JPH0368525A - エダクター中の基質化合物とフッ素の反応 - Google Patents
エダクター中の基質化合物とフッ素の反応Info
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- JPH0368525A JPH0368525A JP2108568A JP10856890A JPH0368525A JP H0368525 A JPH0368525 A JP H0368525A JP 2108568 A JP2108568 A JP 2108568A JP 10856890 A JP10856890 A JP 10856890A JP H0368525 A JPH0368525 A JP H0368525A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/272—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions
- C07C17/278—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions of only halogenated hydrocarbons
- C07C17/281—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions of only halogenated hydrocarbons of only one compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B39/00—Halogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/013—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens
- C07C17/04—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens to unsaturated halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
- C07C17/21—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms with simultaneous increase of the number of halogen atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は抽質化合物をフッ素で処理する新規な方法に関
する。より詳細に、本発明は成る流体が他の流体を動か
すための運動量を利用するジェットポンプ形式のエダク
タ−(eductor)中で基質化合物を元素フッ素と
反応させることに関する。技術的現状との対比において
、本発明の新規な方法は、制御された方法によりフッ素
で基質化合物を迅速に処理し、貴重な生成物の大規模生
産を行わせるのに適したユニークな方法である。
する。より詳細に、本発明は成る流体が他の流体を動か
すための運動量を利用するジェットポンプ形式のエダク
タ−(eductor)中で基質化合物を元素フッ素と
反応させることに関する。技術的現状との対比において
、本発明の新規な方法は、制御された方法によりフッ素
で基質化合物を迅速に処理し、貴重な生成物の大規模生
産を行わせるのに適したユニークな方法である。
従来技術は、元素フッ素を使用する基質化合物の反応が
非常な発熱作用であり、それが反応の所望生成物につい
て良好な収量を得ること、および工業的生産へのスケー
ルアップを困難にしていることを以前から示して来た。
非常な発熱作用であり、それが反応の所望生成物につい
て良好な収量を得ること、および工業的生産へのスケー
ルアップを困難にしていることを以前から示して来た。
反応を制御するための試みには、低温(−70℃乃至−
85℃)における不活性希釈剤(N2 、He、 Ar
)中の希薄フッ素(1−20%)の使用ならびに不活性
溶媒(CFCI、CF2Cl2、CFCl20F2C1
)の使用が含まれでいる[1987年4月29日付は欧
州特許出願第0219823 AI号;ニス、ローゼン
およびシイーギャル(S、Rozen and C,G
al ) rジャーナル−,1−ブ・オーガニック・
ケミストリー(J、Org、Chem)(1987年)
、522769 ]。この種の穏やかな条件の採用に
よってさえ、発熱量を制御し、かつ望ましくない副反応
を制御するために、フッ素の添加速度は毎分80m1
(7,6g/時間)未満であり、その結果大規模反応を
実行することが出来なくなる。他の技法、たとえば「ラ
マー(LaMar) J F1[たとえば、アール・ジ
エー・ラボ−他(R,J。
85℃)における不活性希釈剤(N2 、He、 Ar
)中の希薄フッ素(1−20%)の使用ならびに不活性
溶媒(CFCI、CF2Cl2、CFCl20F2C1
)の使用が含まれでいる[1987年4月29日付は欧
州特許出願第0219823 AI号;ニス、ローゼン
およびシイーギャル(S、Rozen and C,G
al ) rジャーナル−,1−ブ・オーガニック・
ケミストリー(J、Org、Chem)(1987年)
、522769 ]。この種の穏やかな条件の採用に
よってさえ、発熱量を制御し、かつ望ましくない副反応
を制御するために、フッ素の添加速度は毎分80m1
(7,6g/時間)未満であり、その結果大規模反応を
実行することが出来なくなる。他の技法、たとえば「ラ
マー(LaMar) J F1[たとえば、アール・ジ
エー・ラボ−他(R,J。
1Bov et al)、「ジャーナル・オブ◆オーガ
ニック・ケミストリーJ (1989年) 、541
9901またはエアゾール直接フッ素化(Aersol
DlrcctPluorina−tion) [ジエ
ー エル、アトコック他(〕、し、^dcock et
al)、「ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ(J、An+、CheII+ Soc、)
、(1981年) 、1038937コは両者共複雑な
装置および低いF2流量(毎分60m1未満)を伴って
おり、これも大規模生産には不適当である。今や、フッ
素の導入のためのエダクタ−1好ましくは冷却域、たと
えば外部的に冷却すべく取り付けられた冷却コイルを有
するループ反応装置内でのエダクタ−の使用によって、
制御された方法において、かつ所望の反応制御に基づい
て可能な限り高いフッ素率をもって基質化合物をフッ素
で処理することが出来、その結果大規模フッ素反応を実
行可能な方法と為し得ることが見出された。この方法に
よりフッ素で処理し得る基質化合物には、これらに限定
されるものではないが、アルケン、シクロアルケン、ア
ルキン、アレン、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳
香族炭化水素、多重結合を有する化合物(>C−N +
、 −c−N、 >C−0等)、硫黄、窒素、リン、
ヨウ素、臭素、塩素、酸素、珪素化合物等が含まれる。
ニック・ケミストリーJ (1989年) 、541
9901またはエアゾール直接フッ素化(Aersol
DlrcctPluorina−tion) [ジエ
ー エル、アトコック他(〕、し、^dcock et
al)、「ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ(J、An+、CheII+ Soc、)
、(1981年) 、1038937コは両者共複雑な
装置および低いF2流量(毎分60m1未満)を伴って
おり、これも大規模生産には不適当である。今や、フッ
素の導入のためのエダクタ−1好ましくは冷却域、たと
えば外部的に冷却すべく取り付けられた冷却コイルを有
するループ反応装置内でのエダクタ−の使用によって、
制御された方法において、かつ所望の反応制御に基づい
て可能な限り高いフッ素率をもって基質化合物をフッ素
で処理することが出来、その結果大規模フッ素反応を実
行可能な方法と為し得ることが見出された。この方法に
よりフッ素で処理し得る基質化合物には、これらに限定
されるものではないが、アルケン、シクロアルケン、ア
ルキン、アレン、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳
香族炭化水素、多重結合を有する化合物(>C−N +
、 −c−N、 >C−0等)、硫黄、窒素、リン、
ヨウ素、臭素、塩素、酸素、珪素化合物等が含まれる。
この粍の化合物は有機あるいは無機のいずれであっても
よい。用語「フッ素化」は本明細書においてその最も広
い意味において使用されるものとし、フッ素は添加、置
換、酸化、重合およびその他の如何なる反応によって反
応してもよく、その場合最終生成物中にフッ素が存在す
るか、しないかは問わないものとする。その結果、用語
「基質化合物」はフッ素゛反応性部位を有するあらゆる
化合物を出発原料として意図するために使用されている
。
よい。用語「フッ素化」は本明細書においてその最も広
い意味において使用されるものとし、フッ素は添加、置
換、酸化、重合およびその他の如何なる反応によって反
応してもよく、その場合最終生成物中にフッ素が存在す
るか、しないかは問わないものとする。その結果、用語
「基質化合物」はフッ素゛反応性部位を有するあらゆる
化合物を出発原料として意図するために使用されている
。
本発明によれば、次のような方法が提供される。
すなわち、それは
(a) (i)基質化合物またはフッ素化のための少な
くとも1個の部位を有する化合物の混合物を、(II)
単体もしくは不活性ガスとの混合物における元素フッ素
と、エダクタ−中で反応が実質的に完了するまで反応さ
せる工程と、(b) (+)反応した基質化合物、(i
D該化合物の混合物またはml) (1)あるいは(II)の低重合誘導体を回収する工程
とを含む方法である。
くとも1個の部位を有する化合物の混合物を、(II)
単体もしくは不活性ガスとの混合物における元素フッ素
と、エダクタ−中で反応が実質的に完了するまで反応さ
せる工程と、(b) (+)反応した基質化合物、(i
D該化合物の混合物またはml) (1)あるいは(II)の低重合誘導体を回収する工程
とを含む方法である。
好ましいのは、この方法がループ反応装置であって、フ
ッ素との反応熱を制御するための冷却域を含むものにお
いて行われることである。好ましい実施態様において、
反応温度は約−80℃乃至約+100℃である。本方法
は(a) (i)および(a) (It)を必須成分と
する反応混合物について行ってもよいし、あるいはこの
方法は、(a) (1)、(a) (li)および(a
) (III)液体媒質を含む反応d合物についてほぼ
該媒質の凝固点乃至媒質沸点の温度において行ってもよ
い。もし、媒質を使用する場合それは過ハロゲン化有機
液体あるいは水、フッ化水素等から選択される無機液体
または前記のいずれかの混合物を含むものであることが
好ましい、好ましい実施態様において、本発明は次のよ
うな方法を意図するものである。それは基質化合物(a
) (i)を(1)フッ素を多重結合の両側に添加する
工程、(2)フッ素で水素を置換する工程、(3)フッ
素でハロゲンを置換する工程、あるいは特に(a) (
i)がハロ炭化水素またはその混合物を含んで成る場合
には、(1) 、(2)および(3)のいずれかの組合
せによって反応させ得るという方法である。
ッ素との反応熱を制御するための冷却域を含むものにお
いて行われることである。好ましい実施態様において、
反応温度は約−80℃乃至約+100℃である。本方法
は(a) (i)および(a) (It)を必須成分と
する反応混合物について行ってもよいし、あるいはこの
方法は、(a) (1)、(a) (li)および(a
) (III)液体媒質を含む反応d合物についてほぼ
該媒質の凝固点乃至媒質沸点の温度において行ってもよ
い。もし、媒質を使用する場合それは過ハロゲン化有機
液体あるいは水、フッ化水素等から選択される無機液体
または前記のいずれかの混合物を含むものであることが
好ましい、好ましい実施態様において、本発明は次のよ
うな方法を意図するものである。それは基質化合物(a
) (i)を(1)フッ素を多重結合の両側に添加する
工程、(2)フッ素で水素を置換する工程、(3)フッ
素でハロゲンを置換する工程、あるいは特に(a) (
i)がハロ炭化水素またはその混合物を含んで成る場合
には、(1) 、(2)および(3)のいずれかの組合
せによって反応させ得るという方法である。
添付図面は発明の理解を容易にすることを意図している
。
。
第1図を参照すると、本発明の元素フッ素を使用する新
規な方法はループ反応装置2を利用することが便利であ
り、これを介してフッ素、または場合によりフッ素を液
体媒質(CFCl、CF2Cl2、CCl4等)に懸濁
または溶解させたもので処理すべき基質化合物を含有す
る反応混合物をフラスコ4から高い流速、たとえば毎分
8ρをもってポンプで送る。フッ素はエダクタ−8を経
由して反応混合物に導入されるが、この場合全く希釈さ
れないもの(100%)でもあるいは所望により、また
は必要により窒素または他の不活性ガスにより希釈され
たものであってもよく、全ガス流は一般的にこの技法を
利用しないで添加し得るものの多数倍である、エダクタ
−8の存在は反応混合物と元素フッ素との非常に効率的
な混合をもたらす。
規な方法はループ反応装置2を利用することが便利であ
り、これを介してフッ素、または場合によりフッ素を液
体媒質(CFCl、CF2Cl2、CCl4等)に懸濁
または溶解させたもので処理すべき基質化合物を含有す
る反応混合物をフラスコ4から高い流速、たとえば毎分
8ρをもってポンプで送る。フッ素はエダクタ−8を経
由して反応混合物に導入されるが、この場合全く希釈さ
れないもの(100%)でもあるいは所望により、また
は必要により窒素または他の不活性ガスにより希釈され
たものであってもよく、全ガス流は一般的にこの技法を
利用しないで添加し得るものの多数倍である、エダクタ
−8の存在は反応混合物と元素フッ素との非常に効率的
な混合をもたらす。
しかし、その結果である全ての顕著な発熱反応は、循環
反応混合物が外部的な冷却コイル10および12を迅速
に通過することによって制御される。
反応混合物が外部的な冷却コイル10および12を迅速
に通過することによって制御される。
そうすることによって、フッ素添加の時点において非常
に効率的な冷却が提供されることになり、その結果ホッ
トスポットおよび望ましくない副反応が阻止される。た
とえば、100%フッ素を、選択された基質化合物、た
とえば不飽和有機化合物に対し一70℃において毎分1
200 mlの割合で添加して、無視し得る(10%未
満の)副生成物の生成を伴うのみで1.2−付加物を製
造することが出来る。これは従来達成可能であったもの
よりも25倍高いフッ素添加速度を示している。
に効率的な冷却が提供されることになり、その結果ホッ
トスポットおよび望ましくない副反応が阻止される。た
とえば、100%フッ素を、選択された基質化合物、た
とえば不飽和有機化合物に対し一70℃において毎分1
200 mlの割合で添加して、無視し得る(10%未
満の)副生成物の生成を伴うのみで1.2−付加物を製
造することが出来る。これは従来達成可能であったもの
よりも25倍高いフッ素添加速度を示している。
また反応装置ループにおける多重エダクタ−/冷却コイ
ル(図示せず)の使用は更に処理能力を顕著に高めるこ
とになる。
ル(図示せず)の使用は更に処理能力を顕著に高めるこ
とになる。
本発明のフッ素処理システムは求電子フッ素化(温度は
通常−40℃未満)に限定されるものではなく、制御さ
れたラジカル反応(温度は通常−40℃超過)において
も応用が見出されるであろう。それは迅速な混合および
非常に効率的な熱伝達のために循環反応混合物の発熱量
が温度によって容易に制御可能なものとなるからである
。
通常−40℃未満)に限定されるものではなく、制御さ
れたラジカル反応(温度は通常−40℃超過)において
も応用が見出されるであろう。それは迅速な混合および
非常に効率的な熱伝達のために循環反応混合物の発熱量
が温度によって容易に制御可能なものとなるからである
。
本発明において使用されるエダクタ−は、所望の方法に
よる機能を停止させることなく、その構造および構成材
料において広範囲のものを使用することができる。腐食
が甚だしい場合、耐フツ素性および耐HF性を有する構
造材料が勿論エダクタ−ならびに他のシステム(R成要
素のために選択されることになろう。適切なものは、た
とえばステンレス鋼、炭素鋼、ニッケル、r Mor+
el (商標)」、r l1astel Ioy C
(商標)」、銅、黄銅、rTerlon(商標)」およ
び他の多くの材料である。
よる機能を停止させることなく、その構造および構成材
料において広範囲のものを使用することができる。腐食
が甚だしい場合、耐フツ素性および耐HF性を有する構
造材料が勿論エダクタ−ならびに他のシステム(R成要
素のために選択されることになろう。適切なものは、た
とえばステンレス鋼、炭素鋼、ニッケル、r Mor+
el (商標)」、r l1astel Ioy C
(商標)」、銅、黄銅、rTerlon(商標)」およ
び他の多くの材料である。
代替的な設計は当業者には周知であり、多くのものは市
販されている。ベリーおよびチルトン(Perry a
nd Chilton )の「ケミカル・エンジニアズ
a ハンドブック(Chemical IEngine
ers l1and−book) j第5版、マグロウ
−ヒル(McGrav−11i l 1 )1973年
、 6−15を参照されたい。
販されている。ベリーおよびチルトン(Perry a
nd Chilton )の「ケミカル・エンジニアズ
a ハンドブック(Chemical IEngine
ers l1and−book) j第5版、マグロウ
−ヒル(McGrav−11i l 1 )1973年
、 6−15を参照されたい。
−膜内にエジェクタータイプのあらゆるジェットポンプ
が利用可能である。しかし、好ましいのは第2図および
第3図に示されるようなポンプで押し出した液体がノズ
ルを介して入って行き、その後ベンチュリノズル16を
通過し、次いで吐出口18を経由して出て行くというタ
イプのものである。流体がベンチュリノズルに入ると、
吸引ヲ発現させ、これは吸込みチャンバー20内にある
フッ素またはフッ素の混合物および不活性ガス、たとえ
ば窒素を流れによって移動させ、吐出口]8を経由して
射出させる。
が利用可能である。しかし、好ましいのは第2図および
第3図に示されるようなポンプで押し出した液体がノズ
ルを介して入って行き、その後ベンチュリノズル16を
通過し、次いで吐出口18を経由して出て行くというタ
イプのものである。流体がベンチュリノズルに入ると、
吸引ヲ発現させ、これは吸込みチャンバー20内にある
フッ素またはフッ素の混合物および不活性ガス、たとえ
ば窒素を流れによって移動させ、吐出口]8を経由して
射出させる。
以下の実施例は本発明を例示するものであるが、如fI
′+1なる意味でも特許請求の範囲の限定を意図するも
のではない。
′+1なる意味でも特許請求の範囲の限定を意図するも
のではない。
実施例l
CFCl3<15)中の塩化ビニリデン(500g)溶
液を全体的に第1図で示されるエダクタ−およびループ
を経由して一70℃(全ての浴はCO□/アセトンによ
り冷却した)において循環させた。
液を全体的に第1図で示されるエダクタ−およびループ
を経由して一70℃(全ての浴はCO□/アセトンによ
り冷却した)において循環させた。
フッ素を、窒素(毎分755m1)中の当初濃度約10
%(毎分91m1)において30分間エダクタ−を経由
して循環液体媒質に対し導入したが、温度上昇は一68
℃に制御された、すなわち2℃の発熱量であった。次の
60分の間、フッ素の流れを徐々にj曽加させ、100
分後までに窒素の流れを減少させて、100%フッ素を
毎分1200m1の割合で添加した。この時点での温度
の読みは一63℃であった。フッ素化はこの条件下で更
に90分間継続した。この段階において、ガスクロマト
グラフィー(G C)による反応混合物の分析はCFC
I の他に1 : 3.22の割合のCF2110F
cI2およびCPII。CFCl2ならびに10%未満
の望ましくない副生物を示していた。このような訳で、
100%のフッ素を使用したが、生成物混合物の約90
%が所望の求電子フッ素化に起因しており、僅かに少量
の低重合副生物を伴うのみであった。
%(毎分91m1)において30分間エダクタ−を経由
して循環液体媒質に対し導入したが、温度上昇は一68
℃に制御された、すなわち2℃の発熱量であった。次の
60分の間、フッ素の流れを徐々にj曽加させ、100
分後までに窒素の流れを減少させて、100%フッ素を
毎分1200m1の割合で添加した。この時点での温度
の読みは一63℃であった。フッ素化はこの条件下で更
に90分間継続した。この段階において、ガスクロマト
グラフィー(G C)による反応混合物の分析はCFC
I の他に1 : 3.22の割合のCF2110F
cI2およびCPII。CFCl2ならびに10%未満
の望ましくない副生物を示していた。このような訳で、
100%のフッ素を使用したが、生成物混合物の約90
%が所望の求電子フッ素化に起因しており、僅かに少量
の低重合副生物を伴うのみであった。
実施例2
CFCl3中の塩化ビニリデン(2500g)溶液を全
体として第1図で示されるエダクタ−ループを経由して
一70℃において循環させた。フッ素は、エダクタ−に
おける温度が50−100℃となるように速度毎分12
00 1600 mlで迅速に導入したが、冷却コイル
によって一60℃未満に急冷した。フッ素化はこの条件
下で、約50%の塩化ビニリデンか消費されるまで継続
された。
体として第1図で示されるエダクタ−ループを経由して
一70℃において循環させた。フッ素は、エダクタ−に
おける温度が50−100℃となるように速度毎分12
00 1600 mlで迅速に導入したが、冷却コイル
によって一60℃未満に急冷した。フッ素化はこの条件
下で、約50%の塩化ビニリデンか消費されるまで継続
された。
反応混合物のガスクロマトグラフィー(GC)分析は二
重結合の両側へのフッ素の添加により期待された生成物
であるCF’lI CFCI□は全く示さず、その代
わりに二量体に相当する生成物であって、今回その素性
が明確に理解てきないものを収率70%(GCおよび未
反応出発原料に基づいて計算した場合)において生成し
た。反応の排ガスにおける塩素の検出がフリーラジカル
・プロセスの証拠であると考えられた。
重結合の両側へのフッ素の添加により期待された生成物
であるCF’lI CFCI□は全く示さず、その代
わりに二量体に相当する生成物であって、今回その素性
が明確に理解てきないものを収率70%(GCおよび未
反応出発原料に基づいて計算した場合)において生成し
た。反応の排ガスにおける塩素の検出がフリーラジカル
・プロセスの証拠であると考えられた。
上述の刊行物ならびに特許および/または出願をここに
参考として引用する。
参考として引用する。
前述の詳細な説明に鑑み本発明の数多くの変形が当業者
に対し示唆されることになろう。たとえば、塩化ビニリ
デンの代わりに、塩化ビニル、ベンゼン、二硫化炭素、
ジフェニルアセチレン、エタン、アセトニトリル、−酸
化炭素および数多くの他のもの、ならびにそれらのいず
れかの混合物を出発原料として使用することが出来る。
に対し示唆されることになろう。たとえば、塩化ビニリ
デンの代わりに、塩化ビニル、ベンゼン、二硫化炭素、
ジフェニルアセチレン、エタン、アセトニトリル、−酸
化炭素および数多くの他のもの、ならびにそれらのいず
れかの混合物を出発原料として使用することが出来る。
反応はトリクロロフルオロメタンの不存在下あるいは液
体媒質として水および/またはフッ化水素と共に行うこ
とができる。フッ素と窒素の混合物の代わりに、フッ素
単体をエダクタ−に供給してもよいし、あるいはアルゴ
ン等と混合したフッ素を供給することもできる。冷却コ
イルを省略することもできる。全ての二の種の明白は変
形は意図された特許請求の範囲内に完全に含まれるもの
である。
体媒質として水および/またはフッ化水素と共に行うこ
とができる。フッ素と窒素の混合物の代わりに、フッ素
単体をエダクタ−に供給してもよいし、あるいはアルゴ
ン等と混合したフッ素を供給することもできる。冷却コ
イルを省略することもできる。全ての二の種の明白は変
形は意図された特許請求の範囲内に完全に含まれるもの
である。
第1図は本発明によるエダクタ−および冷却コイルを利
用するループ反応器によって、基質化合物をフッ素と反
応させるのに適した装置を示すフロー・ダイヤグラム、
第2図は第1図に示す装置において使用するのに適した
成る型のエダクタ−を詳細に示す立面横断面図、第3図
は第1図に示す装置において使用するのに適した他の型
のエダクタ−を示す立面横断面図である。 2・・・ループ反応装置、2・・・エダクタ−10、1 9・・・冷却コイル。 土 ゝへ、−
用するループ反応器によって、基質化合物をフッ素と反
応させるのに適した装置を示すフロー・ダイヤグラム、
第2図は第1図に示す装置において使用するのに適した
成る型のエダクタ−を詳細に示す立面横断面図、第3図
は第1図に示す装置において使用するのに適した他の型
のエダクタ−を示す立面横断面図である。 2・・・ループ反応装置、2・・・エダクタ−10、1 9・・・冷却コイル。 土 ゝへ、−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)(a)(i)少なくとも1個の反応性部位を有す
る基質化合物を、 (ii)単体もしくは不活性ガスとの混合物における元
素フッ素と、エダクター中で 反応が実質的に完了するまで反応させる 工程と、 (b)(i)反応した基質化合物、(ii)該化合物の
混合物または (iii)(i)あるいは(ii)の低重合誘導体を回
収する工程とを含むことを特徴とす る方法。 (2)フッ素反応の熱を制御するための冷却域を含むル
ープ反応装置において行われる請求項1記載の方法。 (3)反応温度が約−80℃乃至約+100℃である請
求項1記載の方法。 (4)反応温度が約−80℃乃至約+100℃である請
求項2記載の方法。 (5)必須の成分としての(a)(i)および(a)(
ii)から成る反応混合物について行われる請求項1記
載の方法。 (6)(a)(i)、(a)(ii)および(a)(i
ii)液体媒質を含む反応混合物について、ほぼ媒質凝
固点乃至ほぼ媒質沸点の温度において行われる請求項1
記載の方法。 (7)媒質(a)(iii)が過ハロゲン化有機液体あ
るいは水、フッ化水素等から選択される無機液体または
これらのいずれかの混合物を含む請求項6記載の方法。 (8)前記基質化合物(a)(i)を (1)多重結合の両側にフッ素を添加する工程、(2)
水素をフッ素で置換する工程、 (3)ハロゲンをフッ素で置換する工程、または(1)
、(2)および(3)のいずれかの組合せによってフッ
素と反応させることができる請求項1記載の方法。 (9)前記基質化合物(a)(i)が炭化水素、ハロ炭
化水素またはそれらの混合物を含む請求項8記載の方法
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US345,588 | 1989-05-01 | ||
| US07/345,588 US5177275A (en) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | Reaction of substrate compounds with fluorine in an eductor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0368525A true JPH0368525A (ja) | 1991-03-25 |
Family
ID=23355633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2108568A Pending JPH0368525A (ja) | 1989-05-01 | 1990-04-24 | エダクター中の基質化合物とフッ素の反応 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5177275A (ja) |
| EP (1) | EP0396168A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0368525A (ja) |
| IL (1) | IL93916A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003500375A (ja) * | 1999-05-20 | 2003-01-07 | ザ サウス アフリカン ニュークリア エナジー コーポレイション リミテッド | フルオロ化 |
| JP2013535432A (ja) * | 2010-07-13 | 2013-09-12 | ソルヴェイ・スペシャルティ・ポリマーズ・イタリー・エッセ・ピ・ア | ハロオレフィンのフッ素化方法 |
| JP2022513032A (ja) * | 2019-08-22 | 2022-02-07 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | 直接フッ素化による無機又は有機化合物のフッ素化プロセス |
| JP2022530576A (ja) * | 2019-08-22 | 2022-06-30 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | 直接フッ素化によるフルオロベンゼンの製造プロセス |
| JP2022532264A (ja) * | 2019-08-27 | 2022-07-14 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | フルオロベンゼン及び安息香酸ハイポフルオライトの製造プロセス |
| JP2022532265A (ja) * | 2019-08-27 | 2022-07-14 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | フルオロベンゼン誘導体及び安息香酸ハイポフルオライト誘導体の製造プロセス |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5488142A (en) * | 1993-10-04 | 1996-01-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fluorination in tubular reactor system |
| SE505324C2 (sv) * | 1994-11-14 | 1997-08-04 | Gems Pet Systems Ab | Framställning av 11C-metyljodid |
| WO1999046223A1 (en) * | 1998-03-09 | 1999-09-16 | Scott Specialty Gases, Inc. | Method and apparatus for direct fluorination of carbon or sulfur compounds |
| US6187986B1 (en) | 1998-10-17 | 2001-02-13 | Marathon Ashland Petroleum, Llc | Fresh plant inventory hydrofluoric acid eduction process |
| GB0009156D0 (en) * | 2000-04-14 | 2000-05-31 | F2 Chemicals Ltd | Fluorination method |
| GB0021618D0 (en) * | 2000-09-02 | 2000-10-18 | Ici Plc | Production of hydrofluoroalkanes |
| US7624818B2 (en) * | 2004-02-19 | 2009-12-01 | Baker Hughes Incorporated | Earth boring drill bits with casing component drill out capability and methods of use |
| DE102006053380A1 (de) * | 2006-11-13 | 2008-05-15 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von chlorierten Carbonylverbindungen in Jet Loop Reaktoren |
| CN109277009A (zh) | 2011-12-05 | 2019-01-29 | 斯蒂芬·M·萨菲奥蒂 | 用于产生均质油田凝胶的系统和方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1563994A (en) * | 1975-05-15 | 1980-04-02 | Albright & Wilson | Sulph(on)ation process and mixer |
| US4230668A (en) * | 1976-02-19 | 1980-10-28 | The Badger Company, Inc. | Process and apparatus for producing halogenated unsaturated hydrocarbons |
| DE2819308A1 (de) * | 1978-05-02 | 1979-11-15 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von 1,2-dichloraethan |
| IT1200806B (it) * | 1985-10-21 | 1989-01-27 | Ausimont Spa | Procedimento per la preparazione di idroalofluoroalcani |
-
1989
- 1989-05-01 US US07/345,588 patent/US5177275A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-03-28 IL IL9391690A patent/IL93916A/en not_active IP Right Cessation
- 1990-04-18 EP EP90200946A patent/EP0396168A1/en not_active Withdrawn
- 1990-04-24 JP JP2108568A patent/JPH0368525A/ja active Pending
-
1992
- 1992-05-01 US US07/876,978 patent/US5334788A/en not_active Expired - Fee Related
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| JP2003500375A (ja) * | 1999-05-20 | 2003-01-07 | ザ サウス アフリカン ニュークリア エナジー コーポレイション リミテッド | フルオロ化 |
| JP4782290B2 (ja) * | 1999-05-20 | 2011-09-28 | ザ サウス アフリカン ニュークリア エナジー コーポレイション リミテッド | フルオロ化 |
| JP2013535432A (ja) * | 2010-07-13 | 2013-09-12 | ソルヴェイ・スペシャルティ・ポリマーズ・イタリー・エッセ・ピ・ア | ハロオレフィンのフッ素化方法 |
| JP2022513032A (ja) * | 2019-08-22 | 2022-02-07 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | 直接フッ素化による無機又は有機化合物のフッ素化プロセス |
| JP2022530576A (ja) * | 2019-08-22 | 2022-06-30 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | 直接フッ素化によるフルオロベンゼンの製造プロセス |
| JP2022532264A (ja) * | 2019-08-27 | 2022-07-14 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | フルオロベンゼン及び安息香酸ハイポフルオライトの製造プロセス |
| JP2022532265A (ja) * | 2019-08-27 | 2022-07-14 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | フルオロベンゼン誘導体及び安息香酸ハイポフルオライト誘導体の製造プロセス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0396168A1 (en) | 1990-11-07 |
| US5177275A (en) | 1993-01-05 |
| IL93916A (en) | 1994-11-28 |
| US5334788A (en) | 1994-08-02 |
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