JPH0368525A - エダクター中の基質化合物とフッ素の反応 - Google Patents

エダクター中の基質化合物とフッ素の反応

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JPH0368525A
JPH0368525A JP2108568A JP10856890A JPH0368525A JP H0368525 A JPH0368525 A JP H0368525A JP 2108568 A JP2108568 A JP 2108568A JP 10856890 A JP10856890 A JP 10856890A JP H0368525 A JPH0368525 A JP H0368525A
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fluorine
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eductor
mixture
substrate compound
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JP2108568A
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Keith B Baucom
ケイス、ベルナルド、ボーコン
Adam C Alty
アダム、チャールズ、アルティ
Earl J Kimmel
アール、ジョセフ、キンメル
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PCR Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は抽質化合物をフッ素で処理する新規な方法に関
する。より詳細に、本発明は成る流体が他の流体を動か
すための運動量を利用するジェットポンプ形式のエダク
タ−(eductor)中で基質化合物を元素フッ素と
反応させることに関する。技術的現状との対比において
、本発明の新規な方法は、制御された方法によりフッ素
で基質化合物を迅速に処理し、貴重な生成物の大規模生
産を行わせるのに適したユニークな方法である。
従来技術は、元素フッ素を使用する基質化合物の反応が
非常な発熱作用であり、それが反応の所望生成物につい
て良好な収量を得ること、および工業的生産へのスケー
ルアップを困難にしていることを以前から示して来た。
反応を制御するための試みには、低温(−70℃乃至−
85℃)における不活性希釈剤(N2 、He、 Ar
)中の希薄フッ素(1−20%)の使用ならびに不活性
溶媒(CFCI、CF2Cl2、CFCl20F2C1
)の使用が含まれでいる[1987年4月29日付は欧
州特許出願第0219823 AI号;ニス、ローゼン
およびシイーギャル(S、Rozen and C,G
al )  rジャーナル−,1−ブ・オーガニック・
ケミストリー(J、Org、Chem)(1987年)
 、522769 ]。この種の穏やかな条件の採用に
よってさえ、発熱量を制御し、かつ望ましくない副反応
を制御するために、フッ素の添加速度は毎分80m1 
(7,6g/時間)未満であり、その結果大規模反応を
実行することが出来なくなる。他の技法、たとえば「ラ
マー(LaMar) J F1[たとえば、アール・ジ
エー・ラボ−他(R,J。
1Bov et al)、「ジャーナル・オブ◆オーガ
ニック・ケミストリーJ  (1989年) 、541
9901またはエアゾール直接フッ素化(Aersol
 DlrcctPluorina−tion) [ジエ
ー エル、アトコック他(〕、し、^dcock et
 al)、「ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ(J、An+、CheII+ Soc、)
、(1981年) 、1038937コは両者共複雑な
装置および低いF2流量(毎分60m1未満)を伴って
おり、これも大規模生産には不適当である。今や、フッ
素の導入のためのエダクタ−1好ましくは冷却域、たと
えば外部的に冷却すべく取り付けられた冷却コイルを有
するループ反応装置内でのエダクタ−の使用によって、
制御された方法において、かつ所望の反応制御に基づい
て可能な限り高いフッ素率をもって基質化合物をフッ素
で処理することが出来、その結果大規模フッ素反応を実
行可能な方法と為し得ることが見出された。この方法に
よりフッ素で処理し得る基質化合物には、これらに限定
されるものではないが、アルケン、シクロアルケン、ア
ルキン、アレン、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳
香族炭化水素、多重結合を有する化合物(>C−N +
、 −c−N、  >C−0等)、硫黄、窒素、リン、
ヨウ素、臭素、塩素、酸素、珪素化合物等が含まれる。
この粍の化合物は有機あるいは無機のいずれであっても
よい。用語「フッ素化」は本明細書においてその最も広
い意味において使用されるものとし、フッ素は添加、置
換、酸化、重合およびその他の如何なる反応によって反
応してもよく、その場合最終生成物中にフッ素が存在す
るか、しないかは問わないものとする。その結果、用語
「基質化合物」はフッ素゛反応性部位を有するあらゆる
化合物を出発原料として意図するために使用されている
本発明によれば、次のような方法が提供される。
すなわち、それは (a) (i)基質化合物またはフッ素化のための少な
くとも1個の部位を有する化合物の混合物を、(II)
単体もしくは不活性ガスとの混合物における元素フッ素
と、エダクタ−中で反応が実質的に完了するまで反応さ
せる工程と、(b) (+)反応した基質化合物、(i
D該化合物の混合物またはml) (1)あるいは(II)の低重合誘導体を回収する工程
とを含む方法である。
好ましいのは、この方法がループ反応装置であって、フ
ッ素との反応熱を制御するための冷却域を含むものにお
いて行われることである。好ましい実施態様において、
反応温度は約−80℃乃至約+100℃である。本方法
は(a) (i)および(a) (It)を必須成分と
する反応混合物について行ってもよいし、あるいはこの
方法は、(a) (1)、(a) (li)および(a
) (III)液体媒質を含む反応d合物についてほぼ
該媒質の凝固点乃至媒質沸点の温度において行ってもよ
い。もし、媒質を使用する場合それは過ハロゲン化有機
液体あるいは水、フッ化水素等から選択される無機液体
または前記のいずれかの混合物を含むものであることが
好ましい、好ましい実施態様において、本発明は次のよ
うな方法を意図するものである。それは基質化合物(a
) (i)を(1)フッ素を多重結合の両側に添加する
工程、(2)フッ素で水素を置換する工程、(3)フッ
素でハロゲンを置換する工程、あるいは特に(a) (
i)がハロ炭化水素またはその混合物を含んで成る場合
には、(1) 、(2)および(3)のいずれかの組合
せによって反応させ得るという方法である。
添付図面は発明の理解を容易にすることを意図している
第1図を参照すると、本発明の元素フッ素を使用する新
規な方法はループ反応装置2を利用することが便利であ
り、これを介してフッ素、または場合によりフッ素を液
体媒質(CFCl、CF2Cl2、CCl4等)に懸濁
または溶解させたもので処理すべき基質化合物を含有す
る反応混合物をフラスコ4から高い流速、たとえば毎分
8ρをもってポンプで送る。フッ素はエダクタ−8を経
由して反応混合物に導入されるが、この場合全く希釈さ
れないもの(100%)でもあるいは所望により、また
は必要により窒素または他の不活性ガスにより希釈され
たものであってもよく、全ガス流は一般的にこの技法を
利用しないで添加し得るものの多数倍である、エダクタ
−8の存在は反応混合物と元素フッ素との非常に効率的
な混合をもたらす。
しかし、その結果である全ての顕著な発熱反応は、循環
反応混合物が外部的な冷却コイル10および12を迅速
に通過することによって制御される。
そうすることによって、フッ素添加の時点において非常
に効率的な冷却が提供されることになり、その結果ホッ
トスポットおよび望ましくない副反応が阻止される。た
とえば、100%フッ素を、選択された基質化合物、た
とえば不飽和有機化合物に対し一70℃において毎分1
200 mlの割合で添加して、無視し得る(10%未
満の)副生成物の生成を伴うのみで1.2−付加物を製
造することが出来る。これは従来達成可能であったもの
よりも25倍高いフッ素添加速度を示している。
また反応装置ループにおける多重エダクタ−/冷却コイ
ル(図示せず)の使用は更に処理能力を顕著に高めるこ
とになる。
本発明のフッ素処理システムは求電子フッ素化(温度は
通常−40℃未満)に限定されるものではなく、制御さ
れたラジカル反応(温度は通常−40℃超過)において
も応用が見出されるであろう。それは迅速な混合および
非常に効率的な熱伝達のために循環反応混合物の発熱量
が温度によって容易に制御可能なものとなるからである
本発明において使用されるエダクタ−は、所望の方法に
よる機能を停止させることなく、その構造および構成材
料において広範囲のものを使用することができる。腐食
が甚だしい場合、耐フツ素性および耐HF性を有する構
造材料が勿論エダクタ−ならびに他のシステム(R成要
素のために選択されることになろう。適切なものは、た
とえばステンレス鋼、炭素鋼、ニッケル、r Mor+
el  (商標)」、r l1astel Ioy C
(商標)」、銅、黄銅、rTerlon(商標)」およ
び他の多くの材料である。
代替的な設計は当業者には周知であり、多くのものは市
販されている。ベリーおよびチルトン(Perry a
nd Chilton )の「ケミカル・エンジニアズ
a ハンドブック(Chemical IEngine
ers l1and−book) j第5版、マグロウ
−ヒル(McGrav−11i l 1 )1973年
、 6−15を参照されたい。
−膜内にエジェクタータイプのあらゆるジェットポンプ
が利用可能である。しかし、好ましいのは第2図および
第3図に示されるようなポンプで押し出した液体がノズ
ルを介して入って行き、その後ベンチュリノズル16を
通過し、次いで吐出口18を経由して出て行くというタ
イプのものである。流体がベンチュリノズルに入ると、
吸引ヲ発現させ、これは吸込みチャンバー20内にある
フッ素またはフッ素の混合物および不活性ガス、たとえ
ば窒素を流れによって移動させ、吐出口]8を経由して
射出させる。
以下の実施例は本発明を例示するものであるが、如fI
′+1なる意味でも特許請求の範囲の限定を意図するも
のではない。
実施例l CFCl3<15)中の塩化ビニリデン(500g)溶
液を全体的に第1図で示されるエダクタ−およびループ
を経由して一70℃(全ての浴はCO□/アセトンによ
り冷却した)において循環させた。
フッ素を、窒素(毎分755m1)中の当初濃度約10
%(毎分91m1)において30分間エダクタ−を経由
して循環液体媒質に対し導入したが、温度上昇は一68
℃に制御された、すなわち2℃の発熱量であった。次の
60分の間、フッ素の流れを徐々にj曽加させ、100
分後までに窒素の流れを減少させて、100%フッ素を
毎分1200m1の割合で添加した。この時点での温度
の読みは一63℃であった。フッ素化はこの条件下で更
に90分間継続した。この段階において、ガスクロマト
グラフィー(G C)による反応混合物の分析はCFC
I  の他に1 : 3.22の割合のCF2110F
cI2およびCPII。CFCl2ならびに10%未満
の望ましくない副生物を示していた。このような訳で、
100%のフッ素を使用したが、生成物混合物の約90
%が所望の求電子フッ素化に起因しており、僅かに少量
の低重合副生物を伴うのみであった。
実施例2 CFCl3中の塩化ビニリデン(2500g)溶液を全
体として第1図で示されるエダクタ−ループを経由して
一70℃において循環させた。フッ素は、エダクタ−に
おける温度が50−100℃となるように速度毎分12
00 1600 mlで迅速に導入したが、冷却コイル
によって一60℃未満に急冷した。フッ素化はこの条件
下で、約50%の塩化ビニリデンか消費されるまで継続
された。
反応混合物のガスクロマトグラフィー(GC)分析は二
重結合の両側へのフッ素の添加により期待された生成物
であるCF’lI  CFCI□は全く示さず、その代
わりに二量体に相当する生成物であって、今回その素性
が明確に理解てきないものを収率70%(GCおよび未
反応出発原料に基づいて計算した場合)において生成し
た。反応の排ガスにおける塩素の検出がフリーラジカル
・プロセスの証拠であると考えられた。
上述の刊行物ならびに特許および/または出願をここに
参考として引用する。
前述の詳細な説明に鑑み本発明の数多くの変形が当業者
に対し示唆されることになろう。たとえば、塩化ビニリ
デンの代わりに、塩化ビニル、ベンゼン、二硫化炭素、
ジフェニルアセチレン、エタン、アセトニトリル、−酸
化炭素および数多くの他のもの、ならびにそれらのいず
れかの混合物を出発原料として使用することが出来る。
反応はトリクロロフルオロメタンの不存在下あるいは液
体媒質として水および/またはフッ化水素と共に行うこ
とができる。フッ素と窒素の混合物の代わりに、フッ素
単体をエダクタ−に供給してもよいし、あるいはアルゴ
ン等と混合したフッ素を供給することもできる。冷却コ
イルを省略することもできる。全ての二の種の明白は変
形は意図された特許請求の範囲内に完全に含まれるもの
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるエダクタ−および冷却コイルを利
用するループ反応器によって、基質化合物をフッ素と反
応させるのに適した装置を示すフロー・ダイヤグラム、
第2図は第1図に示す装置において使用するのに適した
成る型のエダクタ−を詳細に示す立面横断面図、第3図
は第1図に示す装置において使用するのに適した他の型
のエダクタ−を示す立面横断面図である。 2・・・ループ反応装置、2・・・エダクタ−10、1 9・・・冷却コイル。 土 ゝへ、−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)(a)(i)少なくとも1個の反応性部位を有す
    る基質化合物を、 (ii)単体もしくは不活性ガスとの混合物における元
    素フッ素と、エダクター中で 反応が実質的に完了するまで反応させる 工程と、 (b)(i)反応した基質化合物、(ii)該化合物の
    混合物または (iii)(i)あるいは(ii)の低重合誘導体を回
    収する工程とを含むことを特徴とす る方法。 (2)フッ素反応の熱を制御するための冷却域を含むル
    ープ反応装置において行われる請求項1記載の方法。 (3)反応温度が約−80℃乃至約+100℃である請
    求項1記載の方法。 (4)反応温度が約−80℃乃至約+100℃である請
    求項2記載の方法。 (5)必須の成分としての(a)(i)および(a)(
    ii)から成る反応混合物について行われる請求項1記
    載の方法。 (6)(a)(i)、(a)(ii)および(a)(i
    ii)液体媒質を含む反応混合物について、ほぼ媒質凝
    固点乃至ほぼ媒質沸点の温度において行われる請求項1
    記載の方法。 (7)媒質(a)(iii)が過ハロゲン化有機液体あ
    るいは水、フッ化水素等から選択される無機液体または
    これらのいずれかの混合物を含む請求項6記載の方法。 (8)前記基質化合物(a)(i)を (1)多重結合の両側にフッ素を添加する工程、(2)
    水素をフッ素で置換する工程、 (3)ハロゲンをフッ素で置換する工程、または(1)
    、(2)および(3)のいずれかの組合せによってフッ
    素と反応させることができる請求項1記載の方法。 (9)前記基質化合物(a)(i)が炭化水素、ハロ炭
    化水素またはそれらの混合物を含む請求項8記載の方法
JP2108568A 1989-05-01 1990-04-24 エダクター中の基質化合物とフッ素の反応 Pending JPH0368525A (ja)

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