JPH0366266B2 - - Google Patents

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JPH0366266B2
JPH0366266B2 JP13837285A JP13837285A JPH0366266B2 JP H0366266 B2 JPH0366266 B2 JP H0366266B2 JP 13837285 A JP13837285 A JP 13837285A JP 13837285 A JP13837285 A JP 13837285A JP H0366266 B2 JPH0366266 B2 JP H0366266B2
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JP
Japan
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glass composition
weight ratio
glass
added
melting point
Prior art date
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Expired
Application number
JP13837285A
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Japanese (ja)
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JPS61295258A (en
Inventor
Hisamitsu Takahashi
Masayuki Ishihara
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔技術分野〕 この発明は、低融点ガラス組成物、特にほうろ
う用フリツト等として用いられる透明でかつ耐酸
性に秀れ、リボイルなどの欠陥の出にくいガラス
組成物に関するものである。 〔背景技術〕 従来のほうろう用フリツトは、800〜850℃で基
板に焼付けられるものであり、表面性能(耐酸
性、耐アルカリ性、耐煮沸性、耐候性等)の優れ
たガラス質皮膜を基板上に形成しうるものであ
る。しかしながら、焼成温度がかなり高いため、
薄物鉄板等に焼付けるような場合には、薄物鉄板
の熱変形量が大きくなり、得られるほうろう製品
の寸法精度が悪くなつていた。これを解消するた
めに、低融点のガラスフリツトをほうろう用フリ
ツトとして用いることが考えられたが、このよう
なフリツトは、Pb,Cd,Ag等の公害物質が多量
に用いられているため有害であり、かつAg等が
高価であるため価格が高いという欠点を有してい
た。そのうえ、このようなフリツトにより形成さ
れるガラス質皮膜は、前記のほうろう用フリツト
により形成されるガラス質皮膜に比べて表面性能
が大幅に悪いため、殆ど実用に供しえなかつたの
である。 〔発明の目的〕 この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので
あつて、表面性能にすぐれたガラス質皮膜を作る
低融点ガラス組成物を提供することを目的とす
る。 〔発明の開示〕 この発明者らは、薄物鉄板のような熱変形量の大
きい基板に焼付けうるフリツトを開発するために
は、まず、その熱変形上の特性を知ることが必要
であると考え、つぎのようなことを行つた。すな
わち、厚み1mmの一般冷延鋼板およびほうろう用
鋼板のような薄物鉄板を700℃,800℃,890℃で
それぞれ10分間加熱してそれぞれの場合の熱変形
量を求めたのである。その結果は図面のとおりで
ある。図において、曲線Aは厚み1mmの一般冷延
鋼板の熱変形曲線であり、曲線Bはほうろう用鋼
板の熱変形曲線である。曲線A,Bから明らかな
ように、一般冷延鋼板でもほうろう用鋼板でも加
熱温度が700℃では殆ど熱変形せず、鉄の変態点
(720℃)を超えると熱変形量が増加することがわ
かる。他方、表面性能の観点からみて、近時、耐
酸性の一段と秀れたほうろうの要求される事例が
多くなつてきた。強酸に常時接触する貯蔵用タン
ク、耐酸容器あるいはほうろうIC基板などのよ
うなものがその例である。ほうろうIC基板は
種々の機器に組み込まれるものであるため、鋼板
を特に薄くかつ軽量化してやることが大切であ
り、焼成による熱変形もできる限り除いてやるこ
とが望まれる。さらに、このものは、回路形成の
際に基板の酸処理を行うことが多いため、ことに
耐酸性の強いものであることが要求されると言え
る。そこで、この発明者らは、以上の知見に基づ
き、つぎに、有害物質を含まず、安価でかつ表面
性能ことに耐酸性の一段とよいガラス質皮膜を、
700℃以下の温度で焼成することにより形成しう
るガラス組成物の開発研究を行うことが必要であ
ると考え、種々実験、研究を重ねた。その結果、
下記のような組成のガラス組成物であれば、その
ような目的を達成しうることを見出し、ここに、
この発明を完成した。 すなわち、第1の発明は、 SiO2 ;52〜62wt(重量)% B2O3 ;7〜13wt% TiO2+ZrO2 ;7〜14wt% Na2O+Li2O+K2O ;18〜26wt% 〔ただし、 (TiO2)/(ZrO2)重量比;1/5〜2/1 (Na2O)/(Li2O)重量比;1/1〜5/1 (K2O)/(Na2O)重量比;0を越え3/1
以下〕 からなるガラス組成物を母ガラスとし、この母ガ
ラスに対してMoO3および/またはWO3が0.5〜
7.0wt%添加され、かつ、上記酸化物の一部がF2
に換算して1.5〜5.0wt%だけフツ化物に置換され
てなる低融点ガラス組成物を要旨とする。 第2の発明は、 SiO2 ;52〜62wt% B2O3 ;7〜13wt% TiO2+ZrO2 ;7〜14wt% Na2O+Li2O+K2O ;18〜26wt% 〔ただし、 (TiO2)/(ZrO2)重量比;1/5〜2/1 (Na2O)/(Li2O)重量比;1/1〜5/1 (K2O)/(Na2O)重量比;0以上3/1以
下〕 からなる母ガラスに対し、MgO,CaO,SrO,
BaO,ZnOおよびAl2O3からなる群から選ばれた
少なくとも一つの金属酸化物が0.5〜5.0wt%添加
されるとともにMoO3および/またはWO3が0.5
〜7.0wt%添加され、かつ、上記酸化物の一部が
F2に換算して1.5〜5.0wt%だけフツ化物に置換さ
れてなる低融点ガラス組成物を要旨とする。 なお、第1,第2の発明のガラス組成物は、組
成をモル%表示した下記のガラス組成物と対応し
ている。 すなわち、第1の発明は、 SiO2 ;56〜63モル% B2O3 ;6〜10モル% TiO2+ZrO2 ;5〜10モル% Na2O+Li2O+K2O ;23〜26モル% 〔ただし、 (TiO2)/(ZrO2)モル比;1/3〜3/1 (Na2O)/(Li2O)モル比;2/3〜4/1 (K2O)/(Na2O)モル比;0を越え4/1
以下〕 からなるガラス組成物を母ガラスとし、この母ガ
ラスに対してMoO3および/またはWO3が0.5〜
5.0モル%添加され、かつ、上記酸化物の一部が
F2に換算して3〜7モル%だけフツ化物に置換
されてなる低融点ガラス組成物と対応し、 第2の発明は、 SiO2 ;56〜63モル% B2O3 ;6〜10モル% TiO2+ZrO2 ;5〜10モル% Na2O+Li2O+K2O ;23〜26モル% 〔ただし、 (TiO2)/(ZrO2)モル比;1/3〜3/1 (Na2O)/(Li2O)モル比;2/3〜4/1 (K2O)/(Na2O)モル比;0以上4/1以
下〕 からなる母ガラスに対し、MgO,CaO,SrO,
BaO,ZnOおよびAl2O3からなる群から選ばれた
少なくとも一つの金属酸化物が0.5〜5.0モル%添
加されるとともにMoO3および/またはWO3が
0.5〜5.0モル%添加され、かつ、上記酸化物の一
部がF2に換算して3〜7モル%だけフツ化物に
置換されてなる低融点ガラス組成物と対応してい
る。 以下、これら二つの発明について詳しく説明す
る。 この発明において、組成が前記のように限定さ
れた理由について説明すれば、以下のとおりであ
る。 すなわち、SiO2は、62wt%を超えるとガラス
組成物の軟化温度が高くなり、700℃での焼成が
できなくなる。逆に、52wt%未満になると生成
ガラス質皮膜の耐酸性、耐熱水性が著しく低下す
るようになるのである。 B2O3は、13wt%を超えると生成ガラス質皮膜
の耐酸性、耐熱水性が低下し、7wt%未満になる
とガラス組成物の軟化温度が高くなるのである。 TiO2とZrO2の合計量は、14wt%を超えるとガ
ラス組成物の軟化温度が高くなり結晶化し乳白化
するようになつて透明性が損なわれるようにな
る。逆に、7wt%未満になるとガラス質皮膜の耐
熱水性および耐酸性が低下するともに半乳濁化す
るようになるのである。そして、TiO2とZrO2の
相互の割合は、(TiO2)/(ZrO2)重量比が、
1/5未満になると耐酸性が低下するようにな
り、2/1をこえると結晶化するようになるので
ある。 Na2OとLi2OとK2Oの合計量は、26wt%を超え
ると耐酸性、耐熱水性が著しく低下するようにな
り、また熱膨張率も11.0×10-6/℃をこえるよう
になつて鉄板への焼付けが困難になり、逆に、
18wt%未満になると軟化温度が高くなるのであ
る。そして、Na2OとLi2Oの相互の割合は、
(Na2O)/(Li2O)重量比が1/1未満になる
と結晶化が起こると同時に軟化温度も高くなり、
焼成による光沢が表われなくなる。逆に、
(Na2O)/(Li2O)重量化が5/1を超えると
軟化温度が高くなり、生成ガラス質皮膜の耐酸
性、耐熱水性が悪くなるのである。また、
(K2O)/(Na2O)重量比が3/1を超えると
熱膨張率が11.0×10-6/℃を超えるようになり、
また耐酸性も悪くなる。 フツ化物は、F2に換算して5.0wt%を超えると
半乳濁化するようになり、1.5wt%未満になると
軟化温度が高くなるとともに、焼成による光沢が
表れなくなるのである。 以上の成分からなるガラス組成のものでも、一
応の目的は達せられるが、さらに耐薬品性を向上
させるために、MgO,CaO,SrO,BaO,ZnO
およびAl2O3からなる群から選ばれる少なくとも
1つの金属酸化物を加えることが出来る。その添
加量は、添加前のガラス(母ガラス)100wt%に
対して0.5〜5.0wt%が適当である。0.5wt%以下
では効果が認められず、5.0wt%を超えるとガラ
スの軟化温度が上がつたり、失透し易いガラスに
なつたりし、耐薬品性の効果も、添加量を増やし
た程には期待出来ない。 この発明にかかる低融点ガラス組成物におい
て、その母ガラスは、水を除く組成の97wt%以
上の組成が上記のように構成され、この母ガラス
に対してMoO3および/またはWO3が0.5〜7.0wt
%、すなわち、母ガラス100wtに対し0.5〜7.0wt
添加されるようになつている。その理由はつぎの
とおりである。すなわち、MoO3とWO3とは同様
の性質を示すものであり、特に耐酸性を著しく向
上させる効果がある。これらの1種もしくは2種
の添加が0.5wt%未満であると殆ど効果がなく、
逆に、7.0wt%を超えると軟化温度が著しく高く
なるため、この発明の目的より外れる。0.5〜
7.0wt%の添加で、焼成温度を殆ど上げることな
く、耐酸性を一段と向上させることができるので
ある。 なお、この発明において、母ガラスに対して
MoO3および/またはWO3が0.5〜7.0wt%添加さ
れてなるとは、単に組成比をあらわすためだけの
表現であるにすぎず、まず、母ガラスをつくりつ
ぎにこれをMoO3,WO3を加えるというような製
造工程的意味内容を有するものではない。したが
つて、前述したフツ化物なるものも、これを構成
する元素の全部もしくは一部がMoおよび/また
はWであることもありうる。そのため、この発明
にかかる組成物において、フツ化物を構成する元
素は、その全部もしくは一部が、母ガラスの構成
成分として挙げられている前記各酸化物を構成す
る元素に由来するほか、MoO3,WO3を構成する
元素すなわちMo,Wに由来し、さらには両者併
せたものに由来するのが、普通である。 つぎに、この発明の低融点ガラス組成物の原材
料について説明する。 この発明の低融点ガラス組成物を構成する成分
の原料としては、焼成により前記成分の酸化物も
しくはそれらの酸化物の混合物を生ずる原料、ま
たは焼成により、前記成分の酸化物の一部をフツ
化物にするためのフツ素を生ずる原料であればど
んなものでもよい。そのようなものとしては、例
えば、無水ケイ酸、炭素ナトリウム、硫酸ナトリ
ウム、塩化ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、ホウ
酸、ホウ酸ナトリウム、炭酸リチウム、酸化ジル
コニウム、酸化チタン、ケイ酸ジルコニウム、フ
ツ化ナトリウム、フツ化リチウム、ケイフツ化ナ
トリウム、酸化モリブデン、酸化タングステン、
炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、
酸化亜鉛、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム等
が用いられる。 つぎに、この発明にかかる透明な低融点ガラス
組成物の製造方法について説明する。すなわち、
この発明の低融点ガラス組成物はつぎのようにし
て製造される。 (1) 前述の原材料のなかから適宜の原材料を選
び、それらを常温で、要すれば加熱して充分粉
砕混合する。もちろん粉砕混合せずにガラス熔
融を行わせてもよい。 (2) 上記混合物を炉中で加熱焼成して熔融ガラス
化させる。 (3) ガラス熔融の最終段階では800〜1300℃で1
〜4時間熔融させる。必要があれば途中で撹拌
する。 (4) なお、ガラス熔融に際して、要すれば前焼成
を行つてもよい。例えば、炭酸ナトリウム、ホ
ウ酸を用いた場合、まず常温で原材料を充分に
混合反応させる。この際、要すれば加熱する。
つぎに、150〜500℃で1〜3時間反応させつつ
脱水する。このようにして固形物を得る。つぎ
に、粉砕する。つぎに、上記(3)のガラス熔融を
行うのである。このようにすれば、ガラス熔融
時に脱水、脱炭酸ガスがほとんど起こらないた
めに、るつぼ中よりふきこぼれなどが起こら
ず、安全かつ好都合である。 (5) 以上の他、原材料として水を含むものや、炭
酸塩、アンモニウム塩を用いた場合は、熔融す
る前に上記(4)の前焼成を行うのが好ましい。 (6) 熔融したガラスは水中に投じて急冷するか、
厚い鉄板の上に流して冷却する。 (7) 得られたガラスは、ポツトミル、振動ミル、
らいかい機などで微粉砕する。このようにして
目的とする低融点ガラス組成物が得られる。 つぎに、このようにして得られたガラス組成物
を薄物鉄板のような基板にコーテイングする場合
について説明する。すなわち、乾式施釉の場合
は、ガラス組成物を顔料と混合し、湿式施釉の場
合は、常法に従い必要に応じて顔料、カルボキシ
ルメチルセルロース、アラビアゴムなどの添加物
を加え、水系のスリツプにして施釉し、要すれ
ば、乾燥した後、700℃以下の温度で焼成する。 なお、上記の説明は、この発明の低融点ガラス
組成物を薄物鉄板にコーテイングしてほうろう製
品を製造する例について説明しているが、この発
明の低融点ガラス組成物は薄物鉄板以外の他の材
質の基板にもコーテイングできることはもちろん
である。 以上のように、この発明にかかる低融点ガラス
組成物は、焼成温度が700℃以下と低いため、薄
物鉄板に焼付けるようなときに薄物鉄板の熱変形
が殆ど起こらず、寸法精度の高いほうろう製品を
製造しうるのである。そのうえ、このガラス組成
物によれば、表面性能、ことに耐酸性の面におい
て一段と優れたガラス質皮膜を形成しうるのであ
る。さらに、この発明のガラス組成物は、有害物
質および高価な物質を含まないため、毒性等の問
題が起こらず、安価である。 つぎに、実施例について比較例と併せて説明す
る。 第1表記載の組成となるように原材料配合を行
つた。なお、第1表(その1)はwt%表示にか
かるものであり、第1表(その2)はモル%表示
にかかるものである。 第1表において、添加物の量は、母ガラスに対
する割合を表す。
[Technical Field] The present invention relates to a low-melting glass composition, particularly a glass composition that is transparent, has excellent acid resistance, and is resistant to defects such as reboiling, and is used as a frit for enamel. [Background technology] Conventional enamel frits are baked onto a substrate at 800 to 850°C, and a glassy film with excellent surface properties (acid resistance, alkali resistance, boiling resistance, weather resistance, etc.) is baked onto the substrate. It can be formed into However, since the firing temperature is quite high,
When baking a thin iron plate or the like, the amount of thermal deformation of the thin iron plate increases, resulting in poor dimensional accuracy of the resulting enamel product. In order to solve this problem, it was considered to use glass frit with a low melting point as a frit for enamel, but such frit is harmful because it contains large amounts of pollutants such as Pb, Cd, and Ag. , and because Ag and the like are expensive, it had the disadvantage of being expensive. Moreover, the surface properties of the glassy coating formed by such frits are much worse than those formed by the above-mentioned enamel frits, so that they can hardly be put to practical use. [Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a low-melting point glass composition that forms a glassy film with excellent surface performance. [Disclosure of the Invention] The inventors believe that in order to develop a frit that can be baked onto a substrate with a large amount of thermal deformation, such as a thin iron plate, it is first necessary to know its thermal deformation characteristics. , I did the following: That is, thin iron plates such as general cold-rolled steel plates and enameled steel plates with a thickness of 1 mm were heated at 700°C, 800°C, and 890°C for 10 minutes each, and the amount of thermal deformation in each case was determined. The results are shown in the drawing. In the figure, curve A is a thermal deformation curve of a general cold-rolled steel plate with a thickness of 1 mm, and curve B is a thermal deformation curve of a steel plate for enameling. As is clear from curves A and B, there is almost no thermal deformation when the heating temperature is 700°C, whether it is a general cold-rolled steel plate or a steel plate for enameling, and the amount of thermal deformation increases when the temperature exceeds the transformation point of iron (720°C). Recognize. On the other hand, from the viewpoint of surface performance, there has recently been an increasing demand for enamel with even better acid resistance. Examples include storage tanks, acid-resistant containers, or enameled IC boards that are in constant contact with strong acids. Since enamel IC boards are to be incorporated into various devices, it is important to make the steel plate particularly thin and lightweight, and it is desirable to eliminate thermal deformation caused by firing as much as possible. Furthermore, since the substrate is often subjected to acid treatment during circuit formation, it can be said that this material is required to have particularly strong acid resistance. Based on the above findings, the inventors then developed a vitreous film that does not contain harmful substances, is inexpensive, and has even better surface performance and acid resistance.
We believed that it was necessary to conduct research and development of glass compositions that could be formed by firing at temperatures below 700°C, and conducted various experiments and research. the result,
We have discovered that such a purpose can be achieved with a glass composition having the composition shown below, and hereby,
completed this invention. That is, the first invention includes SiO 2 ; 52 to 62 wt% (weight) B 2 O 3 ; 7 to 13 wt% TiO 2 +ZrO 2 ; 7 to 14 wt% Na 2 O + Li 2 O + K 2 O; 18 to 26 wt% [However, , (TiO 2 )/(ZrO 2 ) weight ratio; 1/5 to 2/1 (Na 2 O)/(Li 2 O) weight ratio; 1/1 to 5/1 (K 2 O)/(Na 2 O) Weight ratio: over 0 and 3/1
A glass composition consisting of
7.0wt% is added, and part of the above oxide is F 2
The gist is a low melting point glass composition in which fluoride is substituted by 1.5 to 5.0 wt% in terms of fluoride. The second invention is as follows: SiO 2 ; 52 to 62 wt% B 2 O 3 ; 7 to 13 wt% TiO 2 + ZrO 2 ; 7 to 14 wt% Na 2 O + Li 2 O + K 2 O; 18 to 26 wt% [However, (TiO 2 ) /( ZrO2 ) weight ratio; 1/5 to 2/1 ( Na2O )/( Li2O ) weight ratio; 1/1 to 5/1 ( K2O )/( Na2O ) weight ratio; 0 or more and 3/1 or less] MgO, CaO, SrO,
At least one metal oxide selected from the group consisting of BaO, ZnO and Al 2 O 3 is added at 0.5 to 5.0 wt%, and MoO 3 and/or WO 3 is added at 0.5 wt%.
~7.0wt% is added, and some of the above oxides are
The gist of the present invention is a low melting point glass composition in which fluoride is substituted by 1.5 to 5.0 wt% in terms of F2 . Note that the glass compositions of the first and second inventions correspond to the following glass compositions whose compositions are expressed in mol%. That is, in the first invention, SiO2 ; 56 to 63 mol% B2O3 ; 6 to 10 mol% TiO2 + ZrO2 ; 5 to 10 mol% Na2O + Li2O + K2O ; 23 to 26 mol% [ However, (TiO 2 )/(ZrO 2 ) molar ratio; 1/3 to 3/1 (Na 2 O)/(Li 2 O) molar ratio; 2/3 to 4/1 (K 2 O)/(Na 2 O) molar ratio; over 0 4/1
A glass composition consisting of
5.0 mol% is added, and some of the above oxides are
The second invention corresponds to a low melting point glass composition in which fluoride is substituted by 3 to 7 mol% in terms of F 2 , SiO 2 ; 56 to 63 mol % B 2 O 3 ; 6 to 10 Mol% TiO 2 + ZrO 2 ; 5 to 10 mol % Na 2 O + Li 2 O + K 2 O; 23 to 26 mol % [However, (TiO 2 )/(ZrO 2 ) molar ratio; 1/3 to 3/1 (Na 2 MgO , CaO , SrO,
At least one metal oxide selected from the group consisting of BaO, ZnO and Al 2 O 3 is added in an amount of 0.5 to 5.0 mol %, and MoO 3 and/or WO 3 are added.
This corresponds to a low melting point glass composition in which fluoride is added in an amount of 0.5 to 5.0 mol %, and a portion of the above oxide is replaced with a fluoride by 3 to 7 mol % in terms of F 2 . Below, these two inventions will be explained in detail. In this invention, the reason why the composition is limited as described above is as follows. That is, when SiO 2 exceeds 62 wt%, the softening temperature of the glass composition becomes high, and firing at 700° C. is no longer possible. On the other hand, if the content is less than 52 wt%, the acid resistance and hot water resistance of the resulting glassy film will be significantly reduced. When B 2 O 3 exceeds 13 wt%, the acid resistance and hot water resistance of the resulting glassy film decrease, and when it becomes less than 7 wt%, the softening temperature of the glass composition increases. When the total amount of TiO 2 and ZrO 2 exceeds 14 wt%, the softening temperature of the glass composition becomes high, crystallization occurs, and the composition becomes opalescent, resulting in loss of transparency. Conversely, when the content is less than 7 wt%, the hot water resistance and acid resistance of the vitreous film decrease and it becomes semi-emulsified. The mutual proportion of TiO 2 and ZrO 2 is (TiO 2 )/(ZrO 2 ) weight ratio,
When the ratio is less than 1/5, acid resistance decreases, and when it exceeds 2/1, crystallization occurs. When the total amount of Na 2 O, Li 2 O, and K 2 O exceeds 26 wt%, acid resistance and hot water resistance will decrease significantly, and the thermal expansion coefficient will also exceed 11.0 × 10 -6 /℃. As it gets older, it becomes difficult to bake onto the iron plate, and conversely,
When the content is less than 18wt%, the softening temperature becomes high. And the mutual ratio of Na 2 O and Li 2 O is
When the (Na 2 O)/(Li 2 O) weight ratio is less than 1/1, crystallization occurs and the softening temperature also increases.
The luster caused by firing no longer appears. vice versa,
When the (Na 2 O)/(Li 2 O) weight ratio exceeds 5/1, the softening temperature becomes high and the acid resistance and hot water resistance of the resulting glassy film deteriorate. Also,
When the (K 2 O)/(Na 2 O) weight ratio exceeds 3/1, the coefficient of thermal expansion exceeds 11.0×10 -6 /℃,
In addition, acid resistance also deteriorates. When the fluoride exceeds 5.0 wt% in terms of F2 , it becomes semi-emulsified, and when it becomes less than 1.5 wt%, the softening temperature increases and the luster caused by firing no longer appears. Glass compositions consisting of the above components can also achieve the intended purpose, but in order to further improve chemical resistance, MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO
At least one metal oxide selected from the group consisting of and Al 2 O 3 can be added. The appropriate amount of addition is 0.5 to 5.0 wt% relative to 100 wt% of the glass (mother glass) before addition. If the amount is less than 0.5wt%, no effect is observed, and if it exceeds 5.0wt%, the softening temperature of the glass increases and the glass becomes prone to devitrification. I can't expect much. In the low melting point glass composition according to the present invention, the mother glass has the above-mentioned composition of 97 wt% or more of the composition excluding water, and MoO 3 and/or WO 3 is 0.5 to 0. 7.0wt
%, i.e. 0.5 to 7.0wt for 100wt of mother glass
It is starting to be added. The reason is as follows. That is, MoO 3 and WO 3 exhibit similar properties and are particularly effective in significantly improving acid resistance. If the addition of one or two of these types is less than 0.5wt%, there will be little effect;
On the other hand, if it exceeds 7.0 wt%, the softening temperature becomes significantly high, which is beyond the purpose of this invention. 0.5~
By adding 7.0 wt%, acid resistance can be further improved without raising the firing temperature. In addition, in this invention, for the mother glass
The addition of 0.5 to 7.0 wt% of MoO 3 and/or WO 3 is merely an expression to express the composition ratio; first, a mother glass is made, and then MoO 3 and WO 3 are added. It does not have any meaning or content in terms of the manufacturing process. Therefore, all or part of the elements constituting the above-mentioned fluoride may be Mo and/or W. Therefore, in the composition according to the present invention, the elements constituting the fluoride are derived in whole or in part from the elements constituting each of the above-mentioned oxides listed as constituent components of the mother glass, as well as MoO 3 , WO 3 is derived from the elements constituting Mo and W, and is usually derived from a combination of both. Next, the raw materials for the low melting point glass composition of the present invention will be explained. The raw materials for the components constituting the low melting point glass composition of this invention include raw materials that produce oxides of the aforementioned components or mixtures of these oxides by firing, or materials that produce fluorides of some of the oxides of the aforementioned components by firing. Any raw material may be used as long as it generates fluorine for the purpose of oxidation. Such materials include, for example, silicic anhydride, sodium carbon, sodium sulfate, sodium chloride, sodium silicate, boric acid, sodium borate, lithium carbonate, zirconium oxide, titanium oxide, zirconium silicate, sodium fluoride, Lithium fluoride, sodium silicate, molybdenum oxide, tungsten oxide,
Calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina,
Zinc oxide, strontium carbonate, barium carbonate, etc. are used. Next, a method for producing a transparent low-melting glass composition according to the present invention will be explained. That is,
The low melting point glass composition of this invention is produced as follows. (1) Select appropriate raw materials from the above raw materials, and thoroughly grind and mix them at room temperature, heating if necessary. Of course, the glass may be melted without pulverization and mixing. (2) The above mixture is heated and fired in a furnace to melt and vitrify it. (3) At the final stage of glass melting, 1
Allow to melt for ~4 hours. Stir in between if necessary. (4) In addition, when melting the glass, pre-firing may be performed if necessary. For example, when sodium carbonate and boric acid are used, the raw materials are first thoroughly mixed and reacted at room temperature. At this time, heat if necessary.
Next, the mixture is dehydrated while reacting at 150 to 500°C for 1 to 3 hours. In this way a solid is obtained. Next, crush it. Next, the glass melting described in (3) above is performed. In this way, dehydration and decarbonation hardly occur during glass melting, and therefore no boiling over from the inside of the crucible occurs, which is safe and convenient. (5) In addition to the above, when raw materials containing water, carbonates, or ammonium salts are used, it is preferable to perform pre-calcination as described in (4) above before melting. (6) Either throw the molten glass into water and cool it quickly.
Pour onto a thick iron plate to cool. (7) The obtained glass can be processed by pot mill, vibration mill,
Finely grind it using a grinder. In this way, the desired low melting point glass composition is obtained. Next, the case where a substrate such as a thin iron plate is coated with the glass composition obtained in this manner will be described. That is, in the case of dry glazing, the glass composition is mixed with a pigment, and in the case of wet glazing, pigments, additives such as carboxymethylcellulose, gum arabic, etc. are added as necessary according to conventional methods, and the composition is made into a water-based slip and glazed. However, if necessary, after drying, it is fired at a temperature of 700°C or less. The above explanation describes an example in which an enameled product is manufactured by coating a thin iron plate with the low melting point glass composition of the present invention, but the low melting point glass composition of the present invention can be applied to other materials other than thin iron plates. Of course, it is also possible to coat substrates made of other materials. As described above, since the low melting point glass composition according to the present invention has a low firing temperature of 700°C or less, there is almost no thermal deformation of the thin iron plate when baking it, and the enamel has high dimensional accuracy. They can manufacture products. Moreover, this glass composition makes it possible to form a glassy film that is even more excellent in terms of surface performance, especially acid resistance. Furthermore, since the glass composition of the present invention does not contain harmful or expensive substances, it does not cause problems such as toxicity and is inexpensive. Next, examples will be described together with comparative examples. The raw materials were mixed to have the composition shown in Table 1. Note that Table 1 (Part 1) is based on wt% display, and Table 1 (Part 2) is based on mol% display. In Table 1, the amounts of additives represent the proportion to the mother glass.

【表】【table】

【表】 つぎに、以上の原材料配合物を1300℃に設定し
た電気炉においてアルミナるつぼを用いて溶融し
た。そして約2時間清澄し、ついで水中に投入し
たのち急冷しポツトミルで粉砕して低融点ガラス
組成物を得た。得られた低融点ガラス組成物の物
性は第2表のとおりであつた。そして、得られた
ガラス組成物(粉末状)に対して分散剤および水
を添加してスリツプ化し、下釉を塗装・焼成した
薄物鉄板に塗装して同表に示す焼成条件で焼成し
ガラス質皮膜を形成した。このようにしてほうろ
う製品が得られた。得られたほうろう製品のガラ
ス質皮膜の性能は第2表のとおりであつた。な
お、下釉の配合は 下釉フリツト#2236(日本フエロー社製) 20 〃 #2240( 〃 ) 80 ケイ石 5 粘土 5 亜硝酸ソーダ 0.5 であり、焼成は750℃5分で行つた。
[Table] Next, the above raw material mixture was melted using an alumina crucible in an electric furnace set at 1300°C. The mixture was clarified for about 2 hours, then poured into water, rapidly cooled, and crushed in a pot mill to obtain a low melting point glass composition. The physical properties of the obtained low melting point glass composition were as shown in Table 2. Then, a dispersant and water are added to the obtained glass composition (powdered form) to form a slip, which is coated on a thin iron plate that has been painted and fired with a lower glaze, and then fired under the firing conditions shown in the table to form a glassy product. A film was formed. An enameled product was thus obtained. The performance of the glassy film of the obtained enamel product was as shown in Table 2. The composition of the lower glaze was 20 parts of lower glaze frit #2236 (manufactured by Nippon Fellow Co., Ltd.), 80 parts of #2240, 5 parts of silica, 5 parts of clay, and 0.5 parts of sodium nitrite, and firing was performed at 750°C for 5 minutes.

【表】【table】

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明にかかる低融点ガラス組成物は、以上
のように構成されているため、表面性能にすぐれ
たガラス皮膜を作ることができる。
Since the low melting point glass composition according to the present invention is configured as described above, a glass film with excellent surface performance can be produced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は薄物鉄板の焼成温度と熱変形量の関係を
説明する説明図である。
The drawing is an explanatory diagram illustrating the relationship between the firing temperature and the amount of thermal deformation of a thin iron plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 SiO2 ;52〜62wt% B2O3 ;7〜13wt% TiO2+ZrO2 ;7〜14wt% Na2O+Li2O+K2O ;18〜26wt% 〔ただし、 (TiO2)/(ZrO2)重量比;1/5〜2/1 (Na2O)/(Li2O)重量比;1/1〜5/1 (K2O)/(Na2O)重量比;0を越え3/1
以下〕 からなるガラス組成物を母ガラスとし、この母ガ
ラスに対してMoO3および/またはWO3が0.5〜
7.0wt%添加され、かつ、上記酸化物の一部がF2
に換算して1.5〜5.0wt%だけフツ化物に置換され
てなる低融点ガラス組成物。 (2) SiO2 ;52〜62wt% B2O3 ;7〜13wt% TiO2+ZrO2 ;7〜14wt% Na2O+Li2O+K2O ;18〜26wt% 〔ただし、 (TiO2)/(ZrO2)重量比;1/5〜2/1 (Na2O)/(Li2O)重量比;1/1〜5/1 (K2O)/(Na2O)重量比;0以上3/1以
下〕 からなる母ガラスに対し、MgO,CaO,SrO,
BaO,ZnOおよびAl2O3からなる群から選ばれた
少なくとも一つの金属酸化物が0.5〜5.0wt%添加
されるとともにMoO3および/またはWO3が0.5
〜7.0wt%添加され、かつ、上記酸化物の一部が
F2に換算して1.5〜5.0wt%だけフツ化物に置換さ
れてなる低融点ガラス組成物。
[Claims] 1 SiO 2 ; 52 to 62 wt% B 2 O 3 ; 7 to 13 wt% TiO 2 +ZrO 2 ; 7 to 14 wt% Na 2 O + Li 2 O + K 2 O; 18 to 26 wt% [However, (TiO 2 )/(ZrO 2 ) weight ratio; 1/5 to 2/1 (Na 2 O)/(Li 2 O) weight ratio; 1/1 to 5/1 (K 2 O)/(Na 2 O) weight ratio ;Over 0 3/1
A glass composition consisting of
7.0wt% is added, and part of the above oxide is F 2
A low melting point glass composition in which only 1.5 to 5.0 wt% of fluoride is substituted. (2) SiO 2 ; 52 to 62 wt% B 2 O 3 ; 7 to 13 wt% TiO 2 + ZrO 2 ; 7 to 14 wt% Na 2 O + Li 2 O + K 2 O; 18 to 26 wt% [However, (TiO 2 )/(ZrO 2 ) Weight ratio; 1/5 to 2/1 (Na 2 O)/(Li 2 O) weight ratio; 1/1 to 5/1 (K 2 O)/(Na 2 O) weight ratio; 0 or more 3 /1 or less] MgO, CaO, SrO,
At least one metal oxide selected from the group consisting of BaO, ZnO and Al 2 O 3 is added at 0.5 to 5.0 wt%, and MoO 3 and/or WO 3 is added at 0.5 wt%.
~7.0wt% is added, and some of the above oxides are
A low melting point glass composition in which 1.5 to 5.0 wt% of F2 is substituted with fluoride.
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