JPH0367581A - フェノール資化性細菌 - Google Patents
フェノール資化性細菌Info
- Publication number
- JPH0367581A JPH0367581A JP1202624A JP20262489A JPH0367581A JP H0367581 A JPH0367581 A JP H0367581A JP 1202624 A JP1202624 A JP 1202624A JP 20262489 A JP20262489 A JP 20262489A JP H0367581 A JPH0367581 A JP H0367581A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenol
- pseudomonas putida
- assimilating
- strain
- ability
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- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
り産業上の利用分野Ｊ
本発明は、シュードモナス・プチーダ
（Ｐｓｅｕｄｏａｏｎａｓ 匹■幻）に属し、製油所の
活性汚泥中より純粋分離した新規の細菌株及びその人工
変異株に関する。更に詳しくは、高濃度フェノールに耐
性であり、且つフェノールを含有する廃水中に生育し、
これを資化又は分解することを特徴とする細菌シュード
モナス・プチーダＷＡＳ−２及びシュードモナス・プチ
ーダＷＡＳ−２０に関する。
活性汚泥中より純粋分離した新規の細菌株及びその人工
変異株に関する。更に詳しくは、高濃度フェノールに耐
性であり、且つフェノールを含有する廃水中に生育し、
これを資化又は分解することを特徴とする細菌シュード
モナス・プチーダＷＡＳ−２及びシュードモナス・プチ
ーダＷＡＳ−２０に関する。
［従来の技術］
フェノールは、製油所１石炭ガスやコークスの製造工場
、フェノール樹脂製造工場、有機薬品工場などの廃水中
に含まれており、それ自体がもつ多くの微生物に対する
生育阻害又は殺菌作用のために、難生分解性汚染物質の
一つに数えられている。
、フェノール樹脂製造工場、有機薬品工場などの廃水中
に含まれており、それ自体がもつ多くの微生物に対する
生育阻害又は殺菌作用のために、難生分解性汚染物質の
一つに数えられている。
フェノールを含む廃水の処理には、従来、化学的酸化、
溶媒抽出、活性炭吸着などの方法が採用されてきたが、
今日、多量に排出される該廃水の処理方法として、活性
汚泥やフェノール分解菌を使用する生物学的方法が操作
性及びコスト面で有利であると考えられている。
溶媒抽出、活性炭吸着などの方法が採用されてきたが、
今日、多量に排出される該廃水の処理方法として、活性
汚泥やフェノール分解菌を使用する生物学的方法が操作
性及びコスト面で有利であると考えられている。
フェノール分解能を有する微生物には、例えば、シュー
ドモナス属、ノカルジア（Ｎｏｃａｒｄ ｉａ ）属、
バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）属、アシネトバクタ−（
Ａｃｉｎｅｔｏｂａｃｔｅｒ ）馬などの細菌、オーレ
オバシティウム（＾ｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｓ ） Ｊ
ｌｌ 、フサリウム（Ｆｕｓａｒｉｕｓ）罠などの真菌
、及びトリコスポロン（Ｔｒｉｃｈｏｓ ｏｒｏｎ）
ｌ、カンシタ（Ｃａｎｄｉｄａ ） ＩＩなどの酵母が
知られている。特に、本発明に係る公知のシュードモナ
ス属細菌としては、シュードモナス・プチーダ８口（ｍ
本と藤田、下水道協会誌。
ドモナス属、ノカルジア（Ｎｏｃａｒｄ ｉａ ）属、
バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）属、アシネトバクタ−（
Ａｃｉｎｅｔｏｂａｃｔｅｒ ）馬などの細菌、オーレ
オバシティウム（＾ｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｓ ） Ｊ
ｌｌ 、フサリウム（Ｆｕｓａｒｉｕｓ）罠などの真菌
、及びトリコスポロン（Ｔｒｉｃｈｏｓ ｏｒｏｎ）
ｌ、カンシタ（Ｃａｎｄｉｄａ ） ＩＩなどの酵母が
知られている。特に、本発明に係る公知のシュードモナ
ス属細菌としては、シュードモナス・プチーダ８口（ｍ
本と藤田、下水道協会誌。
第２４巻、第２７３＠、第２７〜３３頁、 １９８７年
）、シュードモナスＱＴ３１（Ｃ，マスキューら、バイ
オテクノロジー・レターズ、第９巻、第９号、第６５５
〜６６０頁、 １９８７年〉などが挙げられる。
）、シュードモナスＱＴ３１（Ｃ，マスキューら、バイ
オテクノロジー・レターズ、第９巻、第９号、第６５５
〜６６０頁、 １９８７年〉などが挙げられる。
［発明が解決しようとする課題］
フェノール分解能を有する従来公知の上記シュードモナ
ス属細菌にあっては、無機塩培地中において分解し得る
フェノール濃度は最高１０００〜１３００ｑ／ＩＩであ
る、誘導期（ｌａｐ ｐｈａｓｅ）が長い、分解を完結
するまでに長時間を要する、フェノールに対する馴養期
間を長くとる必要があるなどの欠点を有していた。この
ことは、前記シュードモナス属細菌がフェノールに対す
る耐性能の低いことを意味している。そのために、培養
及びフェノール分解に多大の時間を費やさねばならず、
工業的実施に際しては、フェノール分解能及び耐性能の
高い微生物が望まれていた。
ス属細菌にあっては、無機塩培地中において分解し得る
フェノール濃度は最高１０００〜１３００ｑ／ＩＩであ
る、誘導期（ｌａｐ ｐｈａｓｅ）が長い、分解を完結
するまでに長時間を要する、フェノールに対する馴養期
間を長くとる必要があるなどの欠点を有していた。この
ことは、前記シュードモナス属細菌がフェノールに対す
る耐性能の低いことを意味している。そのために、培養
及びフェノール分解に多大の時間を費やさねばならず、
工業的実施に際しては、フェノール分解能及び耐性能の
高い微生物が望まれていた。
従って、フェノールを含有する多量の工場廃水を、フェ
ノール耐性且つ高活性の７１ノール責化性細菌によって
効率的に安定に資化又は分解処理することは、産業上及
び環境汚染防止上意義のあることである。
ノール耐性且つ高活性の７１ノール責化性細菌によって
効率的に安定に資化又は分解処理することは、産業上及
び環境汚染防止上意義のあることである。
本発明は、高１１ｆ［フェノールに耐性であり、且つフ
ェノールを資化又は分解する能力を有するフェノール資
化性細菌を製油所の活性汚泥より単離すること、更に紫
外線照射による突然変異法を使用して高いフェノール耐
性能を有する変異株を創製することによって、′ｎ１度
フェノールを含有する■１ｉ！ｙ！！水の酸化的分解処
理を工業的に実施可能とするシュードモナス・プチーダ
に属するフェノール資化性４［菌を提供することを目的
としている。
ェノールを資化又は分解する能力を有するフェノール資
化性細菌を製油所の活性汚泥より単離すること、更に紫
外線照射による突然変異法を使用して高いフェノール耐
性能を有する変異株を創製することによって、′ｎ１度
フェノールを含有する■１ｉ！ｙ！！水の酸化的分解処
理を工業的に実施可能とするシュードモナス・プチーダ
に属するフェノール資化性４［菌を提供することを目的
としている。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するために、東燃（株）和歌山工場の製
油所活性汚泥中から、高濃度フェノールに対して耐性で
あり、且つフェノールを唯一の炭素源として生育し得る
フェノール資化性細菌なスクリーニングした。
油所活性汚泥中から、高濃度フェノールに対して耐性で
あり、且つフェノールを唯一の炭素源として生育し得る
フェノール資化性細菌なスクリーニングした。
５００■／Ｉの濃度のフェノールを含有する無機塩培地
中で活性汚泥を集積培￥ｉ（４回〉し、細菌の純化が進
んだ段階でフェノール寒天平板培地（フェノール金婚５
００■／ｊ ） Ｉ：に単一コロニを形成させ、フェノ
ール資化性細菌８菌株を単離した。更に、この中からフ
ェノール分解能の最も高い１個の菌株を選択した。
中で活性汚泥を集積培￥ｉ（４回〉し、細菌の純化が進
んだ段階でフェノール寒天平板培地（フェノール金婚５
００■／ｊ ） Ｉ：に単一コロニを形成させ、フェノ
ール資化性細菌８菌株を単離した。更に、この中からフ
ェノール分解能の最も高い１個の菌株を選択した。
このフェノール資化性細菌は、第１表に示す菌学的性質
を有し、この性質に基づき、ＢｅｒＱｅｙ’ＳＭａｎｕ
ａｌ ｏｆ ５ｙｓｔｅａ＋ａｔｉｃ Ｂａｃｔｅｒｉ
ｏｌｏｇｙ第１巻（Ｗｉｌｌｉａｍｓ ＆ Ｗｉｌｋｉ
ｎｓ、 １９８４年）を参考にして、シュートモナス・
プチーダと同定され、シュードモナス・プチーダＷＡＳ
−２（平成元年８月３日付寄託、微工研菌寄第１０９２
４号、 ＦＥＲＮ Ｐ−１０９２４）と命名した。
を有し、この性質に基づき、ＢｅｒＱｅｙ’ＳＭａｎｕ
ａｌ ｏｆ ５ｙｓｔｅａ＋ａｔｉｃ Ｂａｃｔｅｒｉ
ｏｌｏｇｙ第１巻（Ｗｉｌｌｉａｍｓ ＆ Ｗｉｌｋｉ
ｎｓ、 １９８４年）を参考にして、シュートモナス・
プチーダと同定され、シュードモナス・プチーダＷＡＳ
−２（平成元年８月３日付寄託、微工研菌寄第１０９２
４号、 ＦＥＲＮ Ｐ−１０９２４）と命名した。
第
１
表
第
表
（続き）
形 態
桿 菌
（０，８〜１．２Ｘ ２．０〜４．０％）運動性
鞭 毛
ダラム染色
胞子形成
好気的／嫌気的発育
硝酸塩の還元
脱窒反応
インドール生成
カタラーゼ
オキシダーゼ
ウレアーゼ
ゼラチンの液化
クエン酸の利用
十
少数の極鞭毛
陰 性
好気性
＋
＋
＋
＋
色素生成
（シュードモナス・
アガーＦ）
＋
（水溶性、蛍光性
黄色色素〉
色素生成
（シュードモナス・
アガーＰ〉
０−Ｆテスト
（Ｈｕａｈ−Ｌｅｉｆｓｏｎ法）
４１℃における発育
生育の温度範囲
生育の０口範囲
β−ガラクトシダーゼ
リジン・デカルボ
キシラーゼ
酸化的
２８℃付近く２０〜３７℃）
が良好
ｐＨ７，０付近（４，０〜９．０）
が良好
＋
第 １
表
（続き）
オルニチン◆デカルボ
キシラーゼ
＋
ポリ−β−ヒドロキシ
醋酸の蓄積
炭素源資化性
グルコース
フルクトース
マルトース
ガラクトース
キシロース
マンニトール
シュクロース
ラクトース
エスクリン
クエン酸
ｐ−ヒドロキシ安息香酸
フェノール
シュードモナス・プチーダＷＡＳ−２は、１０００■／
ｌの高濃度フェノールを含む無機塩培地で生育可能であ
り、フェノールを唯一の炭素源とする無機塩培地中、３
０℃でのバッチ式振盪通気培養によって２０〜３０時間
（誘導期１２時間を含む）で１０００■／Ｉの濃度のフ
ェノールをほぼ完全に分解し得る。また、ＷＡＳ−２株
は、栄養培地〈ニュートリエンド・ブロス、旧ｆｃｏ社
〉中では、１０００ｑ／１以上の濃度のフェノールを資
化する能力を有している。
ｌの高濃度フェノールを含む無機塩培地で生育可能であ
り、フェノールを唯一の炭素源とする無機塩培地中、３
０℃でのバッチ式振盪通気培養によって２０〜３０時間
（誘導期１２時間を含む）で１０００■／Ｉの濃度のフ
ェノールをほぼ完全に分解し得る。また、ＷＡＳ−２株
は、栄養培地〈ニュートリエンド・ブロス、旧ｆｃｏ社
〉中では、１０００ｑ／１以上の濃度のフェノールを資
化する能力を有している。
本発明のシュードモナス・プチーダＷＡＳ−２は、橋本
と藤田による上記文献中に記載のシュードモナス・プチ
ーダＢＨと較べて、硝酸塩還元が陽性であり、並びに炭
素源としてのキシロース、ガラクトース及びマルトース
に対して資化性を有する点で菌学的性質が異なること、
又、誘導期及びフェノール分解ｗＦＩＩＩｉがより短い
ことから、両者は亙いに異なる菌株であると判断される
。
と藤田による上記文献中に記載のシュードモナス・プチ
ーダＢＨと較べて、硝酸塩還元が陽性であり、並びに炭
素源としてのキシロース、ガラクトース及びマルトース
に対して資化性を有する点で菌学的性質が異なること、
又、誘導期及びフェノール分解ｗＦＩＩＩｉがより短い
ことから、両者は亙いに異なる菌株であると判断される
。
更に、本発明者は、フェノールに対するシュードモナス
・プチーダＷＡＳ−２の耐性能を改善する目的で、ＷＡ
Ｓ−２株に紫外線を照射し、突然変異誘発により、２０
００ｊ１９ ／ Ｒの濃度のフェノールを含む無機塩培
地中での生育が可能である突然変異株を単一コロニーと
して分離し、この変異株をシュードモナス・プチーダＷ
へ５−２Ｄ （平成元年８月３日付寄託、微工研菌寄第
１０９２５号、 ＦＥＲＮＰ−１０９２５）と命名した
。ＷＡＳ−２Ｄ株は、親株であるＷＡＳ−２株と同じ菌
学的性質を有しているが、フェノールを資化又は分解す
る能力はＷＡＳ−２株より高く、フェノールを唯一の炭
素源とする無機塩培地中、バッチ式振盪通気培養によっ
て、約４８時間で２０００１１Ｉ／ ｌの濃度のフェノ
ールをほぼ完全に分解する。
・プチーダＷＡＳ−２の耐性能を改善する目的で、ＷＡ
Ｓ−２株に紫外線を照射し、突然変異誘発により、２０
００ｊ１９ ／ Ｒの濃度のフェノールを含む無機塩培
地中での生育が可能である突然変異株を単一コロニーと
して分離し、この変異株をシュードモナス・プチーダＷ
へ５−２Ｄ （平成元年８月３日付寄託、微工研菌寄第
１０９２５号、 ＦＥＲＮＰ−１０９２５）と命名した
。ＷＡＳ−２Ｄ株は、親株であるＷＡＳ−２株と同じ菌
学的性質を有しているが、フェノールを資化又は分解す
る能力はＷＡＳ−２株より高く、フェノールを唯一の炭
素源とする無機塩培地中、バッチ式振盪通気培養によっ
て、約４８時間で２０００１１Ｉ／ ｌの濃度のフェノ
ールをほぼ完全に分解する。
上記のようにして単離したシュードモナス◆プチーダＷ
ＡＳ−２又はＷＡＳ−２Ｄは、ニュート’ＪＸント・７
０ス（Ｄｉｒｃｏ Ｊｌ、＃ ０００３−Ｏｆ−６）中
、最適温度２８℃で２４時間継代培養〈２回）を行った
後、５０ＯＮ ／ Ｉ！の濃度のフェノールを含有する
無機塩培地中に植菌し、同じ温度で更に２４時間通気培
養を行って増殖させることが可能である。
ＡＳ−２又はＷＡＳ−２Ｄは、ニュート’ＪＸント・７
０ス（Ｄｉｒｃｏ Ｊｌ、＃ ０００３−Ｏｆ−６）中
、最適温度２８℃で２４時間継代培養〈２回）を行った
後、５０ＯＮ ／ Ｉ！の濃度のフェノールを含有する
無機塩培地中に植菌し、同じ温度で更に２４時間通気培
養を行って増殖させることが可能である。
無機塩培地は、リン酸水素−ナトリウム（３４１８１４
１゜リン酸水素二カリウム（６４１）１） 、 １ｉＱ
Ｉｌアンモニウム（２０１Ｍ） 、硫酸マグネシウム（
０，３＋ｅＨ）、硫酸第一鉄（１μＭ〉、塩化亜鉛（１
μＭ）及び塩化カルシウム（１０μＭ）を包含し、ｐＨ
を最終的に７．０に調整したものが好ましいが、あるい
は、活性汚泥装置の曝気槽内に流入させる原水を加圧蒸
気滅菌し、この中に最終濃度ｓｏｏＩ１ｇ／ Ｉとなる
ようにフェノールを添加したものも培地として使用し得
る。また、本発明のフェノール資化性ｌｌ薗を大量培養
する場合には、フェノールを含有する上記無機塩培地の
代わりに、炭素源無添加の１％（Ｗｔ／ｖ０１）濃度の
米ぬかを使用してもよい。
１゜リン酸水素二カリウム（６４１）１） 、 １ｉＱ
Ｉｌアンモニウム（２０１Ｍ） 、硫酸マグネシウム（
０，３＋ｅＨ）、硫酸第一鉄（１μＭ〉、塩化亜鉛（１
μＭ）及び塩化カルシウム（１０μＭ）を包含し、ｐＨ
を最終的に７．０に調整したものが好ましいが、あるい
は、活性汚泥装置の曝気槽内に流入させる原水を加圧蒸
気滅菌し、この中に最終濃度ｓｏｏＩ１ｇ／ Ｉとなる
ようにフェノールを添加したものも培地として使用し得
る。また、本発明のフェノール資化性ｌｌ薗を大量培養
する場合には、フェノールを含有する上記無機塩培地の
代わりに、炭素源無添加の１％（Ｗｔ／ｖ０１）濃度の
米ぬかを使用してもよい。
次に、上記に示す手順で大量に培養して得た本発明細菌
を、フェノールを含む廃水に添加して通気するか、又は
フェノールを含む廃水に馴養脅威した、本発明細菌を主
体とする活性汚泥を同様の廃水に加えて曝気することに
より、フェノール含有廃水を酸化的に分解処理すること
が可能である。
を、フェノールを含む廃水に添加して通気するか、又は
フェノールを含む廃水に馴養脅威した、本発明細菌を主
体とする活性汚泥を同様の廃水に加えて曝気することに
より、フェノール含有廃水を酸化的に分解処理すること
が可能である。
特に、ＷＡＳ−２０株は、フェノール耐性能が高いため
に、予めフェノールに対して馴養することなく直接廃水
処理に使用してもよい。
に、予めフェノールに対して馴養することなく直接廃水
処理に使用してもよい。
本発明のシュードモナス・プチーダＷＡＳ−２又はＷＡ
Ｓ−２Ｄは、フェノールを最も好ましくは資化又は分解
し得るが、−クレゾール、ｐ−ヒドロキシ安息香酸など
の水溶性置換フェノール類に対する資化能力も保持して
おり、本発明細菌を親株とする突然変異誘発によりこれ
らのフェノール類に対して耐性能及び分解能のより高い
変異株を創製し得ることも可能である。
Ｓ−２Ｄは、フェノールを最も好ましくは資化又は分解
し得るが、−クレゾール、ｐ−ヒドロキシ安息香酸など
の水溶性置換フェノール類に対する資化能力も保持して
おり、本発明細菌を親株とする突然変異誘発によりこれ
らのフェノール類に対して耐性能及び分解能のより高い
変異株を創製し得ることも可能である。
【発明の効果］
本発明細菌は、高濃度フェノールに耐性であり、且つフ
ェノールに対する高い分解能を有している。
ェノールに対する高い分解能を有している。
又、公知のフェノール資化性細菌と較べて、誘導期及び
フェノール分解時間がより短い。特に、変異株であるシ
ュードモナス・プチーダＷＡＳ−２９は、無機塩培地に
において２０００１１９／１の高濃度のフェノールを責
化し得、また必ずしもフェノール含有廃水中での馴養を
行う必要がないために、従来公知の微生物と比較してフ
ェノール耐性能にすぐれた細菌である。
フェノール分解時間がより短い。特に、変異株であるシ
ュードモナス・プチーダＷＡＳ−２９は、無機塩培地に
において２０００１１９／１の高濃度のフェノールを責
化し得、また必ずしもフェノール含有廃水中での馴養を
行う必要がないために、従来公知の微生物と比較してフ
ェノール耐性能にすぐれた細菌である。
従って、本発明ｌ１１１Ｍを活性汚泥中に投入した場合
、フェノール含有廃水の浄化を改善することが期待され
る。更にまた、本発明ｌ［Ｉｍの遺伝子工学的改良を行
う場合、宿主菌又は遺伝子供与体として有用であると予
想される。
、フェノール含有廃水の浄化を改善することが期待され
る。更にまた、本発明ｌ［Ｉｍの遺伝子工学的改良を行
う場合、宿主菌又は遺伝子供与体として有用であると予
想される。
以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明する。
実施例 １
紫外線による突然変異誘発（シュードモナス・プチーダ
ＷＡＳ−２Ｄの創製）： 親株であるシュードモナス・プチーダＷＡＳ−２を、４
ｍのニュートリエンド・ブロス（旧ｆｃ。
ＷＡＳ−２Ｄの創製）： 親株であるシュードモナス・プチーダＷＡＳ−２を、４
ｍのニュートリエンド・ブロス（旧ｆｃ。
社、 ＃ ０００３−０１−６） 中、２８℃テ２ｘ１
Ｇ８ｍ／＃１ｅ（Ｄ苗密度となるまで振盪培養を行った
後、菌体を遠心沈澱し、２Ｉ１１の０．ＩＨ８０３０４
水溶液に懸濁する。
Ｇ８ｍ／＃１ｅ（Ｄ苗密度となるまで振盪培養を行った
後、菌体を遠心沈澱し、２Ｉ１１の０．ＩＨ８０３０４
水溶液に懸濁する。
この懸濁液に、紫外線源として１５Ｗ殺菌灯を用いて３
５値の距離から１５秒間紫外線を照射する。このとき、
菌体の生存率は１〜５％であった。紫外線照射後、菌体
を遠心沈澱し、２８℃で２４時間振盪培養する。次に、
０．１ａｄの培養液を採取して５００〜１５００１９／
Ｉの濃度のフェノールを含むニュートリエンド・アガー
培地（Ｄｉｆｃｏ社、 ＃ ０００１−０１−８）上に
接種し、２８℃で２４時間培養する。１０００ｑ＃の濃
度のフェノールを含む前記培地上での増殖が、紫外線未
照射のコントロールに較べて最も良いものを突然変異株
として分離し、これをシュードモナス・プチーダＷＡＳ
−２Ｄと命名した。
５値の距離から１５秒間紫外線を照射する。このとき、
菌体の生存率は１〜５％であった。紫外線照射後、菌体
を遠心沈澱し、２８℃で２４時間振盪培養する。次に、
０．１ａｄの培養液を採取して５００〜１５００１９／
Ｉの濃度のフェノールを含むニュートリエンド・アガー
培地（Ｄｉｆｃｏ社、 ＃ ０００１−０１−８）上に
接種し、２８℃で２４時間培養する。１０００ｑ＃の濃
度のフェノールを含む前記培地上での増殖が、紫外線未
照射のコントロールに較べて最も良いものを突然変異株
として分離し、これをシュードモナス・プチーダＷＡＳ
−２Ｄと命名した。
実施例 ２
フェノール資化性細菌の増殖：
フェノール資化性細菌シュードモナス・プチーダＷＡＳ
−２又はＷＡＳ−２０の単一コロニーを、５ｍのニュー
トリエンド・ブロス中に接種し、２８℃で２４時間振盪
培養する。更に、得られた菌体を、５０−の新鮮なニュ
ートリエンド・ブロス中に植え継ぎ、２８℃で２４時時
間化培養を行った。このうち１１５０容量の培養物を、
５００ｑ／ ｌのフェノールを含（ｒ １０００ｊｄ！
＋７）無機塩培地［３４ｅ１４ ＮａＨ２ＰＯ４。
−２又はＷＡＳ−２０の単一コロニーを、５ｍのニュー
トリエンド・ブロス中に接種し、２８℃で２４時間振盪
培養する。更に、得られた菌体を、５０−の新鮮なニュ
ートリエンド・ブロス中に植え継ぎ、２８℃で２４時時
間化培養を行った。このうち１１５０容量の培養物を、
５００ｑ／ ｌのフェノールを含（ｒ １０００ｊｄ！
＋７）無機塩培地［３４ｅ１４ ＮａＨ２ＰＯ４。
６４１８ Ｋ ＨＰＯ４、２０１Ｎ（Ｎ
口 、） ２ Ｓｏ ４ 。
口 、） ２ Ｓｏ ４ 。
０．３１８ ＭＱＳＯ４，１μＨＦｅ５０ 、 １μ
ＭＺｎＣｊ２ 、１０μＨＣａＣｊ２ ：ｐＨ７，０
１ニ植菌し、２８℃で２４時間好気的に振盪培養する。
ＭＺｎＣｊ２ 、１０μＨＣａＣｊ２ ：ｐＨ７，０
１ニ植菌し、２８℃で２４時間好気的に振盪培養する。
この結果、シュードモナス・プチーダＷＡＳ−２又はＷ
Ａｓ−２Ｄの最終菌体濃度は、夫々５．８Ｘ １００個
／Ｉｄ又は５．６Ｘ １００個／ｄであった。
Ａｓ−２Ｄの最終菌体濃度は、夫々５．８Ｘ １００個
／Ｉｄ又は５．６Ｘ １００個／ｄであった。
実施例 ３
シュードモナス・プチーダＷＡＳ−２によるフェノール
資化： 実施例２に記載の方法で増殖させたシュードモナス・プ
チーダＷＡＳ−２の培養物１１５０容量を、炭素源とし
てフェノール１０００ｊ１９ ／ ｊを含む、実施例２
と同じ無機塩培地５０ｄに接種し、３０℃で好気的に振
盪（１５０ｒｐｍ）培養を行う。１２時間の誘導期を経
て良好な資化生育速度を示し、培養開始２５時間後、培
養上清の残留フェノール濃度は０．５■／ｊ！以下とな
り、同時に菌体は最大成育量に達した。
資化： 実施例２に記載の方法で増殖させたシュードモナス・プ
チーダＷＡＳ−２の培養物１１５０容量を、炭素源とし
てフェノール１０００ｊ１９ ／ ｊを含む、実施例２
と同じ無機塩培地５０ｄに接種し、３０℃で好気的に振
盪（１５０ｒｐｍ）培養を行う。１２時間の誘導期を経
て良好な資化生育速度を示し、培養開始２５時間後、培
養上清の残留フェノール濃度は０．５■／ｊ！以下とな
り、同時に菌体は最大成育量に達した。
なお、フェノール残存量の測定は、４−アミノアンチピ
リンを使用するＪＩＳ Ｋ ０１０２−１９７１ （工
場排水試験方法）に従って行った。
リンを使用するＪＩＳ Ｋ ０１０２−１９７１ （工
場排水試験方法）に従って行った。
実施例 ４
シュードモナス・プチーダＷＡＳ−２Ｄによるフェノー
ル資化： 実施例２に記載の方法で増殖させたシュードモナス・プ
チーダＷＡＳ−２０の培養物１１５０容量を、炭素源と
してフェノール２０００４ ／ １を含む、実施例２と
同じ無機塩培地５０−に接種し、２８℃で好気的に振！
ｌ（１５０ｒｐｍ）培養を行う。１５時間の誘導期を経
て良好な資化生育速度を示し、培養開始後４８時間後、
培養上清の残留フェノール濃度は０．５ ＩＩＩ／ＩＩ
以下となり、同時に菌体は最大成育量に達した。
ル資化： 実施例２に記載の方法で増殖させたシュードモナス・プ
チーダＷＡＳ−２０の培養物１１５０容量を、炭素源と
してフェノール２０００４ ／ １を含む、実施例２と
同じ無機塩培地５０−に接種し、２８℃で好気的に振！
ｌ（１５０ｒｐｍ）培養を行う。１５時間の誘導期を経
て良好な資化生育速度を示し、培養開始後４８時間後、
培養上清の残留フェノール濃度は０．５ ＩＩＩ／ＩＩ
以下となり、同時に菌体は最大成育量に達した。
Claims (4)
- （１）高濃度フェノールに耐性であり、且つ液中に含有
するフェノールを資化又は分解する能力を有する細菌シ
ユードモナス・プチーダ（￥Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓｐ
ｕｔｉｄａ￥）ＷＡＳ−２。 - （２）無機塩培地において、１０００ｍｇ／ｌの濃度の
フェノールを資化し得る特許請求の範囲第１項に記載の
シュードモナス・プチーダＷＡＳ−２。 - （３）高濃度フェノールに耐性であり、且つ液中に含有
するフェノールを資化又は分解する能力を有する細菌シ
ュードモナス・プチーダ（￥Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓｐ
ｕｔｉｄａ￥）ＷＡＳ−２Ｄ。 - （４）無機塩培地において、２０００ｍｇ／ｌの濃度の
フェノールを資化し得る特許請求の範囲第３項に記載の
シュードモナス・プチーダＷＡＳ−２Ｄ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1202624A JPH0367581A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | フェノール資化性細菌 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1202624A JPH0367581A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | フェノール資化性細菌 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0367581A true JPH0367581A (ja) | 1991-03-22 |
Family
ID=16460447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1202624A Pending JPH0367581A (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | フェノール資化性細菌 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0367581A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0880188A (ja) * | 1995-08-25 | 1996-03-26 | Canon Inc | フェノール性化合物分解能を有する微生物の取得方法 |
| WO2003008434A3 (en) * | 2001-07-17 | 2003-05-30 | Nelly Gennadievna Astrova | Strains of bacteria destructive for hydrocarbon-containing compounds, surface-active agents and xenobiotics used for cleaning the hydrosphere |
| JP2022146127A (ja) * | 2021-03-22 | 2022-10-05 | 株式会社日立製作所 | Ｃｏ２資化微生物のスクリーニング法 |
| WO2024202120A1 (ja) * | 2023-03-30 | 2024-10-03 | 三菱重工業株式会社 | 生物処理槽の製造方法 |
-
1989
- 1989-08-04 JP JP1202624A patent/JPH0367581A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0880188A (ja) * | 1995-08-25 | 1996-03-26 | Canon Inc | フェノール性化合物分解能を有する微生物の取得方法 |
| WO2003008434A3 (en) * | 2001-07-17 | 2003-05-30 | Nelly Gennadievna Astrova | Strains of bacteria destructive for hydrocarbon-containing compounds, surface-active agents and xenobiotics used for cleaning the hydrosphere |
| JP2022146127A (ja) * | 2021-03-22 | 2022-10-05 | 株式会社日立製作所 | Ｃｏ２資化微生物のスクリーニング法 |
| US12152234B2 (en) | 2021-03-22 | 2024-11-26 | Hitachi, Ltd. | Method of screening CO2-assimilating microorganism |
| WO2024202120A1 (ja) * | 2023-03-30 | 2024-10-03 | 三菱重工業株式会社 | 生物処理槽の製造方法 |
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