JPH0367623B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〈産業上の利用分野〉 本発明は磁気記録媒体用ベースフイルムに関
し、更に詳しくは平坦で走行性に優れ、長時間記
録の可能な金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステル
ベースフイルムに関する。 〈従来技術〉 近年、高密度磁気記録用媒体として、バインダ
ーを用いず、磁気記録層として強磁性金属薄膜を
真空蒸着やスパツタリングの如き真空沈着法又は
メツキ法によつて非磁性支持体上に形成して、こ
の強磁性金属を薄膜磁気記録材としたものが提案
されている。例えばCoの蒸着テープ（特開昭54
−147010号公報）、Co−Cr合金からなる垂直磁化
膜（特開昭52−134706号公報）等が提案されてい
る。このような蒸着、スパツタ又はイオンプレー
テイング等の薄膜形成手段によつて形成される金
属薄膜は、厚みが3μｍ以上である従来の塗布型
記録媒体と同等以上の性能が期待される。 ところで、静的特性である保磁力Hc、または
ヒステリシスループの角形比のような磁気特性
は、用いられる非磁性支持体の表面状態にあまり
依存しないという考えによつたものとして米国特
許3787327号明細書に開示されたような真空蒸着
によるCo−Crの多層構造の例が挙げられる。し
かしながら、形成される金属薄膜は厚さが薄く、
非磁性支持体の表面状態（表面凹凸）がそのまま
磁性膜の凹凸として発現し、それが雑音の原因と
なることが欠点とされていた。このため、雑音の
観点からは、非磁性支持体の表面状態が出来るだ
け平滑であることが好ましい。 一方、フイルム巻取、巻出しといつたハンドリ
ングの観点からは、フイルム表面が平坦である
と、フイルム−フイルム相互の滑り性が悪く、ま
たブロツキング現象が発生して製品にはなり得
ず、ベースフイルム表面が粗であることが要求さ
れる。 更に電磁変換特性という観点からは、非磁性支
持体の表面が平坦であることが要求され、一方ハ
ンドリング性の観点からは粗であることが要求さ
れる。 これら両者の二律背反する性質を同時に満足す
ることがベースフイルムに求められている。 更に、金属薄膜磁気記録媒体としては、実際に
使用される時の重大な問題は金属薄膜面の走行性
である。従来の塗布型磁気記録媒体の場合には、
磁性体粉末のバインダー中に滑剤を入れて磁性面
の走行性を向上させることができるが、金属薄膜
磁気記録媒体の場合の走行性を安定して保つのは
非常に困難であり、特に、高温高湿時の走行性が
特に劣るなどの欠点を有していた。更に長時間記
録化のとき、ヘツドの出力波形（以下エンベロー
プとする）の初期との差が著しく大きく、出力が
低下し、長時間の記録が困難である等の欠点を有
していた。 〈発明の目的〉 本発明は、平坦であり、走行性に優れた長時間
記録が可能である金属薄膜を形成することが可能
な金属薄膜磁気記録媒体用ポリエステルベースフ
イルムを提供することにある。 〈発明の構成・効果〉 本発明の目的は、本発明によれば、下記特性(イ)
〜(ホ)を満足する二軸配向ポリエステルフイルムの
片面に、 (イ) 縦方向のヤング率 500Kg／mm²以下 (ロ) 横方向のヤング率 650Kg／mm²以上 (ハ) 横方向の150℃での熱収縮率 １〜５％ (ニ) 表面に中心線平均粗さ（Ra） 0.001〜0.003μ (ホ) 高さ(h)が0.27〜0.54μの突起物の数
0.2個／mm²以下 ポリウレタン、アクリル樹脂、低分子量ポリオ
レフインワツクスおよび平均粒径が0.15μ以下の
粗面化物質を主成分とする組成物からなり、表面
の中心線平均粗さRaが0.002〜0.01μでありかつ表
面には山脈状の凹凸がない薄膜を形成し、該薄膜
を形成しないポリエステルフイルム表面を金属薄
膜形成面とする磁気記録媒体用ベースフイルムに
よつて達成される。 本発明においてポリエステルとは、芳香族二塩
基酸またはそのエステル形成誘導体とジオールま
たはそのエステル形成性誘導体とから合成される
線状飽和ポリエステルである。かかるポリエステ
ルの具体例として、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレ
ンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレート等が例示
でき、これらの共重合体またはこれらと小割合の
他樹脂とのブレンド物なども含まれる。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、下
記特性(イ)〜(ホ)を満足するフイルムである。 (イ) 縦方向のヤング率 500Kg／mm²以下 (ロ) 横方向のヤング率 650Kg／mm²以上 (ハ) 横方向の150℃での熱収縮率 １〜５％ (ニ) 表面の中心線平均粗さ（Ra） 0.001〜0.003μ (ホ) 突起高さ(h)が0.27〜0.54μの突起の数
0.2個／mm²以下 この二軸配向ポリエステルフイルムは、ポリエ
ステルを溶融押出し急冷して未延伸フイルムと
し、次いで該未延伸フイルムを逐次二軸延伸する
方法をベースにして作ることができる。例えば上
記特性(イ)〜(ホ)を満足する二軸配向ポリエチレンテ
レフタレートフイルムは、滑剤を含有するポリエ
チレンテレフタレートをダイから溶融押出し、キ
ヤステイングドラム上で急冷して未延伸フイルム
とし、次いで該未延伸フイルムを二軸方向に逐次
延伸し熱処理して作るが、その際フイルムが上記
特性を有するように製膜条件を縦方向延伸倍率
3.0〜3.8倍、横方向延伸倍率3.5〜4.5倍、延伸温
度夫々80〜120℃、熱固定温度150〜240℃の範囲
から選択する。また、横方向の熱収縮率は横方向
に弛緩させるか、緊張させるかして所望の値とす
ることができる。 二軸配向ポリエステルフイルムは４〜15μ、更
には５〜13μの厚みのものが好ましい。更に横方
向のヤング率は700Kg／mm²以上が好ましく、横方
向の150℃での熱収縮率は２〜４％が好ましく、
表面の中心線平均粗さRaは0.0015〜0.0025μが好
ましく、また表面における突起高さ(h)が0.27〜
0.54μの突起の数は０個／mm²が好ましい。 上記表面の中心線平均粗さRaや突起の数は通
常ポリエステル中に分散含有させる滑剤によつて
調節できる。この滑剤としては平均粒径が20〜
100ｍμ、特に30〜80ｍμの酸化ケイ素が好まし
く挙げられ、該酸化ケイ素は0.005〜0.1重量％、
特に0.008〜0.05重量％の割合でポリエステル中
に分散含有させるのが好ましい。滑剤は粗大粒子
例えば凝集粒子を含まないことが好ましく、例え
ば酸化ケイ素をポリエステル製造過程で添加する
場合、該酸化ケイ素は一旦水分散ゾルとした後水
をグリコール（例えばエチレングリコール）で置
換してグリコール分散液としてから用いるのが好
ましい。酸化ケイ素を直接グリコールに分散させ
たものは添加時に凝集が生じ、フイルム表面に粗
大突起を形成するようになるので好ましくない。
滑剤時に酸化ケイ素の平均粒径が20ｍμ未満では
フイルム表面が完全に平坦になつてしまい、走行
耐久性が悪くなり、一方100ｍμを越えるとフイ
ルム表面の突起が大きくなり、電磁変換特性とし
ての出力低下が大きく、好ましくない。また、滑
剤の含有量が少なすぎるとフイルム表面が平坦に
なりすぎ、一方多すぎるとフイルム表面の突起が
高くなりすぎ、好ましくない。 本発明においては上記特性を満足する二軸配向
ポリエステルフイルムの片面に、ポリウレタン、
アクリル樹脂、低分子量ポリオレフインワツクス
および平均粒径が0.15μ以下の粗面化物質を主成
分とする組成物からなり、表面の中心線平均粗さ
Raが0.002〜0.01μであり、かつ山脈状の凹凸がな
く、微小凹凸の表面状態にある膜を形成する。 このポリエステルフイルム表面上に薄膜を形成
する塗液は水性塗液が好ましく、該塗液中のポリ
ウレタンは水性ポリウレタンが好ましく、これは
カルボン酸塩基、スルホン酸塩基又は硫酸半エス
テル塩基によつて水への親和性が高められたポリ
ウレタンであり、通常かかる水親和性付与基はポ
リウレタン合成時ないし合成後に導入される。 カルボン酸塩基、スルホン酸塩基、硫酸半エス
テル塩基等の塩基の量は0.5〜15重量％が好まし
い。塩基の割合が少なすぎるとポリウレタンの水
親和性が不足して塗布液の調製が難しくなり、ま
た多すぎるとポリウレタン本来の特性が損われる
ので、好ましくない。かかる水性ポリウレタン
は、所望により分散助剤を用いて、安定な水分散
液を形成するものないし水溶液を形成するもので
ある。 ポリウレタンの合成に用いるポリヒドロキシ化
合物としては、例えばポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリエチレン・ポリ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、テトラメチレン
グリコール、１，５−ペンタンジオール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ポリ
カプロラクトン、ポリヘキサメチレンアジペー
ト、ポリヘキサメチレンセバケート、ポリテトラ
メチレンアジペート、ポリテトラメチレンセバケ
ート、トリメチロールプロパン、トリメチロール
エタン、ペンタエリスリトール、グリセリン等を
挙げることができる。ポリイソシアネート化合物
としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネネ
ート、ジフエニルメタンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート、トリレンジイソシアネートとトリメチロー
ルプロパンの付加物、ヘキサメチレンジイソシア
ネートとトリメチロールエタンの付加物等を挙げ
ることができる。カルボン酸含有ポリオールとし
ては、例えばジメチロールプロピオン酸、ジメチ
ロール酪酸、ジメチロール吉草酸、トリメリツト
酸ビス（エチレングリコール）エステル等を挙げ
ることができる。アミノ基含有カルボン酸として
は、例えばβ−アミノプロピオン酸、γ−アミノ
酪酸、Ｐ−アミノ安息香酸等を挙げることができ
る。水酸基含有カルボン酸としては、例えば３−
ヒドロキシプロピオン酸、γ−ヒドロキシ酪酸、
Ｐ−（２−ヒドロキシエチル）安息香酸、リンゴ
酸等をあげることができる。アミノ基又は水酸基
とスルホン基を有する化合物としては、例えばア
ミノメタンスルホン酸、２−アミノエタンスルホ
ン酸、２−アミノ−５−メチルベンゼン−２−ス
ルホン酸、β−ヒドロキシエタンスルホン酸ナト
リウム、脂肪族ジ第１級アミン化合物のプロパン
サルトン、ブタンサルトン付加生成物等が挙げら
れ、好ましくは脂肪族ジ第１級アミン化合物のプ
ロパンサルトン付加物があげられる。更に、アミ
ノ基または水酸基と硫酸半エステル基を含有する
化合物としては、例えばアミノエタノール硫酸、
エチレンジアミンエタノール硫酸、アミノブタノ
ール硫酸、ヒドロキシエタノール硫酸、γ−ヒド
ロキシプロパノール硫酸、α−ヒドロキシブタノ
ール硫酸等があげられる。 これら化合物を用いてのポリウレタンの合成
は、従来から良く知られている方法で合成するこ
とができる。 本発明における薄膜形成成分のアクリル樹脂と
しては、メチルメタクリレート成分が40〜80モル
％であり、これと共重合可能な他のビニルモノマ
ー成分を20〜60％有する水性アクリル樹脂である
ことが好ましい。アクリル樹脂中のメチルメタク
リレート成分が40モル％未満では、塗膜の強度低
下、軟質化傾向を示し、耐ブロツキングの悪化に
よるハンドリング性の低下等が生じ、好ましくな
い。一方、メチルメタクリレート成分が80モル％
を越えると、塗膜の硬質化傾向を示し、塗膜が脆
くなり、基材との密着性が低下したり、造膜性が
劣る等を生じ、好ましくない。 上記メチルメタクリレートと共重合可能な他の
ビニルモノマーとしては、例えば、アルキルアク
リレート（アルキル基としてはメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチル
ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フ
エニルエチル基等）；アルキルメタクリレート
（アルキル基としては上記アルキルアクリレート
のメチル基を除くアルキル基等）；２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等
のヒドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、
Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチロールアルリルアミド、Ｎ−メト
キシメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル
メタクリルアミド、Ｎ−フエニルアクリルアミド
等のアミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノエチルメタクリレート等のアミノ基含有モノマ
ー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキ
シ基含有モノマー；スチレンスルホン酸、ビニル
スルホン酸およびそれらの塩（ナトリウム塩、カ
リウム塩、アンモニウム塩等）等のスルホン酸基
またはその塩を含有するモノマー；クロトン酸、
イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール
酸及びそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、
アンモニウム塩等）等のカルボキシル基またはそ
の塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水
イタコン酸等の酸無水物を含有するモノマー；そ
の他、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネ
ート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニル
エチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラ
ン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキル
フマール酸モノエステル、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエス
テル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル
等が挙げられる。 メチルメタクリレートと共重合される上述のモ
ノマーは１種苦しくは２種以上の組合せで自由に
選択されるが、アクリル樹脂への親水性付与、水
性液の分散安定性、ポリエステルフイルムとの密
着性等の点から、水酸基、アミド基やカルボキシ
ル基またはその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、
アンモニウム塩等）等の官能基を有するものが好
ましい。また、塗膜の耐熱性、強度、耐水性等の
改善には、熱硬化タイプが好適であり、例えば、
エポキシ基含有モノマーとアミノ基、酸無水物
基、カルボキシル基、ヒドロキシル基またはＮ−
メチロール基を含有するモノマーとの組合せ；Ｎ
−メチロールまたはＮ−メチロールエーテル基を
含有するモノマーとカルボキシル基またはアミノ
基を含有するモノマーとの組合せ等、また、カル
ボン酸塩基やメチロール基のように単独でも熱硬
化性を有するモノマーを例示できる。これらの反
応性基の１種または２種以上の組合せは１種のア
クリル樹脂または２種以上のアクリル樹脂に任意
に導入することができ、要すれば、加熱時互いに
反応し得る基を有するアクリル樹脂の組合せにす
れば良い。また、低分子量物質（例えば、アルキ
ロール化メラミン等）でアクリル樹脂中の反応性
基と加熱時互いに反応し得る基を有するものを１
種以上添加することもできる。 アクリル樹脂の水性液の製造法は公知の任意の
方法で実施できる。その際、必要に応じて、分子
量調整剤（メルカプタン類）や分散補助剤（ポリ
ビニルアルコール、ヒドロキシメチルセルロース
等の高分子保護コロイド類）等を添加しても良
い。 その他、低分子量界面活性剤、高分子量界面活
性剤、反応性界面活性剤等の応用、界面活性剤を
含有しない、所謂ソープフリー重合による製造法
も採用し得る。 本発明における薄膜形成成分の低分子量ポリオ
レフインワツクスとは、高分子量ポリオレフイン
樹脂に類似の物理的化学的性質を有しながら、溶
融粘度が極端に低く、且つワツクス類例えばパラ
フインワツクス、ミクロクリスタリンワツクス、
カルバナワツクス、モンタンワツクス等に比べて
融点が高い特徴を有するものである。特に低分子
量ポリプロピレンは150℃という高い融点を持つ
ている。 これらポリオレフインワツクスの水性化は、例
えば溶融ポリオレフインと乳化剤（界面活性剤
等）入り熱水とを混合してＯ／Ｗ型エマルジヨン
等公知の製造方法によつて可能であり、また、酸
化して分子中にカルボキシル基を含有させたポリ
オレフインでは水での乳化が更に容易となる。こ
れら低分子量ポリオレフインの中でもポリエチレ
ンワツクスが好ましく、就中平均分子量1000〜
10000、密度0.91〜0.97（ｇ／ml）、ブルツクフイ
ールド粘度計での溶融粘度（140℃，cps）が約20
〜約700の範囲にあるポリエチレンワツクスが好
ましい。更には、分子量2000〜4000の範囲のもの
が水性化し易く、ポリエチレンワツクスとしての
滑性等の特性を満足し、好ましい。尚、高分子量
ポリエチレン（分子量20000）では約8000万cpsと
溶融粘度が極端に高くなるため、水性化が極めて
困難となる。 本発明において、上記ポリウレタン及びアクリ
ル樹脂及び低分子量ポリオレフインワツクスの水
性液（水溶液または分散液若しくは乳化液）と混
合させる粗面化物質としては、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビ
ニリデンフルオライド若しくはポリアクリロニト
リル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機質微粉
末、またはシリカ、アルミナ、二酸化チタン、カ
オリン、タルク、グラフアイト、炭酸カルシウ
ム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラツク
もしくは硫酸バリウム等の如き無機質微粉末等が
挙げられ、これらは乳化剤等を用いて水性分散液
としたものであつてもよく、また、微粉末状でポ
リウレタン水性液、アクリル樹脂水性液、低分子
量ポリオレフインワツクス水性液に添加できるも
のであつてもよい。 この粗面化物質は平均粒径0.15μ以下の微粒子
であり、好ましくは0.01〜0.1μである。また、こ
れらの水不溶性の固体物質は水分散液中で沈降す
るのを避けるため、比重が３を超えない超微粒子
であることが好ましい。平均粒径が0.15μより大
きくなると薄膜表面が粗れすぎて好ましくない。 粗面化物質は薄膜自体の微小突起の均一形成を
促進する効果と微粉末自体による薄膜の補強効果
とを奏し、更にはアクリル樹脂、低分子量ポリオ
レフインワツクスの薄膜への耐ブロツキング性、
摩擦力の低減性等の寄与効果並びに両者の相乗効
果による薄膜への耐スクラツチ性寄与効果とあい
まつて、ポリエステルフイルムに優れた易滑性効
果を賦与する。 薄膜の主成分たるポリウレタン(A)、アクリル樹
脂(B)、低分子量ポリオレフインワツクス(C)及び粗
面化物質(D)の混合割合は、通常、［(A)＋(B)＋
(C)］／(D)＝98／２〜40／60，［(A)＋(B)］／(C)＝
98／２〜40／60、且つ(A)／(B)＝90／10〜10／90
（固形分換算：重量％）の範囲であることが好ま
しく、更には［(A)＋(B)＋(C)］／(D)＝95／５〜60／
40，［(A)＋(B)］／(C)＝95／５〜60／40，(A)／(B)＝
80／20〜20／80（重量比）の範囲にあるのが好ま
しい。アクリル樹脂、低分子量ポリオレフインワ
ツクスの混合割合が少なすぎると、摩擦力が上昇
してハンドリング性を悪化させ、一方多すぎると
薄膜とポリエステルフイルムとの密着性を低下さ
せたり、薄膜の脆化を招いたりして、フイルムの
易滑性が低減してくる。また、粗面化物質の混合
割合が少なすぎると、添加される粗面化物質の、
薄膜中での微細突起形成物質としての突起均一形
成効果の減少、微粉末自体としての薄膜への補強
効果の減少により、フイルムの易滑性が低減し、
一方この割合が多すぎると、粗面化物質の比率が
高くなり、薄膜とポリエステルフイルムとの密着
性が低下したり、薄膜が脆くなる等により、微小
突起が使用時にフイルムに負荷される程度の摩擦
力で破壊され、薄膜が摩減することから、易滑化
効果の持続性が損われる。 ポリウレタン、アクリル樹脂及び低分子量ポリ
オレフインワツクス(C)と粗面化物質(D)との混合
は、それぞれを水分散液の状態としてから行つて
も良く、(A)，(B)若しくは(C)、または(A)，(B)，(C)全
体の水分散液の中に粉末状粗面化物質を、要すれ
ば乳化剤を添加し、撹拌分散してもよい。 本発明におけるポリエステルフイルム上の薄膜
は、上述の塗液を配向結晶化の過程が完了する前
のポリエステルフイルムの表面に塗布する手段で
形成するのが好ましい。その際塗膜を円滑に塗設
できるようにするために予備処理としてフイルム
表面にコロナ放電処理を施すか、または薄膜形成
組成物とともにこれと化学的に不活性な界面活性
剤を併用することが好ましい。 界面活性剤は塗液の表面張力を40dyne／cm以
下に降下できるようなポリエステルフイルムへの
濡れを促進するものであり、例えば、ポリオキシ
エチレンアルキルフエニルエーテル、ポリオキシ
エチレン−脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エ
ステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属
石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、
アルキルスルホコハク酸塩等のアニオン型、ノニ
オン型界面活性剤等を挙げることができる。更
に、本発明の効果を消失させない範囲において、
例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、潤滑剤等の他
の添加剤を混合することができる。 ここで、上記結晶配向が完了する前のポリエス
テルフイルムとしては、未延伸フイルム、一軸方
向に延伸された状態のフイルム、二軸方向に延伸
されているが少なくともいずれか一方の延伸配向
が所定の配向度になつていないフイルム等が挙げ
られる。 塗液の固形分濃度は、通常30重量％以下であ
り、15重量％以下が好ましい。粘度は100cps以
下、好ましくは20cps以下が適当である。塗布量
は走行しているフイルム１m²当り約0.5〜20ｇ、
更には１〜10ｇが好ましい。換言すれば、最終的
に得られる二軸延伸フイルムにおいて、フイルム
の一表面に１m²当り約0.001〜１ｇ、更には約
0.01〜0.3ｇの固形分が好ましい。 塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用
できる。例えばロールコート法、グラビアコート
法、ロールブラツシユ法、スプレーコート、エア
ーナイフコート、含浸法およびカーテンコート法
などを単独または組み合せて適用するとよい。 上記塗液は好ましくは縦一軸延伸が施された直
後のフイルムに塗布され、次いでフイルムは横延
伸および熱固定のためのテンターに導かれるのが
好ましい。塗布物は未固化の塗膜の状態でフイル
ムの延伸に伴つてその面積が拡大されかつ加熱さ
れて水を揮散し、二軸延伸されたフイルム表面に
強固に固着される。 本発明における上記塗液は基材の延伸工程およ
び熱処理工程によつて、上述の如く、多数の微小
突起を有する固体塗膜に変換される。この加熱
は、好ましくは約100〜約240℃の温度で約１〜約
20秒間行われる。 かくしてポリエステルフイルムの片面に形成さ
れる薄膜は、表面の中心線平均粗さが0.002〜
0.01μでありかつ表面には山脈状の凹凸がなく、
均一な微小凹凸のあるものである。 本発明によれば、フイルム表面が平坦であり、
かつ走行性に優れた金属薄膜面を形成できる金属
薄膜磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイル
ムを提供でき、特に雑音が飛躍的に減少し、ノイ
ズレベルが格段に優れ、かつ金属薄膜面の走行性
に優れ、かつ、長時間記録の場合の走行耐久性に
優れた金属薄膜磁気記録媒体の製造に有用な二軸
配向ポリエステルフイルムを提供できる。 実施例 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。
なお、フイルムの物性は以下の方法で測定した。 １ 中心線平均粗さRa JIS B0601に準じ、(株)小坂研究所製の高精度表
面粗さ計SE−3FATを使用して、針の半径2μｍ、
測定荷重30mgで拡大倍率20万倍、カツトオフ0.08
mmの条件下にチヤートをかかせ、フイルム表面粗
さ曲線からその中心線の方向に測定長さＬの部分
を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、
縦倍率の方向をＹ軸として、粗さ曲線をＹ＝ｆ
（ｘ）で表わした時、次の式で与えられた値をμ
ｍ単位で表わす。 R_CLA＝１／Ｌ∫^L ₀｜ｆ（ｘ）｜dx この測定は測定長を1.25mmとして４個測定し、
平均値で表わす。 ２ 表面突起数 フイルム表面に400〜500Å乃至それ以下の厚み
にアルミニウムを均一に真空蒸着し、反対の非蒸
着面（フイルム面）にコロジオン貼付けし、乾燥
して後、可視単色光多重干渉反射式顕微鏡（例え
ば、Carl Zeiss JENA社製）を用い100倍で任意
の10カ所を撮り、各写真中の突起物の突起高さに
対応する突起数を求め１mm²当りに換算する。この
時写真10枚の視野は1.55mm²である。 ３ 電磁変換特性（記録密度特性） 10KBPI記録再生時のＳ／Ｎ（dB）比及び
10KBPI記録再生時の出力に対する50KBPI記録
再生時の出力の低下率により、高密度記録特性、
特にノイズレベルの大きさを評価する。 ４ 長時間耐久性 市販のVHS方式のVTRを用いて録画再生を繰
返し、100回繰返し走行後の再生画面より次の基
準で評価する。 〇：走行順調で再生画面のゆらぎが全くない ×：再生画面にゆらぎが生ずる ５ ヤング率 フイルムを試料巾10mm、長さ150mmに切断し、
チヤツク間100mmにして、引張速度10mm／分、チ
ヤート速度500mm／分にて、インストロンタイプ
の万能引張試験装置で引張る。得られた荷重−伸
び曲線の立上り部の接線より、ヤング率を計算す
る。 ６ 熱収縮率 150℃の熱風循環式炉（ギヤー老化試験機）に
て30分間自由熱収縮させて下記式で算出する。 熱収縮率＝原長−収縮後長／原長×100（％） 原長としては300mmを用いる。 実施例１〜３および比較例１〜３ ジメチルテレフタレート100重量部およびエチ
レングリコール70重量部に触媒として酢酸亜鉛
0.023重量部（0.020モル％対ジメチルテレフタレ
ート）を加え、150〜240℃で４時間メタノールを
留去しつつエステル交換反応を行い、次いで安定
剤（燐化合物のグリコール溶液）をトリメチルホ
スフエート換算で0.014重量部添加し、次に、重
縮合触媒として0.04重量部の三酸化アンチモンを
添加し、さらに表−１に記載した平均粒径の酸化
ケイ素を所定量添加して、１mmHg以下の高真空
で４時間重縮合反応を行い、固有粘度（η：Ｏ−
クロロフエノール溶媒、25℃測定）0.65のポリエ
チレンテレフタレートを得た。 これらポリエチレンテレフタレートを常法に従
つて溶融押出し急冷して未延伸フイルムとし、次
いで縦方向に100℃で3.4倍、横方向に120℃で4.3
倍逐次２軸延伸を行い、更に225℃で30秒間熱固
定を行い、各々10μの二軸配向フイルムを得た。
その際、縦延伸が終了した一軸延伸フイルムがテ
ンターに入る直前の位置で、このフイルムの片面
上に、下記で調製した塗布液をキスコート法にて
均一に塗布した。このときの平均塗布量は上記一
軸延伸フイルム１m²当り約４ｇウエツト量であつ
た（この量は、下記の二軸延伸フイルムでは１m²
当り約0.02ｇに相当する）。次いで片面塗布を施
した一軸延伸フイルムを熱固定し、二軸配向ポリ
エステルフイルムを得た。 〈塗布液〉 カルボン酸アミン塩基を有するポリウレタン水
分散液［東洋ポリマー(株)製：商品名メルシー585］
28重量部（非揮発成分として）、アクリル系樹脂
エマルジヨン［メタクリル酸メチル／アクリル酸
エチル／アクリルアミド＝49／43／８（モル％）］
28重量部、ポリエチレンワツクスエマルジヨン
（融点約105℃）７重量部、コロイダルシリカ水分
散液（平均粒径40〜50ｍμ）27重量部およびポリ
オキシエチレンノニルフエニルエーテル［日本油
脂(株)製：商品名NS−208.5］10重量部をイオン交
換水で希釈溶解し、固型分濃度２重量％の塗布液
を調製した。 この様にして得られたフイルムの滑り性は良好
でブロツキングも発生せず、良好に巻き取れた。 フイルム表面（）および（）の表面の特性
については表−１にまとめて示す。 このポリエステルフイルムの表面（）に真空
蒸着によりコバルト−ニツケル合金薄膜を1000Å
の膜厚で形成した。続いて1/4″巾にフイルムの機
械方向に切断し、金属薄膜磁気記録テープとし、
0.3μｍのギヤツプ長のリングヘツドを用いて9.5
cm／secのスピードで記録再生し、電磁変換特性
（デジタルの記録密度特性）を評価した。この結
果を表−１に示す。 この結果から、本発明のフイルムをベースとし
た磁気記録媒体のＳ／Ｎは大きく、かつノイズレ
ベルは格段に優れておりかつ長時間の耐久性に優
れていることが理解される。

【表】 実施例４〜６及び比較例４〜５ 実施例２と同じポリマーを用い、未延伸フイル
ムを作成して表−２に記載の製膜条件によつて
（ただし、表に記載されていないものは、実施例
２と同一条件である）10μｍフイルムを作成し、
フイルム表面（）に実施例２と同じ組成の塗液
を塗布した。 このポリエステルフイルムの表面（）に真空
蒸着によりコバルト−ニツケル合金薄膜を1000Å
の膜厚で形成した。続いて1/4″巾にフイルムの機
械方向に切断し、金属薄膜磁気記録テープとし、
0.3μｍのギヤツプ長のリングヘツドを用いて9.5
cm／secのスピードで記録再生し、電磁変換特性
（デジタルの記録密度特性）を評価した。更に長
時間の走行耐久性を評価した。これらの結果を表
−２に示す。 表−２から実施例４〜６のものは長時間の走行
耐久性に優れ、かつＳ／Ｎが大きく、ノイズレベ
ルは格段に優れていることが解る。

【表】

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (1) 下記特性(イ)〜(ホ)を満足する二軸配向ポリ
   エステルフイルムの片面に、 (イ) 縦方向のヤング率 500Kg／mm²以下 (ロ) 横方向のヤング率 650Kg／mm²以上 (ハ) 横方向の150℃での熱収縮率 １〜５％ (ニ) 表面の中心線平均粗さ（Ra）
   0.001〜0.003μ (ホ) 高さ(h)が0.27〜0.54μの突起物の数
   0.2個／mm²以下 (2) ポリウレタン、アクリル樹脂、低分子量ポリ
   オレフインワツクスおよび平均粒径が0.15μ以
   下の粗面化物質を主成分とする組成物よりな
   り、表面の中心線平均粗さRaが0.002〜0.01μで
   ありかつ表面には山脈状の凹凸がない薄膜を形
   成し、該薄膜を形成してないポリエステルフイ
   ルム表面を金属薄膜形成面とする磁気記録媒体
   用ベースフイルム。 ２ 二軸配向ポリエステルフイルムが平均粒径20
   〜100ｍμの酸化ケイ素を0.005〜0.1重量％含有
   する特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体用
   ベースフイルム。