒体は、支持体
上に形成した磁性層と、この磁性層上の珪素を含
有したプラズマ重合層と、このプラズマ重合層表
面にアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸
エステルをグラフトされたグラフト層を有するこ
とを特徴とするものである。 また、本発明の磁気記録媒体の製造法は、支持
体上に磁性層を形成した後、この磁性層上に珪素
を含有した化合物をグロー放電下で重合させてプ
ラズマ重合層を形成し、この形成されたプラズマ
重合層に主にアクリル酸エステル及び／又はメタ
クリル酸エステルからなる蒸気を接触させて気相
処理することによりグラフト層を形成することを
特徴とするものである。 上記においてプラズマ重合層とは、気体化合物
をいわゆるプラズマ重合によつて成膜した層であ
つて、その重合体は気体化合物をプラズマ処理し
て生じた例えばラジカルを重合したものである。
このようなプラズマ重合体は、一般の不飽和化合
物のラジカル重合体のようにモノマーの繰り返し
構造ではなく、一般の重合体による層と比べて高
密度、高架橋の層が形成されるとともに、繰り返
し構造が欠如した均一構造の層が形成される。こ
のプラズマ重合層の重合体の構造は一般の重合体
のようにその使用する化合物の繰り返し構造によ
り捉えることができないので、その元素構成によ
り表わされる。この元素構成からすれば、本発明
のプラズマ重合層の重合体は、珪素を主要成分と
して含有することが好ましい。この珪素を含有し
た重合体は、有機珪素化合物から重合されるが、
珪素が含有されることによりその皮膜強度は増大
する。プラズマ重合層の重合体の珪素以外の元素
としては、炭素、酸素、窒素、水素、リン、イオ
ウ、塩素あるいは硼素等が挙げられる。特に好ま
しいのは、珪素を主要成分にしてこれとその他
に、炭素、酸素、水素からなるプラズマ重合体、
炭素、酸素、窒素、水素からなるプラズマ重合体
あるいは炭素、窒素、水素からなるプラズマ重合
体である。 このようなプラズマ重合層を形成するには、一
般にプラズマ重合法として知られているどのよう
な方法も適用できる。例えば誘電式電極により外
部からグロー放電させる方式の装置、容量式電極
により主に電極間にグロー放電させる方式の装置
その他三極式等特殊な方式の装置が使用出来る。 また、使用される原料も特に限定されないが、
珪素を含有する化合物のガスと必要に応じて他の
化合物あるいはアルゴン、ネオン等の不活性ガス
を混合して重合容器に導入し、ここでグロー放電
させることによつて支持体上に膜を析出させる方
法が好ましい。珪素を含有する化合物のガスとし
ては、モノシラン、ジシラン、テトラメチルシラ
ン、ビニルトリメチルシラン、アリルトリメチル
シラン、フエニルシラン、ジフエニルシラン、ト
リフエニルシラン、ジメチルシラン、トリヘキシ
ルシラン、テトラメトシシラン、テトラエトキシ
シラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキ
サン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシ
クロトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシ
ラザン、ヘキサメチルジシラン、ヘキサメチルジ
シルチアン、テトラフルオロシラン、テトラクロ
ルシラン、メチルトリクロルシラン、ビニルトリ
クロルシラン、アリルトリクロルシラン、フエニ
ルトリクロルシラン、ジメチルジクロルシラン、
ジメチルジフルオロシラン、ブロモメチルトリメ
チルシラン等の揮発性を有する珪素化合物でガス
になるものであればどのような化合物も使用でき
る。また、上記の他の化合物としては、水素、酸
素、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、塩素、弗
素、硫化水素、エチレン、アセチレン、ジボラ
ン、ホスゲン等の常温で気体の化合物であつても
良いし、また、メチルメタクリレート、スチレ
ン、アクリロニトリル、塩化ビニル、四弗化エチ
レン等のいわゆるモノマーであつも良いし、ベン
ゼン、トルエン、ヘキサン、アセトニトリル、パ
ーフルオロベンゼン、ピリジン、フラン、チオフ
エン、トリメチルフオスフアイト、トリメチルボ
レート等一般的には非重合性の化合物であつても
良い。これらのプラズマ重合に用いる化合物とし
ては、ガスとして扱う操作上の点から常温で沸点
が200℃以下の化合物が好ましく、150℃以下であ
るとより好ましい。 このようなプラズマ重合用原料が上記プラズマ
発生装置で処理されると例えばラジカルが発生
し、これが予め用意された後述する支持体の磁性
層に析出し重合体の層が形成される。 本発明におけるグラフト層は、主としてアクリ
ル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルの
モノマーをプラズマ重合層に接触させる、いわゆ
る気相処理を行うことにより形成される層であ
る。このグラフト層は、プラズマ重合層に対して
アクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エス
テルのモノマーがグラフトされることにより形成
されるが、プラズマ重合層の系成直後に形成され
ることが好ましい。このようにプラズマ重合層の
形成直後にグラフト層を形成すると、このグラフ
ト層はプラズマ重合層に対する密着性が良く、良
好な成膜性を示す。これは、プラズマ重合層の形
成直後はプラズマ重合層にラジカルが残存してお
り、これに原料の上記モノマーが付加してグラフ
ト重合するからである。このようにして形成され
たグラフト層は潤滑性があるとともに、耐摩耗性
も向上させることができる。 このようなグラフト層を形成させる気相処理を
行うには、原料のアクリル酸エステル及び／又は
メタクリル酸エステルの蒸気を作成し、これを単
にプラズマ重合相に接触させてグラフト化するこ
とが好ましいが、この際外部エネルギーを供給し
ても良く、このような外部エネルギーを供給する
手段としてはグロー放電、加熱、紫外線照射等の
手段がある。これらの外部エネルギー供給手段は
補助的に使用するのが好ましい。なお、上記有機
物蒸気を作成するには、単なる減圧の他、通常の
ヒータによる加熱、電子ビーム加熱等が利用され
る。 グラフト層を形成する原料としては主要成分と
しては珪素を含んでいないことが好ましく、その
原料としてはアクリル酸エステル及び／又はメタ
クリル酸エステルを主とするものが好ましい。 上記のようなプラズマ重合層及びグラフト層か
らなるオーバコート層の厚さは、全体で20Å〜
1000Åが好ましく、特に100Å〜500Åの範囲が好
ましい。20Å未満では薄過ぎて上記潤滑性を付与
するには不十分であり、一方1000Åを越えると磁
性層と磁気ヘツドとのスペーシングロスが大きく
なる。オーバコート層の上記厚さの範囲であれ
ば、プラズマ重合層と有機物処理層の層の厚さの
比は特に限定されるものではないが、プラズマ重
合層(A)に対し有機物処理層(B)の厚さは、(A)：(B)＝
１：１ないし(A)：(B)＝１：0.1の範囲が好ましい。 このようにしてプラズマ重合層にグラフト層を
有するオーバーコート層が形成されるが、グラフ
ト層はプラズマ重合層との界面ではプラズマ重合
層にアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸
エステルのグラフト層が混在し、表面に近づくに
つれて純粋のグラフト層になる場合も含み、アク
リル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステル
により処理されたことにより生じた層を総括した
ものである。この場合プラズマ重合層の珪素含有
率がグラフト重合層に近づくにつれて少なくなる
ようにしても良い。このようにするとプラズマ重
合層とグラフト層の接着性を更に向上できる。 以上のようなオーバコート層は支持体に形成さ
れた強磁性層に設けられるが、この強磁性層が塗
布型の場合には、強磁性層に使用できる強磁性粉
は、従来より使用されている公知のもので良く、
このような強磁性粉としては、γ−Fe₂O₃、Co含
有γ−Fe₂O₃、Co被着γ−Fe₂O₃、Fe₃O₄、Co含
有Fe₃O₄、CrO₂等の酸化物磁性粉、Fe、Ni、
Co、Fe−Ni−Co合金、Fe−Mn−Zn合金、Fe−
Ni−Zn合金、Fe−Co−Ni−Cr合金、Fe−Co−
Ni−Ｐ合金、Co−Ni合金等Fe、Ni、Coを主成
分とするメタル磁性粉等各種の強磁性粉が挙げら
れる。 強磁性層を直接支持体上に形成する場合にはそ
の方法として、公知の真空蒸着法、スパツタリン
グ法、イオンプレーテング法、メツキ法等が挙げ
られる。酸化物磁性粉やメタル磁性粉の中でも合
金の強磁性粉を使用する場合は、その組成が変化
しないように組成を制御して蒸着又はメツキ等を
しなければならない。支持体としては例えばプラ
スチツクフイルム挙げられ、その素材としてはポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレ−２，６
−ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピ
レン等のポリオレフイン類、セルローストリアセ
テート、セルロースダイアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリカーボネートなどが例示される。
また、Cu、Al、Znなどの非磁性金属、ガラス、
磁器、陶器等のセラミツク等の支持体も使用され
る。 支持体の形態はテープ、シート、カード、デイ
スク、ドラム等のいずれでも良く、形態に応じて
種々の材料が必要に応じて選択される。これらの
厚さはフイルム、シート状の場合は、約３〜
100μｍであり、デイスク、カード状の場合は30μ
ｍ〜10mm程度である。 以上のようにして支持体に設けられた磁性層に
プラズマ重合層とグラフト層とからなるオーバー
コート層を有する磁気記録媒体が作成されるが、
プラズマ重合層は架橋度が高く、その構造も均一
であるので機械的強度が大きく、これにより薄膜
状態でも耐摩耗性等の耐久性を有するとともに、
その緻密性からピンホール等の欠陥を生じること
が少なく空気中の酸素、水分等による磁気層への
侵入を阻止してその酸化を防止し磁気特性を損な
わないようにできる。またグラフト層は耐摩耗性
や酸素、水分の阻止効果も有する他に特に潤滑性
に優れているのでこの磁気記録媒体の例えば磁気
ヘツドに対する走行性も良くなる。特にアクリル
酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルがプ
ラズマ重合層にグラフト化されることにより化学
結合されているとこのグラフト層の耐摩耗性も向
上しプラズマ重合層の耐摩耗性との相乗効果によ
り磁気記録媒体の耐摩耗性もより一層向上する。
このようにして磁気記録媒体に必要な諸特性を備
えた薄膜のオーバコート層の形成が可能になる。 なお、本発明の磁気記録媒体の製造法により上
記のようにプラズマ重合層を形成するとき、重合
条件を適当に調整することによりプラズマ重合層
に内部応力を発生させ、これにより強磁性層に支
持体側に向かう反りを与えることができるため支
持体上に強磁性層を作成する際に生じる強磁性層
表面側に向かつて生じる反り（カツピング）を相
殺することができる。このカツピングを相殺する
プラズマ重合層の重合条件としては、例えばアル
ゴン等の混入ガス成分を少なくすることが好まし
い。 発明の効果 以上説明したように、本発明によれば、プラズ
マ重合層にグラフト層を有するオーバコート層を
強磁性層に設けたので、次のような効果が生じ
る。 (1) オーバーコート層はプラズマ重合層が耐摩耗
性に優れるのみならず、グラフト層もプラズマ
重合層に化学結合することにより密着性がすぐ
れるためこれまた耐摩耗性に優れ、長時間例え
ば磁気ヘツドにこすられてもその摩耗が少な
く、したがつて強磁性層に対する摩耗をなくす
ことができるので再生出力の変動を少なく出来
る。 (2) グラフト層は特に優れた潤滑性を有するので
例えば磁気ヘツドにこすられて走行するときも
走行性が良く、走行不良に基づく記録媒体に対
する画像あるいは録音の乱れを少なくできる。 (3) オーバコート層特にプラズマ重合層は緻密に
構成されているので、空気中の酸素あるいは水
分の強磁性層に対する侵入を防止できるので強
磁性層に対する耐蝕性を向上でき、長時間高
温、多湿の条件のもとに本発明の磁気記録媒体
が放置されても再生出力の劣化がなく、高い保
存性が得られる。 (4) オーバコート層はプラズマ重合層とグラフト
層の組合せにより上記(1)〜(3)の特性を有するよ
うにしたので層の厚さを薄くでき、これにより
磁気ヘツドと強磁性層との間のスペーシングロ
スを少なくできる。 実施例 次に本発明の実施例を第１図及び第２図に基づ
いて具体的に説明する。 第１図は、本発明の磁気記録媒体の製造装置の
説明図であつて、ベース送出室１、プラズマ重合
室２、気相処理室３及びベース巻取室４が順次連
通連設され、さらにベース送出室１、ベース送出
室１とプラズマ重合室２の間の連通路、気相処理
室３、及びベース巻取室４にはガス導入路６，
７，８，９がそれぞれ設けられ、プラズマ重合室
２と気相処理室３の間の連通路にはガス排出部１
０が設けられる。また、プラズマ重合室２には放
電電極１１，１１′及びプラズマ閉じ込め用の磁
石１２，１２′がそれぞれ対設されている。 この装置において、強磁性層形成済みのベース
（支持体）を、ベース送出室１に収容したベース
ロール１３から上記プラズマ重合室２、気相処理
室３を経由してベース巻取室４に順次巻き取られ
巻取りロール１４となるようにセツトする。この
後上記ベースロール２からベースが送出されて巻
き取られるまでの系内の脱気を行い、ついでベー
ス送出室１のガス導入路６及び巻取室４のガス導
入路９から不活性ガス（アルゴン）を系内に少量
流す。この状態でベースの搬送を開始し、ガス導
入路７からプラズマ重合用ガス、また、気相処理
室３のガス導入路８から気相処理用ガスをそれぞ
れ供給する。この状態でプラズマ重合室３に設け
られた放電電極１１，１１′に13.56MHzの高周波
電力を供給する。これによりプラズマ重合用ガス
はプラズマ処理され、これがベースに析出して重
合膜が形成される。この際、磁石１２，１２′は
プラズマ処理されたガスを電極１１，１１′間に
閉じ込めプラズマ重合室２以外で装置壁面にプラ
ズマ重合膜が生成するのを防止する。なお、図示
装置を予め縦向きに配置し、ベースを地面に対し
て垂直に搬送し、プラズマ重合室２内の気相中で
生成される樹脂粉体をベース上に堆積させないで
下方に落下させる。これによりベースに形成され
るプラズマ重合層の均一性が保たれる。 第２図は、本発明の磁気記録媒体を製造する製
造装置の他の例を示すものであつて、第１図とは
気相処理時間を長くした点、ベースを不活性ガス
プラズマ処理することにより清浄化する点で異な
り、さらにプラズマ重合室、気相処理室における
ガスの流れをベースの幅方向に対して均一になる
ようにしたものである。 図において、それぞれ円筒状のベース送出室２
１、プラズマ重合室２２、気相処理室２３及び巻
取室２４が順次環状に連通して設けられ、ベース
送出室２１に収容されたベースロール１３のベー
スがプラズマ重合室２２に設けられた放電電極兼
搬送ロール２５、気相処理室２３に設けられた後
述する搬送用つる巻形ロール２６に順次ガイドさ
れて巻取室２４で巻き取られ巻取りロール２７と
なる。この状態でベースの搬送を開始するととも
に、不活性ガス導入部２８から不活性ガスを導入
しこれを放電コイル２９によりプラズマにし、ベ
ースをこれにさらす。これによりベースに形成さ
れた強磁性層表面が清浄化される。このベースは
ついでプラズマ重合室２２で、ガス導入部３０か
ら導入されガス導入口兼放電電極３１と上記放電
電極兼搬送ロール２５との間でプラズマ処理され
たプラズマ重合用ガスに曝されてプラズマ重合層
を形成され、つぎの気相処理室２３に送出され
る。この気相処理室２３は第３図に示すように縦
長に形成され、これに上記搬送用つる巻ロール２
６が収容されこれにベースが上方導入部２３ａか
ら搬入されて垂直方向につる巻状に巻回されて下
方導出部２３ｂから導出される。この間気相処理
室２３の上記導入部と反対側に設けたガス導入部
３２から気相処理用ガスを導入しガス導入口３３
によりベースの幅方向に均一に拡散されてこのベ
ースのプラズマ重合層に接触させる。これにより
プラズマ重合層は気相処理用ガスと長く接触でき
るので、層の厚い処理層を形成できる。このよう
にしてグラフト層を形成されたベースは巻取室２
４で巻き取られる。なお、上記ガス導入口兼放電
電極３１も上記気相処理室のガス導入口と同様に
ガスをベースの幅方向に均一に拡散出来るもので
ある。なお、３４，３５，３６，３７はガス排出
路である。 実施例 １ 公知の方法で作成したCo−Ni蒸着テープを第
２図の装置にセツトし、系内を真空排気した後、
ベースの搬送を開始してアルゴンガスを不活性ガ
ス導入部２８から適当量導入し、このアルゴンガ
スを13.56MHz、50Wの高周波電力を供給された
放電コイル２９により処理してアルゴンプラズマ
を発生させ、そのスパツタ効果によりテープ表面
を清浄にした。再び系内を真空排気した後にビニ
ルトリメトキシシランと窒素の約１：１の混合ガ
スをプラズマ重合室２２内の圧が0.07torrになる
ように導入し、13.56MHz、250Wの高周波電力を
放電電極兼搬送ロール２５及び導入口兼放電電極
３１に供給することにより、ベースの磁性層上に
プラズマ重合層を形成した。 ついで、このようなプラズマ処理を施したテー
プをアクリル酸メチルで満たした気相処理室２３
に送り、プラズマ重合層の表面処理を行いグラフ
ト層を形成し、これを巻取室２４に送出しここで
巻き取つた。 このようにして作成した記録媒体のオーバコー
ト層の厚さ、走行性、耐蝕性及びスチル耐久性を
測定しその結果を第１表に示す。ここで、オーバ
コート層の厚さはRank Talor Hobson Limited
のタリステツプを用い通常の方法に従つて測定し
た。また、走行性は動マサツ係数を測定してしら
べ、この動マサツ係数は新東化学株式会社の回転
ドラム形表面性測定機を用い荷重30ｇ、回転数
66.9rpmで測定した。また、耐蝕性は磁性層の最
大磁場Hmax（20000e）における磁化σ_naxの劣化
を測定してしらべた。この測定には振動試料型磁
気測定装置を使用した。この磁化の劣化は60℃、
湿度80％に保たれた容器内に試験片を１週間放置
した後の磁化σ_naxを測定し試験片の当初の磁化
σ_naxに対する減少％で示す。また、スチル耐久性
は動作状態のVHSビデイオデツキにおいてテー
プの走行を止め、ビデイオ出力が3dB減少するま
での時間で表した。 比較例 １ 実施例１と同様に表面を清浄にした磁性層の露
出した実施例１と同様のテープを実施例１と同様
に試験した結果を第１表に示す。 比較例 ２ 実施例１のテープで露出し磁性層に実施例１と
同様にプラズマ重合層を形成したものを実施例１
と同様に試験した結果を第１表に示す。 比較例 ３ 比較例２でプラズマ重合層を形成したのちラウ
リル酸の0.1％トルエン溶液をこのプラズマ重合
層に塗布したものを実施例１と同様に試験しその
結果を第１表に示す。 比較例 ４ 実施例１と同様にして磁性層表面を清浄にした
テープを直接アクリル酸メチルの蒸気で満たした
気相処理室２３に送り、実施例１と同様にして気
相処理をしたものについて実施例１と同様の試験
を行いその結果を第１表に示す。 これらの結果から、実施例１のものは、比較例
１〜３のものと比較し、走行性、スチル耐久性、
比較例４のものに比べ耐蝕性、スチル耐久性につ
いて大幅の向上が見られた。これによりプラズマ
重合層とグラフト層の組合せの相乗効果が認めら
れる。

【表】 実施例 ２ 実施例１と同様にしてビニルトリメトキシシラ
ンをモノマーとするプラズマ重合層を磁性層上に
形成したテープをアクリル酸ブチルの蒸気で満た
した気相処理室２３に送り、グラフト層を形成し
た。この試験片について実施例１と同様に試験し
た結果を第２表に示す。なお、プラズマ重合層の
厚さを実施例１と同様に測定したところ250Åで
あつた。

【表】 実施例 ３、４ 実施例１と同様に第２図の装置を用いてテープ
表面をアルゴンプラズマ処理を行つたのち、ヘキ
サメチルジシロキサンと窒素との１：２の混合ガ
スをプラズマ重合室２２に圧が0.05torrになるよ
うに導入し、13.56MHz、250Wの高周波電力を導
入口兼放電電極３１及び放電電極兼搬送用ロール
２５に供給することにより、磁性層上にプラズマ
重合層を形成した。 ついで、このプラズマ重合層を形成したテープ
を実施例１及び実施例２で挙げた有機物蒸気で満
たした気相処理室２３に送り、プラズマ重合層の
上にそれぞれのグラフト層を形成した。これらの
それぞれの有機物に対応して実施例３、４とし
た。 これらの試験片を実施例１と同様に試験した結
果を第３表に示す。 比較例 ５ 実施例９においてプラズマ重合層のみを形成し
たものについて実施例１と同様の試験を行なつた
結果を第３表に示す。

【表】 実施例 ５、６ 実施例１と同様に第２図の装置によりテープ表
面をアルゴンプラズマ処理を行なつた後、テトラ
メチルシランと酸素との２：１の混合ガスをプラ
ズマ重合室２２に圧が0.07torrになるように導入
し、13.56MHz、200Wの高周波電力を導入口兼放
電電極３１及び放電電極兼搬送用ロール２５に供
給し、磁性層上にプラズマ重合層を形成する。 ついで実施例３、４と同様にグラフト層を形成
しそれぞれの有機物に対応して実施例５、６と
し、これらの試験片について実施例１と同様の試
験を行ないその結果を第４表に示す。 比較例 ６ 実施例17においてプラズマ重合層のみを形成し
たものについて実施例１と同様の試験を行ないそ
の結果を第４表に示す。

【表】 なお、上記実施例では第２図の装置を用いた場
であつたが、第１図の装置を用いてもほぼ同様の
結果が得られた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の製造法を実施
するとき使用する装置の一例の縦断面説明図、第
２図はその装置の他の例の平面説明図、第３図は
その気相処理室の縦断面説明図である。 図中、２，２２はプラズマ重合室、３，２３は
気相処理室である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 支持体上に形成した磁性層と、この磁性層上
   の珪素を含有したプラズマ重合層と、このプラズ
   マ重合層表面に主にアクリル酸エステル及び／又
   はメタクリル酸エステルをグラフトさせたグラフ
   ト層を有することを特徴とする磁気記録媒体。 ２ 支持体上に磁性層を形成した後、この磁性層
   上に珪素を含有した化合物をグロー放電下で重合
   させてプラズマ重合層を形成し、この形成された
   後のラジカルが残存するプラズマ重合層に主にア
   クリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステ
   ルからなる蒸気を接触させて気相処理することに
   よりグラフト層を形成することを特徴とする磁気
   記録媒体の製造法。