JPH0368065B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0368065B2 JPH0368065B2 JP57180162A JP18016282A JPH0368065B2 JP H0368065 B2 JPH0368065 B2 JP H0368065B2 JP 57180162 A JP57180162 A JP 57180162A JP 18016282 A JP18016282 A JP 18016282A JP H0368065 B2 JPH0368065 B2 JP H0368065B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- acrylate
- acid
- diamine
- methacrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な感光性樹脂組成物に係り、更に
詳しくは溶液状態での安定性及び溶解性に優れ、
感光性塗膜形成時に白化等による露光障害がな
く、実用性の高い耐熱性、感光能等を付与しうる
脂肪族ポリイミド系の感光性樹脂組成物及びその
製造法に関するものである。
詳しくは溶液状態での安定性及び溶解性に優れ、
感光性塗膜形成時に白化等による露光障害がな
く、実用性の高い耐熱性、感光能等を付与しうる
脂肪族ポリイミド系の感光性樹脂組成物及びその
製造法に関するものである。
近年、電子機器の高密度化、高信頼度化、小型
軽量化等において新しい変革が見られる。これら
に大きく寄与する機能性材料として回路形成用フ
オトレジスト材料があり、いわゆる微細加工を実
現している。更にIC、LSIの分野においてはかか
る微細加工に加えて、従来無機物で行なわれてい
た層間絶縁に有機物の特性を活かした使い方が普
及してきており、主としてポリイミド樹脂の如き
耐熱性に優れた材料が使用されるようになつてき
た。しかしながら、この材料はスルーホール等の
パターン加工はやはりフオトレジストを必要と
し、このフオトレジスト工程が長く、煩雑な工程
を要するため、露光、現像によつて回路を形成し
た後もレジストをそのまま残し、絶縁材料として
用いるような耐熱性のフオトレジストの出現が強
く望まれている。
軽量化等において新しい変革が見られる。これら
に大きく寄与する機能性材料として回路形成用フ
オトレジスト材料があり、いわゆる微細加工を実
現している。更にIC、LSIの分野においてはかか
る微細加工に加えて、従来無機物で行なわれてい
た層間絶縁に有機物の特性を活かした使い方が普
及してきており、主としてポリイミド樹脂の如き
耐熱性に優れた材料が使用されるようになつてき
た。しかしながら、この材料はスルーホール等の
パターン加工はやはりフオトレジストを必要と
し、このフオトレジスト工程が長く、煩雑な工程
を要するため、露光、現像によつて回路を形成し
た後もレジストをそのまま残し、絶縁材料として
用いるような耐熱性のフオトレジストの出現が強
く望まれている。
これらの材料としては感光性ポリイミド、環化
ポリブタジエンをベースにした耐熱性フオトレジ
スト等が提案されており、就中特に芳香族系のポ
リイミドはそのポリイミド骨格が特性面において
優れていること、その製造時に不純物排除が容易
であること等のためにこれを感光性材料へ使用す
る提案が多くなされている。かかる感光性ポリイ
ミド類は通常の芳香族ポリイミドの場合と同様
に、前駆体(ポリアミド酸)の形で加工に供せら
れ、ポストキユアーによりイミド化が図られる。
ポリブタジエンをベースにした耐熱性フオトレジ
スト等が提案されており、就中特に芳香族系のポ
リイミドはそのポリイミド骨格が特性面において
優れていること、その製造時に不純物排除が容易
であること等のためにこれを感光性材料へ使用す
る提案が多くなされている。かかる感光性ポリイ
ミド類は通常の芳香族ポリイミドの場合と同様
に、前駆体(ポリアミド酸)の形で加工に供せら
れ、ポストキユアーによりイミド化が図られる。
これらの感光性ポリイミドとしては、ポリイミ
ド前駆体と重クロム酸塩からなる系が最初に提案
されたが(特公昭49−17374号)、この感光性組成
物は可使時間が著しく短かいという致命的な欠点
の他、現像工程が複雑で且つ長い、ポリイミド膜
中にクロムイオンが残存するなどの欠点もあり、
実用に至らなかつた。また、他の例として、ポリ
イミド前駆体に感光性基をエステル結合で導入し
た感光性ポリイミド前駆体が提案されているが
(特公昭55−30207号)、これも感光性基を導入す
る際に脱塩酸反応を含むため塩素イオンが溶液中
に残り、この除去が問題となる。このような不純
物等の問題を回避すべく、ポリイミド前駆体に感
光性化合物を混合する方法やポリイミド系化合物
の前駆体の官能基と感光基を有する化合物の官能
基とを選択して反応させ感光基を導入する方法も
開発されている。更に感光基を有する単量体を用
いて感光性ポリイミド前駆体を得る方法も知られ
ている。
ド前駆体と重クロム酸塩からなる系が最初に提案
されたが(特公昭49−17374号)、この感光性組成
物は可使時間が著しく短かいという致命的な欠点
の他、現像工程が複雑で且つ長い、ポリイミド膜
中にクロムイオンが残存するなどの欠点もあり、
実用に至らなかつた。また、他の例として、ポリ
イミド前駆体に感光性基をエステル結合で導入し
た感光性ポリイミド前駆体が提案されているが
(特公昭55−30207号)、これも感光性基を導入す
る際に脱塩酸反応を含むため塩素イオンが溶液中
に残り、この除去が問題となる。このような不純
物等の問題を回避すべく、ポリイミド前駆体に感
光性化合物を混合する方法やポリイミド系化合物
の前駆体の官能基と感光基を有する化合物の官能
基とを選択して反応させ感光基を導入する方法も
開発されている。更に感光基を有する単量体を用
いて感光性ポリイミド前駆体を得る方法も知られ
ている。
しかしながら、これらの感光性ポリイミドはそ
の耐熱性重視の観点から、例えばピロメリツト酸
二無水物と4,4′−ジアミノジフエニルエーテル
から合成される芳香族ポリイミド前駆体が幹ポリ
マーとして用いられているが、これら一連の感光
性ポリイミドは通常の芳香族ポリイミド前駆体の
有する欠点を包含している。即ち、上記前駆体を
含む溶液は、溶解性に本質的な問題があり、また
保存時に一部イミド化による不溶化が起る等の溶
液としての安定性にも実用上の大きな欠陥を有し
ており、その改善が望まれている。
の耐熱性重視の観点から、例えばピロメリツト酸
二無水物と4,4′−ジアミノジフエニルエーテル
から合成される芳香族ポリイミド前駆体が幹ポリ
マーとして用いられているが、これら一連の感光
性ポリイミドは通常の芳香族ポリイミド前駆体の
有する欠点を包含している。即ち、上記前駆体を
含む溶液は、溶解性に本質的な問題があり、また
保存時に一部イミド化による不溶化が起る等の溶
液としての安定性にも実用上の大きな欠陥を有し
ており、その改善が望まれている。
この溶解性の問題は、例えば感光性ポリイミド
として芳香族ポリイミド前駆体と感光基を有する
化合物とを均一に溶解した溶液を調整した場合で
も、この溶液から塗膜を形成する乾燥工程におい
ては大部分の良溶媒が揮発し、乾燥塗膜は該前駆
体と感光基を有する化合物から構成されることに
なる。このような感光基を有する化合物は、一般
に該前駆体に対しては貧溶媒であつて、前駆体の
不溶化による白化現象が乾燥塗膜に起生し、露光
工程に供することが困難となつてしまう。また本
発明者の観察によれば、乾燥塗膜の形成時に感光
基を有する化合物が溶媒と同時に揮散し、塗膜白
化の現象はないが感光能を喪失する奇異な現象も
見出されている。従つて、使用し得る感光基を有
する化合物は溶解性或は相溶性の点から特殊なも
の(例えば高価な或は悪臭を有する化合物)に限
定されるのが現状である。
として芳香族ポリイミド前駆体と感光基を有する
化合物とを均一に溶解した溶液を調整した場合で
も、この溶液から塗膜を形成する乾燥工程におい
ては大部分の良溶媒が揮発し、乾燥塗膜は該前駆
体と感光基を有する化合物から構成されることに
なる。このような感光基を有する化合物は、一般
に該前駆体に対しては貧溶媒であつて、前駆体の
不溶化による白化現象が乾燥塗膜に起生し、露光
工程に供することが困難となつてしまう。また本
発明者の観察によれば、乾燥塗膜の形成時に感光
基を有する化合物が溶媒と同時に揮散し、塗膜白
化の現象はないが感光能を喪失する奇異な現象も
見出されている。従つて、使用し得る感光基を有
する化合物は溶解性或は相溶性の点から特殊なも
の(例えば高価な或は悪臭を有する化合物)に限
定されるのが現状である。
かかる状況から、本発明者は溶液状態での安定
性及び溶解性に優れ、感光性塗膜の形成時に白化
等による露光障害がなく、実用性の高い耐熱性、
感光基を付与しうる感光性樹脂組成物を開発すべ
く鋭意検討の結果、本発明に至つたものである。
性及び溶解性に優れ、感光性塗膜の形成時に白化
等による露光障害がなく、実用性の高い耐熱性、
感光基を付与しうる感光性樹脂組成物を開発すべ
く鋭意検討の結果、本発明に至つたものである。
即ち本発明は、脂肪族テトラカルボン酸とジア
ミンとをモノマー単位として反応させて得られる
酸価残存率40%以下であつて分子内にイミド結合
を有し且つ分子末端にカルボキシル基及びアミノ
基を有するポリイミド前駆体を含む溶液に重合性
不飽和化合物及び光重合開始剤が配合されてお
り、且つ乾燥後の塗膜は実質的に光の透過を許容
し活性な感光能を与える新規な感光性樹脂組成物
を提供するものである。
ミンとをモノマー単位として反応させて得られる
酸価残存率40%以下であつて分子内にイミド結合
を有し且つ分子末端にカルボキシル基及びアミノ
基を有するポリイミド前駆体を含む溶液に重合性
不飽和化合物及び光重合開始剤が配合されてお
り、且つ乾燥後の塗膜は実質的に光の透過を許容
し活性な感光能を与える新規な感光性樹脂組成物
を提供するものである。
本発明において酸価残存率40%以下であつて分
子内にイミド結合を有し且つ分子末端にカルボキ
シル基及びアミノ基を有するポリイミド前駆体は
脂肪族テトラカルボン酸及びジアミンを出発原料
とし、これらに対して実質的に不活性な有機溶媒
中で反応させることにより得られる。そして上記
ポリイミド前駆体は、脂肪族テトラカルボン酸と
ジアミンとを反応させて得られるものであるた
め、分子内にイミド結合のみが生成しアミド酸単
位は実質的に存在しない分子構造を有している。
子内にイミド結合を有し且つ分子末端にカルボキ
シル基及びアミノ基を有するポリイミド前駆体は
脂肪族テトラカルボン酸及びジアミンを出発原料
とし、これらに対して実質的に不活性な有機溶媒
中で反応させることにより得られる。そして上記
ポリイミド前駆体は、脂肪族テトラカルボン酸と
ジアミンとを反応させて得られるものであるた
め、分子内にイミド結合のみが生成しアミド酸単
位は実質的に存在しない分子構造を有している。
本発明において脂肪族テトラカルボン酸として
は、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン−、シクロ
ペンタン−、ビシクロヘキセン−等のテトラカル
ボン酸、5−(1.2−ジカルボキシエチル)−3−
メチル−3−シクロヘキセン−1.2−ジカルボン
酸、ビシクロ−(2・2・2)−オクタン−2・
3・5・6−テトラカルボン酸が挙げられる。勿
論これらのテトラカルボン酸の骨格がアルキル基
等の置換基で置換されていてもよいし、一部脂肪
族ジカルボン酸あるいはトリカルボン酸あるいは
その無水物等の併用も可能である。
は、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン−、シクロ
ペンタン−、ビシクロヘキセン−等のテトラカル
ボン酸、5−(1.2−ジカルボキシエチル)−3−
メチル−3−シクロヘキセン−1.2−ジカルボン
酸、ビシクロ−(2・2・2)−オクタン−2・
3・5・6−テトラカルボン酸が挙げられる。勿
論これらのテトラカルボン酸の骨格がアルキル基
等の置換基で置換されていてもよいし、一部脂肪
族ジカルボン酸あるいはトリカルボン酸あるいは
その無水物等の併用も可能である。
これらの脂肪族テトラカルボン酸と反応させる
ジアミンとしては、一般式H2N−R′−NH2で示
されるジアミンであつてR′は2価の有機基であ
り、芳香族、脂肪族、脂環基、ヘテロ環族などの
基であるか、或いはこれらの組合せ、又はこれら
が酸素、窒素、硫黄、リン、硅素などで結合され
たような基であることが出来る。この場合R′に
アミノ基またはカルボキシル基と反応条件下では
定量的には反応しない置換基を持つていてもよ
い。これらの基は生成前駆体の溶解性、加工性、
あるいは接着性などの好ましい性質を付与するこ
とができるからである。また通常用いられるトリ
アミンあるいはテトラアミンを併用することも可
能である。
ジアミンとしては、一般式H2N−R′−NH2で示
されるジアミンであつてR′は2価の有機基であ
り、芳香族、脂肪族、脂環基、ヘテロ環族などの
基であるか、或いはこれらの組合せ、又はこれら
が酸素、窒素、硫黄、リン、硅素などで結合され
たような基であることが出来る。この場合R′に
アミノ基またはカルボキシル基と反応条件下では
定量的には反応しない置換基を持つていてもよ
い。これらの基は生成前駆体の溶解性、加工性、
あるいは接着性などの好ましい性質を付与するこ
とができるからである。また通常用いられるトリ
アミンあるいはテトラアミンを併用することも可
能である。
ジアミンとしてほ芳香族系ジアミンが望ましい
が、本発明に用いられるジアミン類の具体例とし
ては、メタフエニレンジアミン、パラフエニレン
ジアミン、4・4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、4・4′−ジアミノジフエニルエタン、4・
4′−ジアミノジフエニルメタン、ベンジジン、
4・4′−ジアミノジフエニルスルフイド、4・
4′−ジアミノジフエニルスルホン、3・3′−ジア
ミノジフエニルスルホン、パラービス−(4−ア
ミノフエノキシ)ベンゼン、メタービス−(4−
アミノフエノキシ)ベンゼン、4・4′−ジアミノ
ジフエニルエーテル、1・5−ジアミノナフタレ
ン、3・3′−ジメチル−4・4′−ジアミノビフエ
ニル、3・4′−ジアミノベンズアニリド、4−
(パラーアミノフエノキシ)−4−アミノベンズア
ニリド、3・4′−ジアミノジフエニルエーテル、
3・3′ジメトキシベンジジン、2・4−ビス(ベ
ータアミノ−ターシヤリブチル)トルエン、ビス
(パラーベータアミノ−ターシヤリーブチルフエ
ニル)エーテル、メタキシリレンジアミン、パラ
キシリレンジアミン、ジ(パラーアミノ−シクロ
ヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘ
プタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、4・4−ジメチルヘ
プタメチレンジアミン、3−メトキシ−ヘプタメ
チレンジアミン、2・11−ジアミノドデカン、
1・4−ジアミノシクロヘキサン、2・2′ジアミ
ノジエチルエーテル、2・2′−ジアミノジエチル
チオエーテル、3・3′−ジアミノジプロポキシエ
タン、2・6−ジアミノピリジン、グアナミン、
2・5−ジアミノ−1・3・4−オキサジアゾー
ル、2−(3′−アミノフエニル)−5−アミノベン
ツオキサゾール、ビス−(4−アミノフエニルホ
スフインオキシド、ビス−(4−アミノ−フエニ
ル)ジエチルシランなどであり、これらは単独な
いし混合物として使用され得る。
が、本発明に用いられるジアミン類の具体例とし
ては、メタフエニレンジアミン、パラフエニレン
ジアミン、4・4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、4・4′−ジアミノジフエニルエタン、4・
4′−ジアミノジフエニルメタン、ベンジジン、
4・4′−ジアミノジフエニルスルフイド、4・
4′−ジアミノジフエニルスルホン、3・3′−ジア
ミノジフエニルスルホン、パラービス−(4−ア
ミノフエノキシ)ベンゼン、メタービス−(4−
アミノフエノキシ)ベンゼン、4・4′−ジアミノ
ジフエニルエーテル、1・5−ジアミノナフタレ
ン、3・3′−ジメチル−4・4′−ジアミノビフエ
ニル、3・4′−ジアミノベンズアニリド、4−
(パラーアミノフエノキシ)−4−アミノベンズア
ニリド、3・4′−ジアミノジフエニルエーテル、
3・3′ジメトキシベンジジン、2・4−ビス(ベ
ータアミノ−ターシヤリブチル)トルエン、ビス
(パラーベータアミノ−ターシヤリーブチルフエ
ニル)エーテル、メタキシリレンジアミン、パラ
キシリレンジアミン、ジ(パラーアミノ−シクロ
ヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘ
プタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、4・4−ジメチルヘ
プタメチレンジアミン、3−メトキシ−ヘプタメ
チレンジアミン、2・11−ジアミノドデカン、
1・4−ジアミノシクロヘキサン、2・2′ジアミ
ノジエチルエーテル、2・2′−ジアミノジエチル
チオエーテル、3・3′−ジアミノジプロポキシエ
タン、2・6−ジアミノピリジン、グアナミン、
2・5−ジアミノ−1・3・4−オキサジアゾー
ル、2−(3′−アミノフエニル)−5−アミノベン
ツオキサゾール、ビス−(4−アミノフエニルホ
スフインオキシド、ビス−(4−アミノ−フエニ
ル)ジエチルシランなどであり、これらは単独な
いし混合物として使用され得る。
本発明における脂肪族テトラカルボン酸とジア
ミンとの反応は通常有機溶媒中で行なわれる。
ミンとの反応は通常有機溶媒中で行なわれる。
この反応で使用される溶媒としてはN・N−ジ
メチルホルムアミド、N・N−ジエチルホルムア
ミド、N・N−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタ
ム、ジメチルスルホキシド、テトラメチレンスル
ホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホア
ミド、ピリジン、キノリン、γ−ブチルラクト
ン、N−アセチル−2−ピロリドン、フエノー
ル、クレゾール類、グリコール類、セロソルブ
類、カルビトール類等が挙げられる。この有機溶
媒の使用量は反応系の20〜95重量%であるが、場
合によつては重合性不飽和化合物、開始剤の存在
下にて脂肪族テトラカルボン酸とジアミンとの反
応を行なう事も可能であつて、従つて実用の粘度
を示す濃度となるように適宜その使用量を決定す
ればよい。脂肪族テトラカルボン酸とジアミンの
使用モル比は等モルが望ましい。しかし数モル%
位のどちらかの過剰の下でも可能である。反応温
度は60℃以上、常圧下で沸点まで、特に80℃から
沸点までの温度が望ましい。
メチルホルムアミド、N・N−ジエチルホルムア
ミド、N・N−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタ
ム、ジメチルスルホキシド、テトラメチレンスル
ホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホア
ミド、ピリジン、キノリン、γ−ブチルラクト
ン、N−アセチル−2−ピロリドン、フエノー
ル、クレゾール類、グリコール類、セロソルブ
類、カルビトール類等が挙げられる。この有機溶
媒の使用量は反応系の20〜95重量%であるが、場
合によつては重合性不飽和化合物、開始剤の存在
下にて脂肪族テトラカルボン酸とジアミンとの反
応を行なう事も可能であつて、従つて実用の粘度
を示す濃度となるように適宜その使用量を決定す
ればよい。脂肪族テトラカルボン酸とジアミンの
使用モル比は等モルが望ましい。しかし数モル%
位のどちらかの過剰の下でも可能である。反応温
度は60℃以上、常圧下で沸点まで、特に80℃から
沸点までの温度が望ましい。
以上の反応で主としてアミノ基1個当り、2個
のカルボキシル基が反応してイミド化が起り、分
子内にイミド結合を有し、分子末端にカルボキシ
ル基及びアミノ基を有するポリイミド前駆体の溶
液が得られる。この場合、本反応はその反応系の
酸価を測定することによつて、即ち反応初期の系
内のカルボン酸成分による酸価(酸価は試料1g
当りのカルボキシル基のmg当量で表わす)を100
%として、反応後どれだけのカルボキシル基が残
存しているかを示す酸価残存率によつてその反応
の程度を知ることが出来る。
のカルボキシル基が反応してイミド化が起り、分
子内にイミド結合を有し、分子末端にカルボキシ
ル基及びアミノ基を有するポリイミド前駆体の溶
液が得られる。この場合、本反応はその反応系の
酸価を測定することによつて、即ち反応初期の系
内のカルボン酸成分による酸価(酸価は試料1g
当りのカルボキシル基のmg当量で表わす)を100
%として、反応後どれだけのカルボキシル基が残
存しているかを示す酸価残存率によつてその反応
の程度を知ることが出来る。
而して、本発明におけるポリイミド前駆体はそ
の酸価残存率が40%以下となるまで反応を進めた
ものであつて、酸価残存率が40%を起えるものは
反応が不充分で、露光、現像後の樹脂パターンの
焼付けによるポリイミド形成時に発泡による塗膜
欠陥を生じ易く、また焼付けにより得られる塗膜
の機械的強度に劣るため、使用を避けるべきであ
る。
の酸価残存率が40%以下となるまで反応を進めた
ものであつて、酸価残存率が40%を起えるものは
反応が不充分で、露光、現像後の樹脂パターンの
焼付けによるポリイミド形成時に発泡による塗膜
欠陥を生じ易く、また焼付けにより得られる塗膜
の機械的強度に劣るため、使用を避けるべきであ
る。
本発明の組成物における重合性不飽和化合物と
しては各種のものがあるが、アクリル酸系化合
物、メタクリル酸系化合物或はアリル基を有する
化合物等が実用的である。具体的なアクリル酸系
化合物としてはアクリル酸、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレ
ート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルア
クリレート、イソブチルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、ベンジルアクリレート、2
−エチルヘキシルアクリレート、カルビトールア
クリレート、メトキシエチルアクリレート、エト
キシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロ
キシプロピルアクリレート、ブチレングリコール
モノアクリレート、N・N−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、N・N−ジエチルアミノエチル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、アリルアクリレート、1・3−ブチレング
リコールジアクリレート、1・4−ブチレングリ
コールジアクリレート、1・6−ヘキサングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリ
レート、2・2−ビス−(4−アクリロキシジエ
トキシフエニル)プロパン、2・2−ビス−(4
−アクリロキシプロピロキシフエニル)プロパ
ン、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、トリアクリルホルマー
ル、テトラメチロールメタンテトラアクリレート
など、またメタクリル酸系化合物としてはメタク
リル酸、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルメタクリレート、イソプロピル
メタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブ
チルメタクリレート、ターシヤリーブチルメタク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、
エチルヘキシルメタクリレート、メトキシエチル
メタクリレート、エトキシエチルメタクリレー
ト、ブトキシエチルメタクリレート、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、
ヒドロキシペンチルメタクリレート、N・N−ジ
メチルアミノメタクリレート、N・N−ジエチル
アミノメタクリレート、テトラヒドロフルフリル
メタクリレート、メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、アリルメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンモノメタクリレート、ジエチレン
グリコールモノメタクリレート、ペンタエリスリ
トールモノメタクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、1・3−ブチレングリコール
ジメタクリレート、1・6−ヘキサングリコール
ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、2・2−ビス−(4−メタクリロ
キシエトキシフエニル)プロパン、2・2−ビス
−(4−メタクリロキシジエトキシフエニル)プ
ロパン、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ートなど、その他クロトン酸ブチル、グリセリン
モノクロネート、ビニルブチレート、ビニルトリ
メチルアセテート、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、ビニルラクテート、安息香酸
ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニルフタレ
ート、メタクリルアミド、N−メチルメタクリル
アミド、N−エチルメタクリルアミド、N−アリ
ールメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、
N−ターシヤリーブチルアクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−ブトキシメチルア
クリルアミド、N−イソブトキシメチルアクリル
アミド、ダイアセトンアクリルアミド、ヘキシル
ビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、多価アルコールのポ
リビニルエーテル、スチレン誘導体としてたとえ
ばオルトおよび/またはパラ位にアルキル基、ア
ルコキシ基、ハロゲン、カルボキシル基、アリル
基などの置換基を持つたスチレン、ジビニルベン
ゼン、アリルオキシエタノール、ジカルボン酸の
ジアリルエステル、N−ビニルオキサゾリドン、
N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカルバゾールなどを挙げることが
でき、これらは単独ないし、混合物として使用さ
れうる。
しては各種のものがあるが、アクリル酸系化合
物、メタクリル酸系化合物或はアリル基を有する
化合物等が実用的である。具体的なアクリル酸系
化合物としてはアクリル酸、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレ
ート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルア
クリレート、イソブチルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、ベンジルアクリレート、2
−エチルヘキシルアクリレート、カルビトールア
クリレート、メトキシエチルアクリレート、エト
キシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロ
キシプロピルアクリレート、ブチレングリコール
モノアクリレート、N・N−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、N・N−ジエチルアミノエチル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、アリルアクリレート、1・3−ブチレング
リコールジアクリレート、1・4−ブチレングリ
コールジアクリレート、1・6−ヘキサングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリ
レート、2・2−ビス−(4−アクリロキシジエ
トキシフエニル)プロパン、2・2−ビス−(4
−アクリロキシプロピロキシフエニル)プロパ
ン、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、トリアクリルホルマー
ル、テトラメチロールメタンテトラアクリレート
など、またメタクリル酸系化合物としてはメタク
リル酸、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルメタクリレート、イソプロピル
メタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブ
チルメタクリレート、ターシヤリーブチルメタク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、
エチルヘキシルメタクリレート、メトキシエチル
メタクリレート、エトキシエチルメタクリレー
ト、ブトキシエチルメタクリレート、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、
ヒドロキシペンチルメタクリレート、N・N−ジ
メチルアミノメタクリレート、N・N−ジエチル
アミノメタクリレート、テトラヒドロフルフリル
メタクリレート、メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、アリルメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンモノメタクリレート、ジエチレン
グリコールモノメタクリレート、ペンタエリスリ
トールモノメタクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、1・3−ブチレングリコール
ジメタクリレート、1・6−ヘキサングリコール
ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、2・2−ビス−(4−メタクリロ
キシエトキシフエニル)プロパン、2・2−ビス
−(4−メタクリロキシジエトキシフエニル)プ
ロパン、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ートなど、その他クロトン酸ブチル、グリセリン
モノクロネート、ビニルブチレート、ビニルトリ
メチルアセテート、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、ビニルラクテート、安息香酸
ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニルフタレ
ート、メタクリルアミド、N−メチルメタクリル
アミド、N−エチルメタクリルアミド、N−アリ
ールメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、
N−ターシヤリーブチルアクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−ブトキシメチルア
クリルアミド、N−イソブトキシメチルアクリル
アミド、ダイアセトンアクリルアミド、ヘキシル
ビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、多価アルコールのポ
リビニルエーテル、スチレン誘導体としてたとえ
ばオルトおよび/またはパラ位にアルキル基、ア
ルコキシ基、ハロゲン、カルボキシル基、アリル
基などの置換基を持つたスチレン、ジビニルベン
ゼン、アリルオキシエタノール、ジカルボン酸の
ジアリルエステル、N−ビニルオキサゾリドン、
N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカルバゾールなどを挙げることが
でき、これらは単独ないし、混合物として使用さ
れうる。
これらの重合性不飽和化合物の使用量は、ポリ
イミド前駆体の樹脂分100重量部に対して10〜500
重量部、好ましくは20〜200重量部である。10重
量部以下では重合性不飽和化合物の重合による硬
化が不充分となり、また500重量部以上ではポス
トキユアー時の残存の影響により、塗膜の耐熱性
を低下させてしまう。使用量は各重合性不飽和化
合物の活性、また組成物に使用されている溶剤と
の関係即ち乾燥時に残存し、硬化能を発揮しうる
量を考慮して決定するのが望ましい。
イミド前駆体の樹脂分100重量部に対して10〜500
重量部、好ましくは20〜200重量部である。10重
量部以下では重合性不飽和化合物の重合による硬
化が不充分となり、また500重量部以上ではポス
トキユアー時の残存の影響により、塗膜の耐熱性
を低下させてしまう。使用量は各重合性不飽和化
合物の活性、また組成物に使用されている溶剤と
の関係即ち乾燥時に残存し、硬化能を発揮しうる
量を考慮して決定するのが望ましい。
これらの重合性不飽和化合物の放射線による重
合開始剤としては一般に紫外線硬化型塗料の開始
剤、増感剤として用いられている各種の光重合開
始剤を使用できる。例えばベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテル、2−メチルベンゾイン、ベンゾフ
エノン、ミヒラーズケトン、ベンジル、ベンジル
ジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、
アントラキノン、メチルアントラキノン、ジアセ
チル、アセトフエノン、ジフエニルジスルフイ
ド、アントラセン等を挙げることができる。これ
らの光重合開始剤の使用量は重合性不飽和化合物
100重量部に対して通常0.05〜30重量部、好まし
くは0.1〜10重量部とするのがよい。これら光重
合開始剤にアミン類等の従来公知の増感助剤を少
量併用する事も出来る。また組成物の熱的な安定
性等を向上する為に公知の熱重合防止剤の共存も
有効な場合がある。
合開始剤としては一般に紫外線硬化型塗料の開始
剤、増感剤として用いられている各種の光重合開
始剤を使用できる。例えばベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテル、2−メチルベンゾイン、ベンゾフ
エノン、ミヒラーズケトン、ベンジル、ベンジル
ジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、
アントラキノン、メチルアントラキノン、ジアセ
チル、アセトフエノン、ジフエニルジスルフイ
ド、アントラセン等を挙げることができる。これ
らの光重合開始剤の使用量は重合性不飽和化合物
100重量部に対して通常0.05〜30重量部、好まし
くは0.1〜10重量部とするのがよい。これら光重
合開始剤にアミン類等の従来公知の増感助剤を少
量併用する事も出来る。また組成物の熱的な安定
性等を向上する為に公知の熱重合防止剤の共存も
有効な場合がある。
熱重合防止剤の具体例としてはパラメトキシフ
エノール、ヒドロキノン、ターシヤリーブチルカ
テコール、ピロガロール、フエノチアジン、クロ
ラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、
2・6−ジーターシヤリーブチル−パラクレゾー
ル、ピリジン、ニトロベンゼン、パラートルイジ
ン、メチレンブルー、などが挙げられ、その使用
量は重合性不飽和化合物100重量部に対して通常
0.01〜5重量部とするのがよい。
エノール、ヒドロキノン、ターシヤリーブチルカ
テコール、ピロガロール、フエノチアジン、クロ
ラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、
2・6−ジーターシヤリーブチル−パラクレゾー
ル、ピリジン、ニトロベンゼン、パラートルイジ
ン、メチレンブルー、などが挙げられ、その使用
量は重合性不飽和化合物100重量部に対して通常
0.01〜5重量部とするのがよい。
かくして得られた感光性樹脂組成物は適宜の手
段にて塗布を行ない乾燥を行なう。この際本発明
の組成物の骨格である脂肪族テトラカルボン酸と
ジアミンとから得られた脂肪族ポリイミド前駆体
は溶解性が非常に良好で、乾燥塗膜化時の溶媒揮
散後の重合性不飽和化合物中でも均一透明な塗膜
を与える。この塗膜上に所望のパターンを描いた
マスク上から活性光線を照射することにより、照
射部は光重合開始剤により、重合性不飽和化合物
の重合が起り、非照射部に対して溶解性が大きく
低下する。場合により電子線、放射線のような電
離性放射線を照射することによつても同様な効果
を与える。かくしてこれを適当な溶剤系を選択す
ることにより、現像にて非照射部を除去すること
により所望の樹脂パターンを得る事が出来る。
段にて塗布を行ない乾燥を行なう。この際本発明
の組成物の骨格である脂肪族テトラカルボン酸と
ジアミンとから得られた脂肪族ポリイミド前駆体
は溶解性が非常に良好で、乾燥塗膜化時の溶媒揮
散後の重合性不飽和化合物中でも均一透明な塗膜
を与える。この塗膜上に所望のパターンを描いた
マスク上から活性光線を照射することにより、照
射部は光重合開始剤により、重合性不飽和化合物
の重合が起り、非照射部に対して溶解性が大きく
低下する。場合により電子線、放射線のような電
離性放射線を照射することによつても同様な効果
を与える。かくしてこれを適当な溶剤系を選択す
ることにより、現像にて非照射部を除去すること
により所望の樹脂パターンを得る事が出来る。
得られた樹脂パターンは、その後の焼付け即ち
ポストキユアーにより感光した重合性不飽和化合
物の揮散とともにポリイミド前駆体のアミノ基と
カルボキシル基との反応が更に進み優れた耐熱性
を有する絶縁層に変換しうるもので、本発明の組
成物は主として前述のような微細加工の分野にお
いて非常に有用である。
ポストキユアーにより感光した重合性不飽和化合
物の揮散とともにポリイミド前駆体のアミノ基と
カルボキシル基との反応が更に進み優れた耐熱性
を有する絶縁層に変換しうるもので、本発明の組
成物は主として前述のような微細加工の分野にお
いて非常に有用である。
以下、本発明を実施例、参考例にて説明する。
実施例 1
温度計、N2ガス導入口、トラツプ付冷却管及
び撹拌装置を付した300c.c.の四つ口フラスコに
4・4′−ジアミノフエニルメタン39.6g(0.2モ
ル)及びN・N−ジメチルホルムアミド129.6g
を加え、N2ガス流通下で加熱、撹拌する。内容
物が110℃位で1・2・3・4−ブタンテトラカ
ルボン酸46.8g(0.2モル)を添加する。110℃で
反応を続けると約4時間で0.907meq/gの酸価
を有するようになり(酸価残存率24.5%)分子内
にイミド結合を有し且分子末端にカルボキシル基
及びアミノ基を有するポリイミド前駆体溶液が得
られた。
び撹拌装置を付した300c.c.の四つ口フラスコに
4・4′−ジアミノフエニルメタン39.6g(0.2モ
ル)及びN・N−ジメチルホルムアミド129.6g
を加え、N2ガス流通下で加熱、撹拌する。内容
物が110℃位で1・2・3・4−ブタンテトラカ
ルボン酸46.8g(0.2モル)を添加する。110℃で
反応を続けると約4時間で0.907meq/gの酸価
を有するようになり(酸価残存率24.5%)分子内
にイミド結合を有し且分子末端にカルボキシル基
及びアミノ基を有するポリイミド前駆体溶液が得
られた。
この溶液に2−エチルヘキシルアクリレート
86.4gを加え、更に光遮断下でイルガキユア−
651(チバ・ガイギー社製、ベンジルジメチルケタ
ール)を4.32g加え、撹拌混合後、1μのフイルタ
ーにてろ過して感光性樹脂組成物を得た。
86.4gを加え、更に光遮断下でイルガキユア−
651(チバ・ガイギー社製、ベンジルジメチルケタ
ール)を4.32g加え、撹拌混合後、1μのフイルタ
ーにてろ過して感光性樹脂組成物を得た。
この組成物をガラスプレート上にスピンナーに
て3000rpmの回転数で塗布し、90℃で10分間乾燥
して透明な6.5μ厚の塗膜を得た。この塗膜上にマ
スタパターンを設置し、300mJ/cm2の紫外線を照
射した後、N・N−ジメチルホルムアミド−ベン
ゼンの混合溶媒にて現像し、ベンゼンにてリンス
を行なつたところ、鮮明なパターンが得られた。
て3000rpmの回転数で塗布し、90℃で10分間乾燥
して透明な6.5μ厚の塗膜を得た。この塗膜上にマ
スタパターンを設置し、300mJ/cm2の紫外線を照
射した後、N・N−ジメチルホルムアミド−ベン
ゼンの混合溶媒にて現像し、ベンゼンにてリンス
を行なつたところ、鮮明なパターンが得られた。
この塗膜は350℃で2時間加熱した後の空気中、
5℃/分の昇温速度による熱重量分析で380℃ま
で顕著な減量は認められず、良好な耐熱性を有す
るものであつた。
5℃/分の昇温速度による熱重量分析で380℃ま
で顕著な減量は認められず、良好な耐熱性を有す
るものであつた。
実施例 2
実施例1と同様のフラスコに4・4′−ジアミノ
ジフエニルエーテル40.0g(0.2モル)及びN・
N−ジメチルホルムアミド130.2gを加え、実施
例1と同様にして1・2・3・4−ブタンテトラ
カルボン酸46.8g(0.2モル)を添加し、110℃で
反応を続けると約2時間で1.312meq/gの酸価
を有するようになり(酸価残存率35.6%)分子内
にイミド結合を有し且つ分子末端にカルボキシル
基及びアミノ基を有するポリイミド前駆体溶液が
得られた。
ジフエニルエーテル40.0g(0.2モル)及びN・
N−ジメチルホルムアミド130.2gを加え、実施
例1と同様にして1・2・3・4−ブタンテトラ
カルボン酸46.8g(0.2モル)を添加し、110℃で
反応を続けると約2時間で1.312meq/gの酸価
を有するようになり(酸価残存率35.6%)分子内
にイミド結合を有し且つ分子末端にカルボキシル
基及びアミノ基を有するポリイミド前駆体溶液が
得られた。
この溶液に2−エチルヘキシルアクリレート
86.8gを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.34gを加え、撹拌混合後、1μのフイルタ
ーにろ過して感光性樹脂組成物を得た。
86.8gを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.34gを加え、撹拌混合後、1μのフイルタ
ーにろ過して感光性樹脂組成物を得た。
この組成物をガラスプレート上に実施例1と同
様にして塗布、乾燥して透明な6.2μ厚の塗膜を得
た。この塗膜に300mJ/cm2の照射を行ない、実施
例1と同様にして現像、リンスを行なつたとこ
ろ、鮮明なパターンが得られた。
様にして塗布、乾燥して透明な6.2μ厚の塗膜を得
た。この塗膜に300mJ/cm2の照射を行ない、実施
例1と同様にして現像、リンスを行なつたとこ
ろ、鮮明なパターンが得られた。
この塗膜は実施例1記載の評価で375℃まで顕
著な減量は認められず、良好な耐熱性を有するも
のであつた。
著な減量は認められず、良好な耐熱性を有するも
のであつた。
実施例 3
実施例1と同様のフラスコに4・4′−ジアミノ
ジフエニルメタン39.6g(0.2モル)及びN・N
−ジメチルホルムアミド133.2gを加え、実施例
1と同様にしてシタロペンタンテトラカルボン酸
49.2g(0.2モル)を添加し、110℃で反応を続け
ると約4時間で0.994meq/gの酸価を有するよ
うになり(酸価残存率26.2%)、分子内にイミド
結合を有し且つ分子末端にカルボキシル基及びア
ミノ基を有するポリイミド前駆体溶液が得られ
た。
ジフエニルメタン39.6g(0.2モル)及びN・N
−ジメチルホルムアミド133.2gを加え、実施例
1と同様にしてシタロペンタンテトラカルボン酸
49.2g(0.2モル)を添加し、110℃で反応を続け
ると約4時間で0.994meq/gの酸価を有するよ
うになり(酸価残存率26.2%)、分子内にイミド
結合を有し且つ分子末端にカルボキシル基及びア
ミノ基を有するポリイミド前駆体溶液が得られ
た。
この溶液にエチルカルビトールアクリレート
88.8gを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.44g加え、撹拌混合後、1μのフイルター
にてろ過して感光性樹脂組成物を得た。
88.8gを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.44g加え、撹拌混合後、1μのフイルター
にてろ過して感光性樹脂組成物を得た。
この組成物をガラスプレート上に実施例1と同
様にして塗布、乾燥して透明な6.3μ厚の塗膜を得
た。この塗膜に300mJ/cm2の照射を行ない、実施
例1と同様にして現像、リンスを行なつたとこ
ろ、鮮明なパターンが得られた。
様にして塗布、乾燥して透明な6.3μ厚の塗膜を得
た。この塗膜に300mJ/cm2の照射を行ない、実施
例1と同様にして現像、リンスを行なつたとこ
ろ、鮮明なパターンが得られた。
この塗膜は実施例1記載の評価で380℃まで顕
著な減量は認められず、良好な耐熱性を有するも
のであつた。
著な減量は認められず、良好な耐熱性を有するも
のであつた。
参考例
500c.c.の実施例1と同様のフラスコにピロメリ
ツト酸二無水物43.6g(0.2モル)及びN・N−
ジメチルホルムアミド380.8gを加え、乾燥N2ガ
ス流通下で氷浴上にて撹拌する。内容物が約5℃
位で4・4′−ジアミノジフエニルエーテル40.0g
(0.2モル)を発熱の度合を見ながら少量づつ添加
する。この添加に約30分を要し、反応物の温度は
15℃にまで上昇した。添加後氷浴をはずし、室温
下、約2時間撹拌を続け、粘稠なポリイミド酸溶
液を得た。
ツト酸二無水物43.6g(0.2モル)及びN・N−
ジメチルホルムアミド380.8gを加え、乾燥N2ガ
ス流通下で氷浴上にて撹拌する。内容物が約5℃
位で4・4′−ジアミノジフエニルエーテル40.0g
(0.2モル)を発熱の度合を見ながら少量づつ添加
する。この添加に約30分を要し、反応物の温度は
15℃にまで上昇した。添加後氷浴をはずし、室温
下、約2時間撹拌を続け、粘稠なポリイミド酸溶
液を得た。
この溶液に2−エチルヘキシルアクリレート
83.6gを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.18g加え、撹拌混合後、1μのフイルター
にてろ過して樹脂組成物とした。
83.6gを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.18g加え、撹拌混合後、1μのフイルター
にてろ過して樹脂組成物とした。
この組成物をガラスプレート上に実施例1と同
様にして塗布、乾燥したところ、この塗膜は不溶
化により白化した。
様にして塗布、乾燥したところ、この塗膜は不溶
化により白化した。
また重合性不飽和化合物として上記の2−エチ
ルヘキシルアクリレートにかえて、エチルカルビ
トールアクリレートを使用した場合は、塗布、乾
燥後の塗膜は透明であつたが、エチルカルビトー
ルアクリレートの大半が揮発して全く感光能を示
さないものであつた。
ルヘキシルアクリレートにかえて、エチルカルビ
トールアクリレートを使用した場合は、塗布、乾
燥後の塗膜は透明であつたが、エチルカルビトー
ルアクリレートの大半が揮発して全く感光能を示
さないものであつた。
Claims (1)
- 1 脂肪族テトラカルボン酸とジアミンとをモノ
マー単位として反応させて得られる酸価残存率40
%以下であつて分子内にイミド結合を有し且つ分
子末端にカルボキシル基及びアミノ基を有するポ
リイミド前駆体を含む溶液に重合性不飽和化合物
及び光重合開始剤が配合されており、且つ乾燥後
の塗膜は実質的に光の透過を許容し活性な感光能
を与える新規な感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18016282A JPS5968331A (ja) | 1982-10-13 | 1982-10-13 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18016282A JPS5968331A (ja) | 1982-10-13 | 1982-10-13 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5968331A JPS5968331A (ja) | 1984-04-18 |
| JPH0368065B2 true JPH0368065B2 (ja) | 1991-10-25 |
Family
ID=16078478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18016282A Granted JPS5968331A (ja) | 1982-10-13 | 1982-10-13 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5968331A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0820726B2 (ja) * | 1986-05-29 | 1996-03-04 | 日本合成ゴム株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
| JPH03170547A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JP2980359B2 (ja) * | 1990-04-16 | 1999-11-22 | 富士通株式会社 | 感光性耐熱樹脂組成物とそれを用いたパターン形成方法 |
| WO2004092838A1 (ja) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Kaneka Corporation | 水系現像が可能な感光性樹脂組成物および感光性ドライフィルムレジスト、並びにその利用 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5811907B2 (ja) * | 1974-04-05 | 1983-03-05 | 日東電工株式会社 | 電線用塗料の製造法 |
| JPS5345352A (en) * | 1976-10-06 | 1978-04-24 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Resin compositions solubilized in water |
| JPS5382856A (en) * | 1976-12-28 | 1978-07-21 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Water-solubilized resin composition |
| JPS5952822B2 (ja) * | 1978-04-14 | 1984-12-21 | 東レ株式会社 | 耐熱性感光材料 |
| JPS57102926A (en) * | 1980-12-17 | 1982-06-26 | Hitachi Ltd | Light- or radiation-sensitive polymer composition |
| JPS5915449A (ja) * | 1982-07-16 | 1984-01-26 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
-
1982
- 1982-10-13 JP JP18016282A patent/JPS5968331A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5968331A (ja) | 1984-04-18 |
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