JPH0368410B2 - - Google Patents
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- JPH0368410B2 JPH0368410B2 JP61137293A JP13729386A JPH0368410B2 JP H0368410 B2 JPH0368410 B2 JP H0368410B2 JP 61137293 A JP61137293 A JP 61137293A JP 13729386 A JP13729386 A JP 13729386A JP H0368410 B2 JPH0368410 B2 JP H0368410B2
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 109
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、導線を所定のピツチで布設して構成
されたタブレツト上に位置する電磁ペン(スタイ
ラスペン、カーソル等)の座標を検出する座標検
出装置に関する。
されたタブレツト上に位置する電磁ペン(スタイ
ラスペン、カーソル等)の座標を検出する座標検
出装置に関する。
座標検出装置は、タブレツト上に置かれた電磁
ペンの位置を、タブレツトから出力される信号に
基づいてタブレツトに設定された座標の座標値と
して出力する装置であり、一般に良く知られてい
る。タブレツトはX軸用の検出線群とY軸用の検
出線群とが互いに直交するように重ねられて構成
される。各検出線群は所定のピツチで布設された
cos線およびsin線を有する。このような検出線群
の1つを図により説明する。
ペンの位置を、タブレツトから出力される信号に
基づいてタブレツトに設定された座標の座標値と
して出力する装置であり、一般に良く知られてい
る。タブレツトはX軸用の検出線群とY軸用の検
出線群とが互いに直交するように重ねられて構成
される。各検出線群は所定のピツチで布設された
cos線およびsin線を有する。このような検出線群
の1つを図により説明する。
第3図aは1つの軸、例えばX軸用の検出線群
の平面図である。図で、1は絶縁材で作られたタ
ブレツト基板、2はタブレツト基板1上に布設さ
れた1本の導線より成るcos線、3はタブレツト
基板1上に布設された1本の導線より成るsin線
である。cos線2およびsin線3はそれぞれ所定の
ピツチPをもつて布設され、又、cos線2とsin線
3とは互いに1/4ピツチ(0.25P)だけずらされて
いる。
の平面図である。図で、1は絶縁材で作られたタ
ブレツト基板、2はタブレツト基板1上に布設さ
れた1本の導線より成るcos線、3はタブレツト
基板1上に布設された1本の導線より成るsin線
である。cos線2およびsin線3はそれぞれ所定の
ピツチPをもつて布設され、又、cos線2とsin線
3とは互いに1/4ピツチ(0.25P)だけずらされて
いる。
2cはcos線2全体を囲んで布設されたcos線補
償ループ線であり、cos線2の一端が図示の点c
おいて上記cos線補償ループ線に接続されている。
cos線補償ループ線2cはcos線2の両終縁をなす
線から0.3ピツチ(0.3P)離れて布設されている。
3cはsin線3全体を囲んで布設されたsin線補償
ループ線であり、点sにおいてsin線と接続され
ている。sin線補償ループ線3sはsin線3の両終
縁をなす線から0.3ピツチ(0.3P)離れて布設さ
れている。T2はcos線2に接続された端子、T2c
はcos線補償ループ線2cに接続された端子、T3
はsin線3に接続された端子、T3sはsin線補償ル
ープ3sに接続された端子である。
償ループ線であり、cos線2の一端が図示の点c
おいて上記cos線補償ループ線に接続されている。
cos線補償ループ線2cはcos線2の両終縁をなす
線から0.3ピツチ(0.3P)離れて布設されている。
3cはsin線3全体を囲んで布設されたsin線補償
ループ線であり、点sにおいてsin線と接続され
ている。sin線補償ループ線3sはsin線3の両終
縁をなす線から0.3ピツチ(0.3P)離れて布設さ
れている。T2はcos線2に接続された端子、T2c
はcos線補償ループ線2cに接続された端子、T3
はsin線3に接続された端子、T3sはsin線補償ル
ープ3sに接続された端子である。
電磁ペン(図示されていない)がこれら検出線
群の任意の点に位置せしめられると、これに応じ
て各線に電圧が誘起され、この電圧は各端子から
検出線群の信号として出力される。この出力に基
づいて所要の信号処理および演算、制御が実行さ
れ、電磁ペンの位置が座標値(X座標値)として
検出される。なお、図示の検出線群のみではピツ
チP内の電磁ペンの位置が判明するのみであり、
電磁ペンの座標値は得られないが、例えば、別途
これら検出線群上にセレクタ線を布設してこれを
走査すれば、電磁ペンが何番目のピツチにあるか
が判明し、これにより座標値が得られる。図では
このセレクタ線の図示は省略されている。又、座
標検出回路、演算手段も例えば特公昭53−34855
号公報等により知られているので説明は省略す
る。
群の任意の点に位置せしめられると、これに応じ
て各線に電圧が誘起され、この電圧は各端子から
検出線群の信号として出力される。この出力に基
づいて所要の信号処理および演算、制御が実行さ
れ、電磁ペンの位置が座標値(X座標値)として
検出される。なお、図示の検出線群のみではピツ
チP内の電磁ペンの位置が判明するのみであり、
電磁ペンの座標値は得られないが、例えば、別途
これら検出線群上にセレクタ線を布設してこれを
走査すれば、電磁ペンが何番目のピツチにあるか
が判明し、これにより座標値が得られる。図では
このセレクタ線の図示は省略されている。又、座
標検出回路、演算手段も例えば特公昭53−34855
号公報等により知られているので説明は省略す
る。
Y軸についても同様にcos線、sin線、cos線補
償ループ線、sin線補償ループ線が布線され、同
様の手段で電磁ペンのY軸の座標値が検出され
る。このY軸の検出線群は、図示のX軸検出線群
に対して互いのcos線、sin線が直交するように重
ねて配置される。
償ループ線、sin線補償ループ線が布線され、同
様の手段で電磁ペンのY軸の座標値が検出され
る。このY軸の検出線群は、図示のX軸検出線群
に対して互いのcos線、sin線が直交するように重
ねて配置される。
ここで、cos線補償ループ線2cとsin線補償ル
ープ線3sとは検出精度向上のために布設される
ものである。即ち、電磁ペンがcos線2、sin線3
の端部又はその近辺にあるとき、その座標値の検
出誤差は相当程度の大きさとなる。cos線補償ル
ープ線2cとsin線補償ループ線3sとはこれを
補償するものである。
ープ線3sとは検出精度向上のために布設される
ものである。即ち、電磁ペンがcos線2、sin線3
の端部又はその近辺にあるとき、その座標値の検
出誤差は相当程度の大きさとなる。cos線補償ル
ープ線2cとsin線補償ループ線3sとはこれを
補償するものである。
第3図bは第3図aに示す検出線群の検出誤差
の大きさを示すグラフである。図で、横軸には第
3図aと対応させて電磁ペンのペン位置が、又、
縦軸には検出誤差の値がとつてある。Aは検出誤
差曲線を示し、タブレツト基板1の両端近辺にお
いて検出誤差が急に増大している。縦軸における
値a1は許容し得る誤差の最大値、又、横軸におけ
る位置ptはタブレツト基板1の両端位置を示す。
通常、座標検出には値a1よりやや低い値a2以下の
部分が用いられ、図では、値a2に対応する位置p1
と位置p2の間の部分B1がこれに相当する。この
部分B1を有効領域と称し、それ以外の部分(検
出誤差が値a2を超える部分)B2を無効領域と称
する。有効領域B1で検出された値は座標値とし
て採用され、無効領域B2で検出された値は捨て
られる。なお、B3はcos線補償ループ線2cおよ
びsin線補償ループ線3sによる補償ループ域を
示し、この補償ループ域B3の形成により有効領
域B1が拡大される。
の大きさを示すグラフである。図で、横軸には第
3図aと対応させて電磁ペンのペン位置が、又、
縦軸には検出誤差の値がとつてある。Aは検出誤
差曲線を示し、タブレツト基板1の両端近辺にお
いて検出誤差が急に増大している。縦軸における
値a1は許容し得る誤差の最大値、又、横軸におけ
る位置ptはタブレツト基板1の両端位置を示す。
通常、座標検出には値a1よりやや低い値a2以下の
部分が用いられ、図では、値a2に対応する位置p1
と位置p2の間の部分B1がこれに相当する。この
部分B1を有効領域と称し、それ以外の部分(検
出誤差が値a2を超える部分)B2を無効領域と称
する。有効領域B1で検出された値は座標値とし
て採用され、無効領域B2で検出された値は捨て
られる。なお、B3はcos線補償ループ線2cおよ
びsin線補償ループ線3sによる補償ループ域を
示し、この補償ループ域B3の形成により有効領
域B1が拡大される。
上記従来のタブレツトは、cos線補償ループ線
2cおよびsin線補償ループ線3sを布設するこ
とにより有効領域を拡大し得るという優れた効果
を有する。しかしながらその反面、cos線補償ル
ープ線2cよおびsin線補償ループ線3sを布設
するため無効領域が増大し、かつ、タブレツトの
全体面積も増大する欠点を免れ得ないという問題
があつた。
2cおよびsin線補償ループ線3sを布設するこ
とにより有効領域を拡大し得るという優れた効果
を有する。しかしながらその反面、cos線補償ル
ープ線2cよおびsin線補償ループ線3sを布設
するため無効領域が増大し、かつ、タブレツトの
全体面積も増大する欠点を免れ得ないという問題
があつた。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決
し、無効領域を増加することなく有効領域を拡大
することができる座標検出装置を提供するにあ
る。
し、無効領域を増加することなく有効領域を拡大
することができる座標検出装置を提供するにあ
る。
上記の目的を達成するため、本発明は、所定の
ピツチで布設された検出線群のピツチ方向の端部
において、当該検出線群のピツチより小さいピツ
チを有する他の検出線群を、さきの検出線群に重
なりをもつて配置し、電磁ペンが前記他の検出線
群上に位置することが検出されたとき、当該他の
検出線群から出力される信号に基づいて得られた
座標値を電磁ペンの座標値として読取ることを特
徴とする。
ピツチで布設された検出線群のピツチ方向の端部
において、当該検出線群のピツチより小さいピツ
チを有する他の検出線群を、さきの検出線群に重
なりをもつて配置し、電磁ペンが前記他の検出線
群上に位置することが検出されたとき、当該他の
検出線群から出力される信号に基づいて得られた
座標値を電磁ペンの座標値として読取ることを特
徴とする。
電磁ペンが上記他の検出線群上にあることが検
出されると、当該他の検出線群の出力端子から信
号をとり出し、この信号に基づき所要の演算、制
御を行なつて座標値を算出し、この座標値を電磁
ペンの座標値として読取る。
出されると、当該他の検出線群の出力端子から信
号をとり出し、この信号に基づき所要の演算、制
御を行なつて座標値を算出し、この座標値を電磁
ペンの座標値として読取る。
以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明す
る。
る。
第1図aは本発明の実施例に係る座標検出装置
のタブレツトの一部破断平面図である。図で、第
3図aに示す部分と同一部分には同一符号を付し
て説明を省略する。タブレツト基板1上には第3
図aに示すものと同様、cos線2およびsin線3が
それぞれピツチPで、かつ、互いに1/4Pずらし
て布設され、又、cos線補償ループ線2cおよび
sin線補償ループ線3sも布設されている。5は
これら各線で構成される検出線群を示し、この検
出線群を主検出線群と称する。タブレツト基板1
の寸法、およびタブレツト基板1上の主検出線群
5の配線位置は第3図aに示すものと同一であ
る。
のタブレツトの一部破断平面図である。図で、第
3図aに示す部分と同一部分には同一符号を付し
て説明を省略する。タブレツト基板1上には第3
図aに示すものと同様、cos線2およびsin線3が
それぞれピツチPで、かつ、互いに1/4Pずらし
て布設され、又、cos線補償ループ線2cおよび
sin線補償ループ線3sも布設されている。5は
これら各線で構成される検出線群を示し、この検
出線群を主検出線群と称する。タブレツト基板1
の寸法、およびタブレツト基板1上の主検出線群
5の配線位置は第3図aに示すものと同一であ
る。
6は主検出線群5上に設けられた薄い絶縁層で
ある。7はタブレツト基板1の両端(主検出線群
5のピツチ方向における両端)において絶縁層6
上に、主検出線群5の端部と重ねて配置された副
検出線群である。両端の各副検出線群7の構成は
同じであるので、一方の(図で右端の)副検出線
群7の構成についてのみ説明し、他方の副検出線
群7の図示および説明な省略する。
ある。7はタブレツト基板1の両端(主検出線群
5のピツチ方向における両端)において絶縁層6
上に、主検出線群5の端部と重ねて配置された副
検出線群である。両端の各副検出線群7の構成は
同じであるので、一方の(図で右端の)副検出線
群7の構成についてのみ説明し、他方の副検出線
群7の図示および説明な省略する。
8は副検出線群7のcos線、9は同じくsin線で
ある。これらcos線8およびsin線9は主検出線群
5のcos線2およびsin線3と同様、1本の導線を
蛇行状に配置して構成されている。cos線8およ
びsin線9のピツチはそれぞれP′であり、又、cos
線8とsin線9は互いに1/4P′ずらして配置されて
いる。ピツチP′は、主検出線群5のcos線2、sin
線3のピツチPより小さく、適宜の値、例えば、
1/2P〜1/4Pに選定されている。8cはcos線補
償ループ線、9sはsin線補償ループ線であり、
それぞれcos線8の端部の線およびsin線9の端部
の線と点c′,s′で接続されており、各端部の線と
の距離は0.3P′に選定されている。T8はcos線8に
接続された端子、T9はsin線9に接続された端
子、T8cはcos線補償ループ線8cに接続された
端子、T9sはsin線補償ループ線9sに接続された
端子である。なお、本実施例においてはX軸につ
いてのみ副検出線群7が設けられている。
ある。これらcos線8およびsin線9は主検出線群
5のcos線2およびsin線3と同様、1本の導線を
蛇行状に配置して構成されている。cos線8およ
びsin線9のピツチはそれぞれP′であり、又、cos
線8とsin線9は互いに1/4P′ずらして配置されて
いる。ピツチP′は、主検出線群5のcos線2、sin
線3のピツチPより小さく、適宜の値、例えば、
1/2P〜1/4Pに選定されている。8cはcos線補
償ループ線、9sはsin線補償ループ線であり、
それぞれcos線8の端部の線およびsin線9の端部
の線と点c′,s′で接続されており、各端部の線と
の距離は0.3P′に選定されている。T8はcos線8に
接続された端子、T9はsin線9に接続された端
子、T8cはcos線補償ループ線8cに接続された
端子、T9sはsin線補償ループ線9sに接続された
端子である。なお、本実施例においてはX軸につ
いてのみ副検出線群7が設けられている。
電磁ペンが副検出線群7の任意の点に位置せし
められると、これに応じて各線に電圧が誘起さ
れ、この電圧は各端子から副検出線群7の信号と
して出力される。以後の処理は主検出線群5の信
号の処理と全く同じであり、この様な処理により
副検出線群7における電磁ペンの座標を検出する
ことができる。そして、副検出線群7の座標が主
検出線群5の座標と一致するように副検出線群7
の主検出線群5との重なりを調整しておけば、副
検出線群7の座標値を主検出線群5の座標値とし
て表わすことができるのは明らかである。
められると、これに応じて各線に電圧が誘起さ
れ、この電圧は各端子から副検出線群7の信号と
して出力される。以後の処理は主検出線群5の信
号の処理と全く同じであり、この様な処理により
副検出線群7における電磁ペンの座標を検出する
ことができる。そして、副検出線群7の座標が主
検出線群5の座標と一致するように副検出線群7
の主検出線群5との重なりを調整しておけば、副
検出線群7の座標値を主検出線群5の座標値とし
て表わすことができるのは明らかである。
第1図bは第1図aに示す主検出線群5および
副検出線群7の検出誤差の大きさを示すグラフで
ある。図で、横軸には電磁ペンのペン位置が、縦
軸には検出誤差がとつてある。Aは第3図bに示
すものと同一の主検出線群5の検出誤差曲線、
A′はそれぞれ副検出線群7の検出誤差曲線であ
る。誤差の値a1,a2は第3図bに示す値a1,a2と
同一の値である。又、位置pt,p1,p2も第3図b
に示す各位置pt,p1,p2と同一位置を示す。p1t,
p1c,p2t,p2cは検出誤差曲線A′における値a2に対
応する位置である。これらの各位置のうち、位置
p1tは第1図aにおける左側副検出線群7のタブ
レツト基板端側位置、位置p1cは同じくタブレツ
ト基板中央側位置であり、又、位置p2tは第1図
aにおける右側副検出線群7のタブレツト基板端
側位置、位置p2cは同じくタブレツト基板中央側
位置である。位置p1tと位置p1cとの間の領域B41お
よび位置p2tと位置p2cとの間の領域B42がそれぞれ
各副検出線群7の検出の有効領域である。
副検出線群7の検出誤差の大きさを示すグラフで
ある。図で、横軸には電磁ペンのペン位置が、縦
軸には検出誤差がとつてある。Aは第3図bに示
すものと同一の主検出線群5の検出誤差曲線、
A′はそれぞれ副検出線群7の検出誤差曲線であ
る。誤差の値a1,a2は第3図bに示す値a1,a2と
同一の値である。又、位置pt,p1,p2も第3図b
に示す各位置pt,p1,p2と同一位置を示す。p1t,
p1c,p2t,p2cは検出誤差曲線A′における値a2に対
応する位置である。これらの各位置のうち、位置
p1tは第1図aにおける左側副検出線群7のタブ
レツト基板端側位置、位置p1cは同じくタブレツ
ト基板中央側位置であり、又、位置p2tは第1図
aにおける右側副検出線群7のタブレツト基板端
側位置、位置p2cは同じくタブレツト基板中央側
位置である。位置p1tと位置p1cとの間の領域B41お
よび位置p2tと位置p2cとの間の領域B42がそれぞれ
各副検出線群7の検出の有効領域である。
次に、本実施例の動作を第2図に示すフローチ
ヤートを参照しながら説明する。まず、電磁ペン
が副検出線群7に位置しているか否かを判断する
(手順S1)。この判断は副検出線群7の端子に所定
レベル以上の電圧が誘起しているか否かにより判
断される。電磁ペンが副検出線群7に位置してい
ない場合には、主検出線群5に電磁ペンがあるか
否かを同一の方法で判断する(手順S2)。電磁ペ
ンが主検出線群5上にない場合はタブレツト上に
電磁ペンがないものと判断し、手順はスタートに
戻る。電磁ペンが主検出線群5上にあると判断し
た場合には、主検出線群5およびY軸の検出線群
の出力電圧に基づいて座標を検出する(手順S3)。
次いで、それら座標値によりX軸座標値、Y軸座
標値が有効領域(第3図bに示す有効領域B1に
相当する。)にあるか否かを判断し(手順S4)、有
効領域にあれば、手順S3で検出した座標値を出力
する(手順S5)。有効領域になければ手順はスタ
ートへ戻る。
ヤートを参照しながら説明する。まず、電磁ペン
が副検出線群7に位置しているか否かを判断する
(手順S1)。この判断は副検出線群7の端子に所定
レベル以上の電圧が誘起しているか否かにより判
断される。電磁ペンが副検出線群7に位置してい
ない場合には、主検出線群5に電磁ペンがあるか
否かを同一の方法で判断する(手順S2)。電磁ペ
ンが主検出線群5上にない場合はタブレツト上に
電磁ペンがないものと判断し、手順はスタートに
戻る。電磁ペンが主検出線群5上にあると判断し
た場合には、主検出線群5およびY軸の検出線群
の出力電圧に基づいて座標を検出する(手順S3)。
次いで、それら座標値によりX軸座標値、Y軸座
標値が有効領域(第3図bに示す有効領域B1に
相当する。)にあるか否かを判断し(手順S4)、有
効領域にあれば、手順S3で検出した座標値を出力
する(手順S5)。有効領域になければ手順はスタ
ートへ戻る。
一方、手順S1において、電磁ペンが副検出線群
7上にあると判断された場合には、副検出線群7
の端子からの出力電圧に基づいて副検出線群7に
よるX軸の座標検出を行なう(手順S6)。この場
合、どちらの側の副検出線群かは手順S1で出力電
圧をみるときに判明している。次に、手順S6で検
出されたX軸座標値が第1図bに示す領域B41内
又は領域B42内にあるか否か判断し(手順S7)、
当該領域内であれば、今度はY軸の検出線群によ
りY軸の座標を検出する(S8)。そして、その座
標値が有効領域(第3図bに示す有効領域B1に
相当する。)にあるか否かを判断し(手順S9)、有
効領域にあれば、手順S6で検出したX軸座標値と
手順S8で検出したY軸座標値とを出力する(手順
S5)。手順S9でY軸座標値が有効領域にないと判
断された場合、手順はスタートに戻る。
7上にあると判断された場合には、副検出線群7
の端子からの出力電圧に基づいて副検出線群7に
よるX軸の座標検出を行なう(手順S6)。この場
合、どちらの側の副検出線群かは手順S1で出力電
圧をみるときに判明している。次に、手順S6で検
出されたX軸座標値が第1図bに示す領域B41内
又は領域B42内にあるか否か判断し(手順S7)、
当該領域内であれば、今度はY軸の検出線群によ
りY軸の座標を検出する(S8)。そして、その座
標値が有効領域(第3図bに示す有効領域B1に
相当する。)にあるか否かを判断し(手順S9)、有
効領域にあれば、手順S6で検出したX軸座標値と
手順S8で検出したY軸座標値とを出力する(手順
S5)。手順S9でY軸座標値が有効領域にないと判
断された場合、手順はスタートに戻る。
さらに、手順S7において、X軸座標値が有効領
域(領域B41又は領域B42)にないと判断された
場合、今度はそのX軸座標値が副検出線群7の中
央側、即ち第1図bに示す位置p1c側又は位置p2c
側にあるのか、又は端部側、即ち位置p1t側ある
いは位置p2t側にあるのかを判断する(手順S10)。
中央側にあると判断された場合には、第1図bか
ら明らかなように電磁ペンは主検出線群5の有効
領域内にあることになるので、処理は手順S3に移
り、主検出線群5によるX軸およびY軸の検出線
群によるY軸の座標検出が行なわれる。一方、手
順S10でX軸座標値が端部側にあると判断された
場合は座標検出は行なわず、手順はスタートへ戻
ることになる。
域(領域B41又は領域B42)にないと判断された
場合、今度はそのX軸座標値が副検出線群7の中
央側、即ち第1図bに示す位置p1c側又は位置p2c
側にあるのか、又は端部側、即ち位置p1t側ある
いは位置p2t側にあるのかを判断する(手順S10)。
中央側にあると判断された場合には、第1図bか
ら明らかなように電磁ペンは主検出線群5の有効
領域内にあることになるので、処理は手順S3に移
り、主検出線群5によるX軸およびY軸の検出線
群によるY軸の座標検出が行なわれる。一方、手
順S10でX軸座標値が端部側にあると判断された
場合は座標検出は行なわず、手順はスタートへ戻
ることになる。
このように、本実施例では、主検出線群の端部
に副検出線群を重ね、副検出線群のピツチを主検
出線群のピツチより小さくしたので、タブレツト
の面積を増大することなく有効領域を拡大し無効
領域を減少することができる。これを第1図bに
よりさらに説明すると、有効領域B1′は従来の有
効領域B1より、位置p1〜p1t、および位置p2〜p2t
の間隔だけ拡大され、無効領域B2′はその分だけ
従来の無効領域B2より縮小されることになる。
しかもタブレツト全体の寸法は従来のものと全く
同一である。
に副検出線群を重ね、副検出線群のピツチを主検
出線群のピツチより小さくしたので、タブレツト
の面積を増大することなく有効領域を拡大し無効
領域を減少することができる。これを第1図bに
よりさらに説明すると、有効領域B1′は従来の有
効領域B1より、位置p1〜p1t、および位置p2〜p2t
の間隔だけ拡大され、無効領域B2′はその分だけ
従来の無効領域B2より縮小されることになる。
しかもタブレツト全体の寸法は従来のものと全く
同一である。
なお、上記実施例の説明では、X軸のみに副検
出線群を配置する例について説明したが、これに
限ることはなく、いずれか一方の軸又は両方の軸
に副検出線群を配置してもよい。さらに、使用対
象によつては副検出線群を両端に配置せず、一方
端のみに配置することもできる。
出線群を配置する例について説明したが、これに
限ることはなく、いずれか一方の軸又は両方の軸
に副検出線群を配置してもよい。さらに、使用対
象によつては副検出線群を両端に配置せず、一方
端のみに配置することもできる。
以上述べたように、本発明では、主検出線群の
ピツチ方向の端部に当該ピツチより小さいピツチ
の副検出線群を、主検出線群に重なりをもつて配
置し、電磁ペンが副検出線群上にあるとき副検出
線群により座標を読取るようにしたので、タブレ
ツトの面積を増大することなく座標検出の無効領
域を縮小し、有効領域を拡大することができる。
ピツチ方向の端部に当該ピツチより小さいピツチ
の副検出線群を、主検出線群に重なりをもつて配
置し、電磁ペンが副検出線群上にあるとき副検出
線群により座標を読取るようにしたので、タブレ
ツトの面積を増大することなく座標検出の無効領
域を縮小し、有効領域を拡大することができる。
第1図aは本発明の実施例に係る座標検出装置
のタブレツトの一部破断平面図、第1図bは第1
図aに示す主検出線群および副検出線群の検出誤
差特性曲線、第2図は第1図aに示す装置の動作
を説明するフローチヤート、第3図aは従来のタ
ブレツトの平面図、第3図bは第3図aに示す主
検出線群の検出誤差特性曲線である。 5……主検出線群、7……副検出線群、8……
cos線、9……sin線。
のタブレツトの一部破断平面図、第1図bは第1
図aに示す主検出線群および副検出線群の検出誤
差特性曲線、第2図は第1図aに示す装置の動作
を説明するフローチヤート、第3図aは従来のタ
ブレツトの平面図、第3図bは第3図aに示す主
検出線群の検出誤差特性曲線である。 5……主検出線群、7……副検出線群、8……
cos線、9……sin線。
1 容量結合されたトランスデユーサ信号を受け
取る導電性手段を有するデイジタル化作用面上の
点の座標をデイジタル化するためのデイジタル化
装置において、 (a) 導電性端部を有する導電性部材を含むトラン
スデユーサと、 (b) 前記トランスデユーサに設けられ、AC信号
を生成して該信号を第1及び第2の非接地導体
の間に加える手段と、 (c) 前記トランスデユーサに配置され、前記導電
性部材よりも大きい容量を持つ仮想接地導体
と、 (d) 前記第1及び第2の非接地導体により、前記
導電性部材と前記仮想接地導体との間に前記
AC信号を加えるための手段と、 (e) 前記導電性端部からの前記導電性手段へ容量
的に結合される信号のレベルを測定するための
手段と、 (f) 前記の測定された信号レベルを処理して前記
トランスデユーサの前記導電性端部の座標を決
取る導電性手段を有するデイジタル化作用面上の
点の座標をデイジタル化するためのデイジタル化
装置において、 (a) 導電性端部を有する導電性部材を含むトラン
スデユーサと、 (b) 前記トランスデユーサに設けられ、AC信号
を生成して該信号を第1及び第2の非接地導体
の間に加える手段と、 (c) 前記トランスデユーサに配置され、前記導電
性部材よりも大きい容量を持つ仮想接地導体
と、 (d) 前記第1及び第2の非接地導体により、前記
導電性部材と前記仮想接地導体との間に前記
AC信号を加えるための手段と、 (e) 前記導電性端部からの前記導電性手段へ容量
的に結合される信号のレベルを測定するための
手段と、 (f) 前記の測定された信号レベルを処理して前記
トランスデユーサの前記導電性端部の座標を決
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61137293A JPS62295133A (ja) | 1986-06-14 | 1986-06-14 | 座標検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61137293A JPS62295133A (ja) | 1986-06-14 | 1986-06-14 | 座標検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62295133A JPS62295133A (ja) | 1987-12-22 |
| JPH0368410B2 true JPH0368410B2 (ja) | 1991-10-28 |
Family
ID=15195297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61137293A Granted JPS62295133A (ja) | 1986-06-14 | 1986-06-14 | 座標検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62295133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1992483A1 (en) | 2005-03-03 | 2008-11-19 | Fujifilm Corporation | Photosensitive planographic printing plate |
-
1986
- 1986-06-14 JP JP61137293A patent/JPS62295133A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1992483A1 (en) | 2005-03-03 | 2008-11-19 | Fujifilm Corporation | Photosensitive planographic printing plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62295133A (ja) | 1987-12-22 |
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