JPH0364931B2

JPH0364931B2 -

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Publication number: JPH0364931B2
Application number: JP58141930A
Authority: JP
Priority date: 1983-08-04
Filing date: 1983-08-04
Publication date: 1991-10-09
Also published as: JPS6035331A

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野本発明は、磁気記録媒体及びその製造方法に係
り、特に磁性層上にオーバコート層を有する薄膜
形磁気記録媒体において、オーバコート層をプラ
ズマ重合層とその上に形成された有グラフト層に
より構成し、スペーシングロスを少なくしかつ走
行性、耐摩耗性及び耐蝕性を改良した磁気記録媒
体及びその製造方法に関する。従来技術従来の磁気記録媒体の多くは、いわゆる塗布形
磁気記録媒体に属している。これは強磁性粉末を
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂からなる結合剤に
混練分散させた磁性塗料を支持体上に塗布乾燥さ
せて磁気記録媒体を形成したものである。しかし
ながら、この塗布形磁気記録媒体は、酸化鉄のよ
うな金属酸化物を磁性材料に使用しているため強
磁性金属より飽和磁化が小さいことと、磁性材料
の充填密度が結合剤の分だけ小さいことのため高
密度記録ができにくいのみならず、塗布膜の膜厚
が大きくなるため例えばビテイオ機器に使用され
た場合磁気ヘツドに走査される部分は塗布膜の表
層部に限られるので塗布膜の走査されないでロス
になる部分すなわちスペーシングロスが大きくな
り、その結果再生出力も小さくならざるを得ない
という欠点がある。近年、記録すべき情報量の増大に伴い高密度記
録が可能な磁気記録媒体の出現がのぞまれるよう
になつてきた。このようなものとしては磁性材料
の充填密度を高めることが出来るとともに飽和磁
化を大きくできるものが好ましいが、このような
ものとして強磁性金属層は支持体上に直接設けた
いわゆる薄膜形磁気記録媒体が真空蒸着法、スパ
ツタリング、イオンプレーテイング、メツキ等の
方法により作成可能になつてきた。しかし、このような薄膜形磁気記録媒体の強磁
性層は空気中にさらされるとその金属が酸素や水
分により酸化されるので耐蝕性に乏しく、また、
機械的強度が弱く摩擦係数も大きいため磁気ヘツ
ド、ガイドローラ、ライナ等との摩擦により傷が
つき易い。このように酸化腐食されることにより
生成される例えば酸化鉄は飽和磁化が小さくなり
それだけ記録媒体としての記録密度を減少させる
のみならず、この腐食された部分や傷が生じた部
分がノイズの原因になることもある。このように
強磁性層の摩擦係数が大きいことはまた、上記磁
気ヘツド等に接触するときの走行性が良くないこ
とにもなり、これは一定速度で記録又は再生する
ことを妨げ、記録又は再生の質を低下させる原因
になつている。このような薄膜形磁気記録媒体の欠点を改善す
るために、これまで強磁性層上にオーバコート層
を塗布、真空蒸着、スパツタリング、イオンプレ
ーテイング等の方法により設ける試みがなされて
きた。このようなものとしては次のようなものが
挙げられる。真空蒸着法により、ロジウム、クロムのよう
な金属や、WC、TiO₂、CaF₂、MgF₂のような
高硬度無機物、金属石鹸のような潤滑性有機物
によるオーバコート層を設ける。潤滑性有機物を塗布する塗布法により潤滑性
有機物含有層のオーバコート層を設ける。プレポリマー液を塗布した後、塗布膜に紫外
線を照射して重合反応を起こさせて重合体のオ
ーバコート層を設ける。特開昭57−167132号公報、同57−167133号公
報、同57−167134号公報に記載されているよう
に、強磁性層上に窒素ガス又は酸素ガスのイオ
ン又はこれらのガスをプラズマ処理することに
より窒化膜、酸化膜を形成する。特開昭57−135442号公報に記載されているよ
うに強磁性層上に、非弗素含有モノマーガスと
含弗素有機物モノマーガスをプラズマ重合させ
てこの重合体のオーバコート層を設ける。昭和58年電子通信学会総会全国大会No.175
（1983）に報告されているように、有機珪素系
プラズマ重合膜のオーバーコート層を設ける。特開昭57−164434号公報に記載されているよ
うに磁性金属蒸着薄膜の表面をグロー処理した
後、高分子と潤滑剤を蒸着したオーバコート層
を設ける。しかしながら、上記、で得られた蒸着膜及
び塗布膜は、膜強度が小さく、特に高分子塗布膜
の場合は薄膜にするのが困難でスペーシングロス
を生じ出力低下を招く。また、の方法で得られ
た塗布硬化層は、すべり性があまりないので長期
にわたり潤滑特性を維持することが困難である。
また、の方法で得られた窒化、酸化膜は走行性
の点で安定性を欠く。また、の方法で得られた
弗素含有有機物からなるプラズマ重合体のオーバ
コート層は、走行性、耐摩擦性の点で満足な特性
が得られない。また、の有機珪素系プラズマ重
合体のオーバコート層は重合体膜が緻密であるの
でピンホールが生じることが少なく空気中の酸素
や水分による浸食をうけることがなく磁性層の耐
蝕性としては良好な特性を示すが、十分な耐摩耗
性、走行性を得るには比較的厚い膜を必要とし、
これはスペーシングロスを大きくする欠点があ
る。さらにの高分子と潤滑剤によるオーバコー
ト層は耐摩耗性において満足な特性が得られな
い。また、特開昭57−164433号公報には、窒素プラ
ズマにより磁性金属蒸着薄膜の表面を窒化処理し
て窒化金属層を形成し、その上に真空雰囲気下で
高分子、高級脂肪酸、脂肪酸エステル等の保護膜
を形成させる方法も記載されているが、この保護
膜は窒化金属層に物理的に接着しているに過ぎな
いので、と同様に耐摩耗性において不十分であ
る。以上のように、薄膜形磁性記録媒体用のオーバ
コート層としては従来、スペーシングロスを少な
くしてかつ走行性、耐摩耗性及び磁性層の耐蝕性
を向上させる保護機能を有するものがなく、その
改善が望まれていた。発明の目的本発明の目的は、特に薄膜形磁気記録媒体の走
行性、耐摩耗性及び耐蝕性の改良にあり、特に支
持体上に設けた強磁性層上のオーバコート層の走
行性、耐摩耗性及び磁性層の耐蝕性を向上させる
その保護機能の改良を直接の目的とするものであ
る。発明の構成本発明は、上記目的を達成するために磁性層
に、プラズマ重合層にグラフト層を形成したオー
バコート層を設け、これによりプラズマ重合層の
持つ特長、すなわち薄膜の形成が可能でかつこの
薄膜状態で均一性、高耐久性を持つとともに緻密
性に基づく耐蝕性を有する特性と、グラフト層が
もつ潤滑性及び上記プラズマ重合層に対する強固
な接着性に基づく耐摩耗性の特性を利用しこれら
が単独では得られないような両者を組み合わせた
ことにより両者の特性を相乗的に発揮出来るよう
にした磁気記録媒体及びその製造方法を提供する
ものである。そのために、本発明の磁気記録媒体は、支持体
上に磁性層とこの磁性層を覆うオーバコート層を
有する磁気記録媒体において、上記オーバコート
層は酸素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素の
うち少なくとも１種類の元素と、炭素と、水素と
から主としてなるプラズマ重合層と、このプラズ
マ重合層表面にアクリル酸エステル及び／又はメ
タクリル酸エステルをグラフトさせたグラフト層
を有することを特徴とするものである。また、本発明の磁気記録媒体の製造法は、支持
体上に磁性層を形成した後、この磁性層上に酸
素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素のう少な
くとも１種類の元素と、炭素と、水素とから主と
してなる化合物の１種又は２種以上をグロー放電
下で重合させてプラズマ重合層を形成し、この形
成されたプラズマ重合層に主としてアクリル酸エ
ステル及び／又はメタクリル酸エステルからなる
蒸気を接触させて気相処理することにより有機物
処理層を形成することを特徴とするものである。上記においてプラズマ重合層とは、気体化合物
をいわゆるプラズマ重合によつて成膜した層であ
つて、その重合体は気体化合物をプラズマ処理し
て生じた例えばラジカルを重合したものである。
このようなプラズマ重合体は、一般の不飽和化合
物のラジカル重合体のようにモノマーの繰り返し
構造ではなく、一般の重合体による層と比べて高
密度、高架橋の層が形成されるとともに、繰り返
し構造が欠如した均一構造の層が形成される。こ
のプラズマ重合層の重合体の構造は一般の重合体
のようにその使用する気体化合物の繰り返し構造
により捉えることができないので、その元素構成
により表わされる。この元素構成からすれば、本
発明のプラズマ重合層の重合体は、酸素、窒素、
リン、イオウ、塩素又は硼素のうち少なくとも１
種と、炭素と、水素とから主としてなる重合体で
ある。このようなプラズマ重合層を形成するには、一
般にプラズマ重合法として知られているどのよう
な方法も適用できる。例えば誘電式電極により外
部からグロー放電させる方式の装置、容量式電極
により主に電極間にグロー放電させる方式の装置
その他三極式等特殊な方式の装置が使用出来る。また、使用される原料も特に限定されないが、
酸素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素のうち
少なくとも１種と、炭素と、水素とからなる化合
物の１種又は２種以上と、必要に応じて少量の他
の化合物すなわちアルゴン、ネオン、酸素等の非
プラズマ重合性のガスを混合して重合容器に導入
し、ここでグロー放電させることによつて支持体
上に膜を析出させる方法が好ましい。酸素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素のう
ち少なくとも１種と、炭素と、水素とからなる化
合物としては、例えばアクリル酸メチル、アクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
ベンジル等の（メタ）アクリル酸エステル類、エ
チレン、ブタジエン、ペンテン、アセチレン等の
不飽和脂肪族類、ピリジン、トルエン、スチレン
等の芳香族化合物類、ピリジン、フラン、チオフ
エン等の複素環式化合物類、トリメチルホスフア
イト、トリメチルボレート等のエステル類、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、クロルベンゼン等の含
塩素化合物類、トルイレン２，４−ジイソシアネ
ート等イソシアネート類等が挙げられる。また、
上記の少量の他の化合物としては、水素、酸素、
窒素、アルゴン、一酸化炭素、二酸化炭素、塩
素、硫化水素、ジボラン、ホスゲン等の化合物が
挙げられる。これらのプラズマ重合に用いる化合物としては
ガスとして扱う操作上の点から常温で沸点が200
℃以下の化合物が好ましく、150℃以下であると
より好ましい。このようなプラズマ重合用原料が上記プラズマ
発生装置で処理されると例えばラジカルが発生
し、これが予め用意された後述する支持体の磁性
層に析出し重合体の層が形成される。本発明におけるグラフト層は、主としてアクリ
ル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルの
モノマーをプラズマ重合層に接触させる、いわゆ
る気相処理を行うことにより形成される層であ
る。このグラフト層は、プラズマ重合層に対して
アクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エス
テルのモノマーがグラフトされることにより形成
されるが、プラズマ重合層の形成直後に形成され
ることが好ましい。このようにプラズマ重合層の
形成直後にグラフト層を形成すると、このグラフ
ト層はプラズマ重合層に対する密着性が良く、良
好な成膜性を示す。これは、プラズマ重合層の形
成直後はプラズマ重合層にラジカルが残存してお
り、これに原料の上記モノマーが付加してグラフ
ト重合するからである。このようにして形成され
たグラフト層は潤滑性があるとともに、耐摩耗性
も向上させることができる。このようなグラフト層を形成させる気相処理を
行うには、原料のアクリル酸エステル及び／又は
メタクリル酸エステルの蒸気を作成し、これを単
にプラズマ重合相に接触させてグラフト化するこ
とが好ましいが、この際外部エネルギーを供給し
ても良く、このような外部エネルギーを供給する
手段としてはグロー放電、加熱、紫外線照射等の
手段がある。これらの外部エネルギー供給手段は
補助的に使用するのが好ましい。なお、蒸気有機
物蒸気を作成するには、単なる減圧の他、通常の
ヒータによる加熱、電子ビーム加熱等が利用され
る。グラフト層を形成する原料としては主要成分と
しては珪素を含んでいないことが好ましく、その
原料としてはアクリル酸エステル及び／又はメタ
クリル酸エステルモノマーを主とするものが好ま
しい。上記のようなプラズマ重合層及びグラフト層か
らなるオーバコート層の厚さは、全体で20Å〜
1000Åが好ましく、特に100Å〜500Åの範囲が好
ましい。20Å未満では薄過ぎて上記潤滑性を付与
するには不十分であり、一方1000Åを越えると磁
性層と磁気ヘツドとのスペーシングロスが大きく
なる。オーバコート層の上記厚さの範囲であれ
ば、プラズマ重合層(A)と有機物処理層(B)の層の厚
さの比は特に限定されるものではないが、(A)：(B)
＝１：１ないし(A)：(B)＝１：0.1の範囲が好まし
い。このようにしてプラズマ重合層にグラフト層を
有するオーバーコート層が形成されるが、グラフ
ト層はプラズマ重合層との界面ではプラズマ重合
層にアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸
エステルのグラフト層が混在し、表面に近づくに
つれて純粋のグラフト層になる場合も含み、アク
リル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステル
により処理されたことにより生じた層を総括した
ものである。以上のようなオーバコート層は支持体に形成さ
れた強磁性層に設けられるが、この強磁性層が塗
布型の場合には、この強磁性層に使用できる強磁
性粉は、従来より使用されている公知のもので良
く、このような強磁性磁性粉としてはγ−
Fe₂O₃、Co含有γ−Fe₂O₃、Co被着γ−Fe₂O₃、
Fe₃O₄、Co含有Fe₃O₄、CrO₂等の酸化物磁性粉：
Fe、Ni、Co、Fe−Ni−Co合金、Fe−Mn−Zn
合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe−Co−Ni−Cr合金、
Fe−Co−Ni−Ｐ合金、Co−Ni合金等Fe、Ni、
Coを主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁性
粉が挙げられる。強磁性層を直接支持体上に形成する場合にはそ
の方法として、公知の真空蒸着法、スパツタリン
グ法、イオンプレーテング法、メツキ法等が挙げ
られる。酸化物磁性粉やメタル磁性粉の中でも合
金の強磁性粉を使用する場合は、その組成が変化
しないように組成を制御して蒸着又はメツキ等を
しなければならない。支持体としては例えばプラスチツクフイルムが
挙げられ、その素材としてはポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレ−２，６−ナフタレート等
のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレ
フイン類、セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリカ
ーボネートなどが例示される。また、Cu、Al、
Znなどの非磁性金属、ガラス、磁器、陶器等の
セラミツク等の支持体も使用される。支持体の形態はテープ、シート、カード、デイ
スク、ドラム等のいずれでも良く、形態に応じて
種々の材料が必要に応じて選択される。これらの
厚さはフイルム、シート状の場合は、約３〜
100μｍであり、デイスク、カード状の場合は30μ
ｍ〜10mm程度である。以上のようにして支持体に設けられた磁性層に
プラズマ重合層とグラフト層とからなるオーバー
コート層を有する磁気記録媒体が作成されるが、
プラズマ重合層は架橋度が高く、その構造も均一
であるので機械的強度が大きく、これにより薄膜
状態でも耐摩耗性等の耐久性を有するとともに、
その緻密性からピンホール等の欠陥を生じること
が少なく空気中の酸素、水分等による磁気層への
侵入を阻止してその酸化を防止し磁気特性を損な
わないようにできる。またグラフト層は耐摩耗性
や酸素、水分の阻止効果も有する他に特に潤滑性
に優れているのでこの磁気記録媒体の例えば磁気
ヘツドに対する走行性も良くなる。特にアクリル
酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルがプ
ラズマ重合層にグラフト化されることにより化学
結合されているとこのグラフト層の耐摩耗性も向
上しプラズマ重合層の耐摩耗性との相乗効果によ
り磁気記録媒体の耐摩耗性もより一層向上する。
このようにして磁気記録媒体に必要な諸特性を備
えた薄膜のオーバコート層の形成が可能になる。なお、本発明の磁気記録媒体の製造法により、
上記のようにプラズマ重合層を形成するとき、重
合条件を適当に調整することによりプラズマ重合
層に内部応力を発生させ、これにより強磁性層に
支持体側に向かう反りを与えることができるため
支持体上に強磁性層を作成する際に生じる強磁性
層表面側に向かつて生じる反り（カツピング）を
相殺することができる。このカツピングを相殺す
るプラズマ重合層の重合条件としては、例えばア
ルゴン等の混入ガス成分を少なくすることが好ま
しい。発明の効果以上説明したように、本発明によれば、プラズ
マ重合層にグラフト層を有するオーバコート層を
強磁性層に設けたので、次のような効果が生じ
る。 (1) オーバーコート層はプラズマ重合層が耐摩耗
性に優れるのみならず、グラフト層もプラズマ
重合層に化学結合することにより密着性がすぐ
れるためこれまた耐摩耗性に優れ、長時間例え
ば磁気ヘツドにこすられてもその摩耗が少な
く、したがつて強磁性層に対する摩耗をなくす
ことができるので再生出力の変動を少なく出来
る。 (2) グラフト層は特に優れた潤滑性を有するので
例えば磁気ヘツドにこすられて走行するときも
走行性が良く、走行不良に基づく記録媒体に対
する画像あるいは録音の乱れを少なくできる。 (3) オーバコート層特にプラズマ重合層は空気中
の酸素や水分の強磁性層に対する侵入を防止で
きるので強磁性層に対する耐蝕性を向上でき、
長時間高温、多湿の条件のもとに本発明の磁気
記録媒体が放置されても再生出力の劣化がな
く、高い保存性が得られる。 (4) オーバコート層は薄膜にできるので、磁気ヘ
ツドと強磁性層との間のスペーシングロスを少
なくでき、出力の低下がないようにできる。実施例次に本発明の実施例を第１図及び第２図に示す
装置を参照し具体的に説明する。第１図は、本発明の磁気記録媒体を製造すると
き使用する装置の説明図であつて、ベース送出室
１、プラズマ重合室２、気相処理室３及びベース
巻取室４が順次連通して設けられ、さらにベース
送出室１、ベース送出室１とプラズマ重合室２の
間の連通路、気相処理室３、及びベース巻取室４
にはガス導入路６，７，８，９がそれぞれ設けら
れ、プラズマ重合室２と気相処理室３の間の連通
路にはガス排出路１０が設けられている。また、
プラズマ重合室２には放電電極１１，１１′及び
プラズマ閉じ込め用の磁石１２，１２′がそれぞ
れ対設されている。この装置において、強磁性層形成済みのベース
（支持体）を、ベース送出室１に収容したベース
ロール１３から上記プラズマ重合室２、気相処理
室３を経由してベース巻取室４に順次巻き取られ
るようにセツトする。この後上記ベースロール２
からベースが送出されて巻き取られるまでの系内
の脱気を行い、ついでベース送出室１のガス導入
路６及び巻取室４のガス導入路９から不活性ガス
（アルゴン）を系内に少量流す。この状態でベー
スの搬送を開始し、ガス導入路７からプラズマ重
合用ガス、また、気相処理室３のガス導入路８か
ら気相処理用ガスをそれぞれ供給する。この状態
でプラズマ重合室３に設けられた放電電極１１，
１１′に13.56MHzの高周波を供給する。これによ
りプラズマ重合用ガスはプラズマ処理され、これ
がベースに析出して重合膜が形成される。この際
磁石１２，１２′はプラズマ処理されたガスを電
極１１，１１′間に閉じ込めプラズマ重合室２以
外で装置壁面にプラズマ重合膜が生成するのを防
止する。なお、図示装置は予め縦向きに配置さ
れ、ベースを地面に対して垂直に搬送し、プラズ
マ重合室２内の気相中で生成される樹脂粉体がベ
ース上に堆積されないように下方に落下される。
これによりベースに形成されるプラズマ重合層の
均一性が保たれることになる。第２図は、本発明の磁気記録媒体を製造する製
造装置の他の例を示す平面説明図であつて、第１
図とは気相処理時間を長くした点、ベースを不活
性ガスプラズマ処理することにより清浄化する点
で異なり、さらにプラズマ重合室、気相処理室に
おけるガスの流れをベースの幅方向に対して均一
になるようにしたものである。図において、それぞれ円筒状のベース送出室２
１、プラズマ重合室２２、気相処理室２３及び巻
取室２４が順次環状に連通連設され、ベース送出
室２１に収容されたベースロール１３のベースが
プラズマ重合室２２に設けられた放電電極兼搬送
ロール２５、気相処理室２３に設けられた後述す
る搬送用つる巻形ロール２６に順次ガイドされて
巻取室２４で巻き取られ巻取りロール２７とな
る。この状態でベースの搬送を開始するととも
に、不活性ガス導入部２８から不活性ガスを導入
しこれを放電コイル２９によりプラズマ化し、ベ
ースをこれにさらす。これによりベース上の強磁
性層表面が清浄化される。このベースはついでプ
ラズマ重合室２２で、ガス導入部３０から導入さ
れガス導入口兼放電電極３１と上記放電電極兼搬
送ロール２５との間でプラズマ処理されたプラズ
マ重合用ガスに曝され、ここでプラズマ重合層を
形成されてつぎの気相処理室２３に送出される。
この気相処理室２３は第３図の縦断面図に示すよ
うに縦長に形成され、これに上記搬送用つる巻ロ
ール２６が収容されこれにベースが上方導入部２
３ａから搬入されて垂直方向につる巻状に巻回さ
れ、その端部が下方導出部２３ｂから導出され
る。この間気相処理室２３の上記導入部と反対側
に設けたガス導入部３２から気相処理用ガスを導
入しガス導入口３３によりこのガスをベースの幅
方向に均一に拡散されてこのベースのプラズマ重
合層に接触させる。これによりプラズマ重合層は
気相処理用ガスと長く接触できるので、厚い処理
層を形成できる。このようにしてグラフト層を形
成されたベースは巻取室２４で巻き取られる。な
お、上記ガス導入口兼放電電極３１も上記気相処
理室のガス導入口と同様にガスをベースの幅方向
に均一に拡散出来るものである。なお、３４，３
５，３６，３７はガス排出路である。実施例１公知の方法で作成したCo−Ni蒸着テープを第
２図の装置にセツトし、系内を真空排気する。こ
の後、ベースの搬送を開始してアルゴンガスを不
活性ガス導入部２８から適当量導入し、このアル
ゴンガスを13.56MHz、50Wの高周波電力を供給
された放電コイル２９により処理してアルゴンプ
ラズマを発生させ、そのスパツタ効果によりテー
プ表面を清浄にする。再び系内を真空排気した後
にエチレンガスををプラズマ重合室２２内にその
室内圧が0.05torrになるように導入し、ついで
13.56MHz、250Wの高周波電力を放電電極兼搬送
ロール２５及び導入口兼放電電極３１に供給する
ことにより、ベースの磁性層上にプラズマ重合層
を形成する。ついで、このようなプラズマ処理を施したテー
プをアクリル酸メチルで満たした気相処理室２３
に送り、プラズマ重合層の表面処理を行つてグラ
フト層を形成する。そしてこのテープを巻取室２
４に送出しここで巻き取る。このようにして作成した磁気記録テーププのオ
ーバコート層の厚さ、走行性、耐蝕性及びスチル
耐久性を測定しその結果を第１表に示す。ここ
で、オーバコート層の厚さはRank Talor
Hobson Limi−tedのタリステツプを用い通常の
方法に従つて測定した。また、走行性は動マサツ
係数を測定してしらべ、この動マサツ係数は新東
化学株式会社の回転ドラム形表面性測定機を用
い、荷重30ｇ、回転数66.9rpmで測定した。ま
た、耐蝕性は磁性層の最大磁場Hmax（20000e）
における磁化σ_naxの劣化を測定してしらべた。こ
の測定には振動試料型磁気測定装置を用いた。こ
の磁化の劣化は60℃、湿度80％に保たれた容器内
に試験片を１週間放置した後の磁化σ_naxを測定し
試験片の当初の磁化σ_naxに対する減少％で示す。
また、スチル耐久性は動作状態のVHS型ビデオ
デツキにおいてテープの走行を止め、ビデオ出力
が3dB減少するまでの時間で表わす。比較例１実施例１と同様に磁性層表面を清浄にしたテー
プを実施例１と同様に試験した結果を第１表に示
す。比較例２実施例１において清浄化処理した磁性層に実施
例１と同様にプラズマ重合層を形成したものを実
施例１と同様に試験した結果を第１表に示す。比較例３比較例２においてプラズマ重合層を形成したの
ちラウリル酸の0.1％トルエン溶液をこのプラズ
マ重合層に塗布したものを実施例１と同様に試験
しその結果を第１表に示す。比較例４実施例１と同様にして磁性層表面を清浄にした
テープを直接アクリル酸メチルの蒸気で満たした
気相処理室２３に送り、実施例１と同様にして気
相処理をしたものについて実施例１と同様の試験
を行いその結果を第１表に示す。これらの結果から、実施例１のものは、比較例
１〜３のものと比較し、走行性、スチル耐久性に
おいて、また、比較例４のものに比べ耐蝕性、ス
チル耐久性において大幅の向上が見られた。これ
によりプラズマ重合層とグラフト層の組合せの相
乗効果が認められる。

【表】実施例２実施例１と同様にしてエチレンをモノマーとす
るプラズマ重合層を磁性層上に形成したテープを
アクリル酸ブチルの蒸気で満たした気相処理室２
３に送り、グラフト層を形成した。この試験片に
ついて実施例１と同様に試験した結果を第２表に
示す。なお、プラズマ重合層の厚さを実施例１と
同様に測定したところ250Åであつた。

【表】この結果、本実施例２はいずれの特性もよい結
果を示している。実施例３、４実施例１と同様に第２図の装置を用いてテープ
表面をアルゴンプラズマ処理を行つたのち、アク
リル酸メチルと酸素の３：１の混合ガスをプラズ
マ重合室２２に圧が0.1torrになるように導入し、
ついで13.56MHz、200Wの高周波電力を導入口兼
放電電極３１及び放電電極兼搬送用ロール２５に
供給することにより、磁性層上にプラズマ重合層
を形成した。ついで、このプラズマ重合層を形成したテープ
を実施例１、２で挙げた有機物蒸気を満たした気
相処理室２３に送り、プラズマ重合層の上にグラ
フト層を形成した。これらをそれぞれの有機物に
対応させて実施例３、４とする。これらの試験片
を実施例１と同様に試験した結果を第３表に示
す。比較例５実施例３においてプラズマ重合層のみを形成し
たものについて実施例１と同様の試験を行なつた
結果を第３表に示す。

【表】実施例５、６実施例１と同様に第２図の装置によりテープ表
面をアルゴンプラズマ処理う行なつた後、トリメ
チルボレートと窒素の２：１の混合ガスをプラズ
マ重合室２２に圧が0.20torrになるように導入
し、ついで13.56MHz、250Wの高周波電力を導入
口兼放電電極３１及び放電電極兼搬送用ロール２
５に供給し、磁性層上にプラズマ重合層を形成す
る。ついで実施例３、４と同様にグラフト層を形
成しそれぞれの有機物に対応させて実施例５、６
としこれらの試験片について実施例１と同様の試
験を行ないその結果を第４表に示す。比較例６実施例５においてプラズマ重合層を形成したも
のについて実施例１と同様の試験を行ないその結
果を第４表に示す。

【表】実施例７、８実施例１と同様に第２図の装置によりテープ表
面をアルゴンプラズマ処理う行なつた後、チオフ
エンと水素の５：１の混合ガスをプラズマ重合層
２２に送り圧が0.05torrになるように導入し、つ
いで13.56MHz、250Wの高周波電力を導入口兼放
電電極３１及び放電電極兼搬送用ロール２５に供
給し、磁性層上にプラズマ重合層を形成する。ついで実施例３、４と同様にグラフト層を形成
しそれぞれの有機物に対応して実施例７、８と
し、これらの試験片につい実施例１と同様の試験
を行ないその結果を第５表に示す。比較例７実施例７においてプラズマ重合層を形成したも
のについて実施例１と同様の試験を行ないその結
果を第５表に示す。

【表】実施例９、10 実施例１と同様に第２図の装置によりテープ表
面をアルゴンプラズマ処理う行なつた後、トルイ
レン２，４−ジイソシアネートのガスをプラズマ
重合室２２に圧が0.05torrになるように導入し、
ついで13.56MHz、200Wの高周波電力を導入口兼
放電電極３１及び放電電極搬送用ロール２５に供
給し、磁性層上にプラズマ重合層を形成する。ついで実施例３、４と同様にグラフト層を形成
しそれぞれ有機物に対応して実施例９、10とし、
これらの試験片について実施例１と同様の試験を
行ないその結果を第６表に示す。比較例８実施例９においてプラズマ重合層を形成したも
のについて実施例１と同様の試験を行ないその結
果を第６表に示す。

【表】なお、上記各実施例は第２図の装置を用いた場
合であつたが、第１図の装置を用いてもほぼ同様
の結果が得られた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の製造法を実施
するとき使用する装置の一例の縦断面説明図、第
２図はその装置の他の例の平面説明図、第３図は
その気相処理室の縦断面説明図である。図中、２，２２はプラズマ重合室、３，２３は
気相処理室である。

Claims

【特許請求の範囲】１支持体上に磁性層とこの磁性層を覆うオーバ
ーコート層を有する磁気記録媒体において、上記
オーバーコート層は酸素、窒素、リン、イオウ、
塩素又は硼素のうら少なくとも１種類の元素と、
炭素と、水素から主としてなるプラズマ重合層
と、このプラズマ重合層表面に主にアクリル酸エ
ステル及び／又はメタクリル酸エステルをグラフ
トさせたグラフト層を有することを特徴とする磁
気記録媒体。２支持体上に磁性層を形成した後、この磁性層
上に酸素、窒素、リン、イオウ、塩素又は硼素の
うち少なくとも１種類の元素と、炭素と、水素と
から主としてなる化合物の１種又は２種以上をグ
ロー放電下で重合させてプラズマ重合層を形成
し、この形成された後のラジカルが残存するプラ
ズマ重合層に主にアクリル酸エステル及び／又は
メタクリル酸エステルからなる蒸気を接触させて
気相処理することによりグラフト層を形成するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造法。