JPH06107650A - ヘキサフルオロプロペンオキシドの製造方法 - Google Patents
ヘキサフルオロプロペンオキシドの製造方法Info
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- JPH06107650A JPH06107650A JP26346592A JP26346592A JPH06107650A JP H06107650 A JPH06107650 A JP H06107650A JP 26346592 A JP26346592 A JP 26346592A JP 26346592 A JP26346592 A JP 26346592A JP H06107650 A JPH06107650 A JP H06107650A
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- iii
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化し、ヘ
キサフルオロプロペンオキシドを製造する場合に、反応
開始の誘導期間を無くし、収率を向上させる。 【構成】 上記酸化反応を行う場合に、一般式: F(CF2O)lCOF [I] F(CF2O)mCF2COF [II] F(CF2O)nOCF2COF [III] で示される化合物よりなる群から選択される少なくとも
一種の化合物を含んでなる混合物を添加する。この混合
物は、ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化してヘキサ
フルオロプロペンオキシドを製造する場合に副生物とし
て得られるものである。
キサフルオロプロペンオキシドを製造する場合に、反応
開始の誘導期間を無くし、収率を向上させる。 【構成】 上記酸化反応を行う場合に、一般式: F(CF2O)lCOF [I] F(CF2O)mCF2COF [II] F(CF2O)nOCF2COF [III] で示される化合物よりなる群から選択される少なくとも
一種の化合物を含んでなる混合物を添加する。この混合
物は、ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化してヘキサ
フルオロプロペンオキシドを製造する場合に副生物とし
て得られるものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はヘキサフルオロプロペン
を酸素で酸化することによるヘキサフルオロプロペンオ
キシドの製造方法に関する。
を酸素で酸化することによるヘキサフルオロプロペンオ
キシドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ヘキサフルオロプロペンオキシドは各種
フッ素系化合物の合成原料やオリゴマーの原料等として
使用されている。このヘキサフルオロプロペンオキシド
の製造法としては様々な方法が開発されており、その大
部分はヘキサフルオロプロペンを原料とし、これを酸化
して製造する方法である。古くは酸化剤として過酸化水
素や次亜塩素酸塩類を用いる方法が知られているが、前
者は極低温が必要であり、いずれも原料と水溶液との混
合を考え水溶性の有機溶媒あるいは多量の界面活性剤を
用いる必要があり、廃水処理などの点で工業上問題が多
い。その他の方法として有機過酸化物を酸化剤として用
いる方法、紫外線による光酸化法、陽極酸化による方法
などが知られるが、危険性・装置の繁雑性などの点で問
題を有している。さらに酸素を酸化剤として反応溶媒を
検討したものが、特公昭45−11683号公報に記載
されている。この酸化反応では溶媒として1,1,2−ト
リクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン、トリクロロ
フルオロメタン、パーフルオロ(ジメチルシクロブタ
ン)、四塩化炭素などの不活性な飽和ハロゲン化炭素が
用いられている。しかしこの反応の収率(転化率×選択
率)は低く、約50〜60%である。また特公昭45−
11683号公報に明記されてはいないが、この反応を
追試したところ反応開始までに1〜5時間の誘導期間を
必要とすることがわかった。
フッ素系化合物の合成原料やオリゴマーの原料等として
使用されている。このヘキサフルオロプロペンオキシド
の製造法としては様々な方法が開発されており、その大
部分はヘキサフルオロプロペンを原料とし、これを酸化
して製造する方法である。古くは酸化剤として過酸化水
素や次亜塩素酸塩類を用いる方法が知られているが、前
者は極低温が必要であり、いずれも原料と水溶液との混
合を考え水溶性の有機溶媒あるいは多量の界面活性剤を
用いる必要があり、廃水処理などの点で工業上問題が多
い。その他の方法として有機過酸化物を酸化剤として用
いる方法、紫外線による光酸化法、陽極酸化による方法
などが知られるが、危険性・装置の繁雑性などの点で問
題を有している。さらに酸素を酸化剤として反応溶媒を
検討したものが、特公昭45−11683号公報に記載
されている。この酸化反応では溶媒として1,1,2−ト
リクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン、トリクロロ
フルオロメタン、パーフルオロ(ジメチルシクロブタ
ン)、四塩化炭素などの不活性な飽和ハロゲン化炭素が
用いられている。しかしこの反応の収率(転化率×選択
率)は低く、約50〜60%である。また特公昭45−
11683号公報に明記されてはいないが、この反応を
追試したところ反応開始までに1〜5時間の誘導期間を
必要とすることがわかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヘキ
サフルオロプロペンを酸素で酸化し、ヘキサフルオロプ
ロペンオキシドを製造するに際し、反応開始の誘導期間
を無くし、収率(転化率×選択率)を向上することにあ
る。
サフルオロプロペンを酸素で酸化し、ヘキサフルオロプ
ロペンオキシドを製造するに際し、反応開始の誘導期間
を無くし、収率(転化率×選択率)を向上することにあ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は上記酸化
反応において、一般式: F(CF2O)lCOF [I] F(CF2O)mCF2COF [II] F(CF2O)nOCF2COF [III] (式中l、m、nはそれぞれ1〜50の整数である)で示さ
れる化合物よりなる群より選択される少なくとも一種の
化合物を含んでなる混合物(以下、単に「混合物」とい
うことがある)を添加することにより解決される。
反応において、一般式: F(CF2O)lCOF [I] F(CF2O)mCF2COF [II] F(CF2O)nOCF2COF [III] (式中l、m、nはそれぞれ1〜50の整数である)で示さ
れる化合物よりなる群より選択される少なくとも一種の
化合物を含んでなる混合物(以下、単に「混合物」とい
うことがある)を添加することにより解決される。
【0005】上記[I][II][III]式において、l、
m、nが1より大きい場合、CF2O繰返し単位間の結
合は頭−尾結合の外に、頭−頭結合および/または尾−
尾結合をも含み、頭−尾結合の場合はエーテル結合を形
成し、頭−頭結合、尾−尾結合の場合には過酸化エーテ
ル結合を形成する。上記混合物中における過酸化エーテ
ル結合の割合は、ヨード滴定法で測定した活性酸素濃度
が0.01〜25重量%であること、すなわち混合物中
の1〜100個の[I]、[II]または[III]分子に1
個の過酸化エーテル結合が存在することが好ましい。混
合物がこの条件を充たす限り、混合物中の[I]、[I
I]、[III]化合物の割合については制限がない。な
お、本明細書中において上記「混合物」には、[I]、
[II]、[III]のいずれか2成分または1成分のみよ
りなる場合を含むものとする。
m、nが1より大きい場合、CF2O繰返し単位間の結
合は頭−尾結合の外に、頭−頭結合および/または尾−
尾結合をも含み、頭−尾結合の場合はエーテル結合を形
成し、頭−頭結合、尾−尾結合の場合には過酸化エーテ
ル結合を形成する。上記混合物中における過酸化エーテ
ル結合の割合は、ヨード滴定法で測定した活性酸素濃度
が0.01〜25重量%であること、すなわち混合物中
の1〜100個の[I]、[II]または[III]分子に1
個の過酸化エーテル結合が存在することが好ましい。混
合物がこの条件を充たす限り、混合物中の[I]、[I
I]、[III]化合物の割合については制限がない。な
お、本明細書中において上記「混合物」には、[I]、
[II]、[III]のいずれか2成分または1成分のみよ
りなる場合を含むものとする。
【0006】上記[I]、[II]、[III]の化合物は、
ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化してヘキサフルオ
ロプロペンオキシドを製造する際に副生するフッ化カル
ボニルが重合して生成するものである。したがって、こ
の方法によってあらかじめ合成したものを用いてもよい
が、ヘキサフルオロプロペンオキシド製造時の該酸化反
応終了後、反応混合物から目的物であるヘキサフルオロ
プロペンオキシド、未反応物のヘキサフルオロプロペン
を分離したものを用いてもよい。このようにすれば、一
回の反応によって常に次回の反応に用いる[I]、[I
I]、[III]の混合物を得ることができ、同混合物を
循環して用いることができる。
ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化してヘキサフルオ
ロプロペンオキシドを製造する際に副生するフッ化カル
ボニルが重合して生成するものである。したがって、こ
の方法によってあらかじめ合成したものを用いてもよい
が、ヘキサフルオロプロペンオキシド製造時の該酸化反
応終了後、反応混合物から目的物であるヘキサフルオロ
プロペンオキシド、未反応物のヘキサフルオロプロペン
を分離したものを用いてもよい。このようにすれば、一
回の反応によって常に次回の反応に用いる[I]、[I
I]、[III]の混合物を得ることができ、同混合物を
循環して用いることができる。
【0007】本発明においては、溶媒として不活性溶
媒、例えばパーフルオロジメチルシクロブタン、フルオ
ロトリクロロメタン、1,1,2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタン、四塩化炭素、一般式Cl(CF2
CFCl)nCl(n=2〜30)で示される化合物等を用
いることができる。また、上記[I]、[II]、[III]
の化合物の混合物を溶媒として用いることも可能であ
る。
媒、例えばパーフルオロジメチルシクロブタン、フルオ
ロトリクロロメタン、1,1,2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタン、四塩化炭素、一般式Cl(CF2
CFCl)nCl(n=2〜30)で示される化合物等を用
いることができる。また、上記[I]、[II]、[III]
の化合物の混合物を溶媒として用いることも可能であ
る。
【0008】本発明における該混合物の使用量は全溶媒
中で、ヨード滴定で測定した活性酸素濃度が0.01重
量%以上となるようにすることが望ましい。また、不溶
性溶媒を使用する場合には、該混合物が溶媒の2重量%
以上あることが望ましい。
中で、ヨード滴定で測定した活性酸素濃度が0.01重
量%以上となるようにすることが望ましい。また、不溶
性溶媒を使用する場合には、該混合物が溶媒の2重量%
以上あることが望ましい。
【0009】本反応の反応方法は、回分式でも密閉容器
中で連続式でも行うことができる。液の撹拌、および加
熱できる金属製オートクレーブが好適である。一般的に
はオートクレーブに[I][II][III]を含む溶媒を容
量の30〜50%仕込み、ヘキサフルオロプロペンを溶
媒に対して1〜40%、好ましくは5〜35%仕込み、
90〜150℃に加熱する。そこに酸素ガスを分注圧
0.2〜5kg/cm2・G、好ましくは0.5〜1kg/cm2G
の分圧で分注して反応を行う。酸素のトータル仕込み量
は原料のヘキサフルオロプロペンの転化率を分析するこ
とによって決定できるが、おおよそ理論量の1.3〜1.
7倍量である。またこのときの全反応圧は溶媒種、ヘキ
サフルオロプロペン仕込み比、温度条件等によって変動
するため、特に規定はないが、一般には15〜40kg/
cm2・Gである。
中で連続式でも行うことができる。液の撹拌、および加
熱できる金属製オートクレーブが好適である。一般的に
はオートクレーブに[I][II][III]を含む溶媒を容
量の30〜50%仕込み、ヘキサフルオロプロペンを溶
媒に対して1〜40%、好ましくは5〜35%仕込み、
90〜150℃に加熱する。そこに酸素ガスを分注圧
0.2〜5kg/cm2・G、好ましくは0.5〜1kg/cm2G
の分圧で分注して反応を行う。酸素のトータル仕込み量
は原料のヘキサフルオロプロペンの転化率を分析するこ
とによって決定できるが、おおよそ理論量の1.3〜1.
7倍量である。またこのときの全反応圧は溶媒種、ヘキ
サフルオロプロペン仕込み比、温度条件等によって変動
するため、特に規定はないが、一般には15〜40kg/
cm2・Gである。
【0010】反応終了後は、温度を室温まで戻し、粗製
物をガスとして回収し、副生する酸性成分はアルカリ洗
浄することで除くことができる。さらにヘキサフルオロ
プロペンオキシドの精製は、微量同伴する不活性溶媒は
沸点差から精留法で分離可能であるし、未反応のヘキサ
フルオロプロペンは例えば臭素化を行い高沸点化するこ
とで、同様に精留により分離できる。
物をガスとして回収し、副生する酸性成分はアルカリ洗
浄することで除くことができる。さらにヘキサフルオロ
プロペンオキシドの精製は、微量同伴する不活性溶媒は
沸点差から精留法で分離可能であるし、未反応のヘキサ
フルオロプロペンは例えば臭素化を行い高沸点化するこ
とで、同様に精留により分離できる。
【0011】上述のように、本発明に用いる[I][II]
[III]化合物の混合物は循環して用いることができる
が、[I][II][III]は反応するに従って生成し蓄積
するため、本反応を回分式で行うに当たっては各回分反
応終了ごとに、また連続式で行うに当たっては一定時間
ごとに溶媒成分を分析・検量しし、蓄積量が多くなった
時点で処理操作が必要となる場合がある。 分析・検量法としてはガスクロマトグラフ法、NMR法
などが適用でき、活性酸素濃度についてはヨード滴定法
で検量することができる。処理操作としては、他の不活
性溶媒を用いる場合は蒸留操作により[I][II][II
I]の過剰な成分を分離、アルカリ洗浄で除害する方法
などが取れる。また[I][II][III]を溶媒として用
いる場合はそのまま過剰量を抜き出し、アルカリ洗浄で
除害する方法などが取れる。この除害操作により[I]
[II][III]は分解し、酸性物質を生成するため、
液性をアルカリ性に管理すると共に、水分が反応系中に
混入しないよう注意する必要がある。もし仮に水分の混
入が起これば、反応器中で酸性物質が生成し、反応器の
腐食等を引き起こす危険がある。
[III]化合物の混合物は循環して用いることができる
が、[I][II][III]は反応するに従って生成し蓄積
するため、本反応を回分式で行うに当たっては各回分反
応終了ごとに、また連続式で行うに当たっては一定時間
ごとに溶媒成分を分析・検量しし、蓄積量が多くなった
時点で処理操作が必要となる場合がある。 分析・検量法としてはガスクロマトグラフ法、NMR法
などが適用でき、活性酸素濃度についてはヨード滴定法
で検量することができる。処理操作としては、他の不活
性溶媒を用いる場合は蒸留操作により[I][II][II
I]の過剰な成分を分離、アルカリ洗浄で除害する方法
などが取れる。また[I][II][III]を溶媒として用
いる場合はそのまま過剰量を抜き出し、アルカリ洗浄で
除害する方法などが取れる。この除害操作により[I]
[II][III]は分解し、酸性物質を生成するため、
液性をアルカリ性に管理すると共に、水分が反応系中に
混入しないよう注意する必要がある。もし仮に水分の混
入が起これば、反応器中で酸性物質が生成し、反応器の
腐食等を引き起こす危険がある。
【0012】
【実施例】次に、本発明に用いる[I]、[II]、[II
I]の化合物の混合物の調製方法、および本発明のヘキ
サフルオロプロペンオキシドの製造方法の具体例を実施
例によって説明する。本発明がこれらの実施例によって
限定されるものではないことは勿論である。
I]の化合物の混合物の調製方法、および本発明のヘキ
サフルオロプロペンオキシドの製造方法の具体例を実施
例によって説明する。本発明がこれらの実施例によって
限定されるものではないことは勿論である。
【0013】実施例1 [I][II][III]化合物の調製(1) 撹拌翼、電気ヒーター、液・ガスの仕込み口、および精
製物の取出し口を備えた3Lステンレス鋼製オートクレ
ーブに溶媒としてCl(CF2CFCl)2Clを2245g仕
込み、ヘキサフルオロプロペンを1047g仕込んだ。
この混合物を400rpmにて撹拌、120℃に加熱し、
酸素ガスを分注圧1kg/cm2・Gにてヘキサフルオロプ
ロペンの転化率が94%となるまで仕込み、反応させ
た。反応後、混合物を室温まで冷却し、低沸点生成物で
あるヘキサフルオロプロペンオキシドなどをブローし、
Cl(CF2CFCl)2Cl溶媒を回収した。このとき溶媒
は2474gまで増加していた。この溶媒を19F NM
Rにより分析したところ、Cl(CF2CFCl)2Cl以外
に表1の様なシグナルが観測された。
製物の取出し口を備えた3Lステンレス鋼製オートクレ
ーブに溶媒としてCl(CF2CFCl)2Clを2245g仕
込み、ヘキサフルオロプロペンを1047g仕込んだ。
この混合物を400rpmにて撹拌、120℃に加熱し、
酸素ガスを分注圧1kg/cm2・Gにてヘキサフルオロプ
ロペンの転化率が94%となるまで仕込み、反応させ
た。反応後、混合物を室温まで冷却し、低沸点生成物で
あるヘキサフルオロプロペンオキシドなどをブローし、
Cl(CF2CFCl)2Cl溶媒を回収した。このとき溶媒
は2474gまで増加していた。この溶媒を19F NM
Rにより分析したところ、Cl(CF2CFCl)2Cl以外
に表1の様なシグナルが観測された。
【0014】
【表1】
【0015】このNMR分析結果よりCl(CF2CFC
l)2Cl溶媒中には[I][II][III]化合物の混合物が
4.15%含まれることがわかった。また表1のシグナ
ル強度比から、[I][II][III]の混合比は5.4:
3.5:0.7で、平均分子量は約330であると決定し
た。さらにこの[I][II][III]を含んだ溶媒をヨー
ド滴定法で分析したところ、0.0795重量%([I]
[II][III]基準で1.9168重量%)の活性酸素を
有していることがわかった。
l)2Cl溶媒中には[I][II][III]化合物の混合物が
4.15%含まれることがわかった。また表1のシグナ
ル強度比から、[I][II][III]の混合比は5.4:
3.5:0.7で、平均分子量は約330であると決定し
た。さらにこの[I][II][III]を含んだ溶媒をヨー
ド滴定法で分析したところ、0.0795重量%([I]
[II][III]基準で1.9168重量%)の活性酸素を
有していることがわかった。
【0016】実施例2 [I][II][III]化合物の調製(2) 実施例1で用いた3Lステンレス鋼製オートクレーブに
ヘキサフルオロプロペンを625g仕込んだ。その後4
00rpmにて撹拌、110℃に加熱し、酸素ガスを分注
圧1kg/cm2・Gにてヘキサフルオロプロペンの転化率
が98%となるまで仕込み、反応させた。反応後、混合
物を室温まで冷却し、低沸点生成物であるヘキサフルオ
ロプロペンオキシドなどをブローし、高沸点生成物を回
収した。このとき回収量は97.8gであった。この回収
物を19F NMR、13C NMRにより分析したとこ
ろ、表2、3の様なシグナルが観測された。
ヘキサフルオロプロペンを625g仕込んだ。その後4
00rpmにて撹拌、110℃に加熱し、酸素ガスを分注
圧1kg/cm2・Gにてヘキサフルオロプロペンの転化率
が98%となるまで仕込み、反応させた。反応後、混合
物を室温まで冷却し、低沸点生成物であるヘキサフルオ
ロプロペンオキシドなどをブローし、高沸点生成物を回
収した。このとき回収量は97.8gであった。この回収
物を19F NMR、13C NMRにより分析したとこ
ろ、表2、3の様なシグナルが観測された。
【0017】
【表2】
【0018】
【表3】
【0019】このNMR分析結果より回収物は[I][I
I][III]化合物の混合物であることがわかった。ま
た表2のシグナル強度比から、[I][II][III]の混
合比は5.1:3.6:1.5で、平均分子量は約355で
あると決定した。さらにこの[I][II][III]混合物
をヨード滴定法で分析したところ、1.074重量%の
活性酸素を有していることがわかった。
I][III]化合物の混合物であることがわかった。ま
た表2のシグナル強度比から、[I][II][III]の混
合比は5.1:3.6:1.5で、平均分子量は約355で
あると決定した。さらにこの[I][II][III]混合物
をヨード滴定法で分析したところ、1.074重量%の
活性酸素を有していることがわかった。
【0020】実施例3〜7 実施例1で用いた3Lステンレス鋼製オートクレーブ
に、同じ実施例1で調製した[I][II][III]化合物
を含むCl(CF2CFCl)2Cl溶媒を仕込み、この溶媒
を5バッチ繰り返し使用して反応を行った。各バッチご
との回収溶媒の組成・再仕込み量、およびヘキサフルオ
ロプロペン仕込み量は表4に示した。反応はすべて撹拌
400rpm、120℃の温度条件で、酸素は分注圧1kg
/cm2・Gにて分割仕込みし、ヘキサフルオロプロペン
の転化率が約95%となるまで反応を行った。また各バ
ッチ反応終了ごとに、[I][II][III]の生成により
回収溶媒重量は増加するため、ほぼその増加分を抜き取
り次バッチに用いた。反応結果は全バッチともに誘導期
間はなく、反応終了後の粗製ガスのガスクロマトグラフ
ィー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオキシド収率
で68.4〜71.2%であった。なお各バッチごとのデ
ータは表4に記載した。さらにこれらの粗製ガスをアル
カリ洗浄後、ドライアイス−メタノール浴にてトラップ
したところ、882.1〜906.7gのガス成分を回収
した。これを分析したところヘキサフルオロプロペンオ
キシド(92.1〜96.2%純度)と原料のヘキサフルオ
ロプロペンであった。
に、同じ実施例1で調製した[I][II][III]化合物
を含むCl(CF2CFCl)2Cl溶媒を仕込み、この溶媒
を5バッチ繰り返し使用して反応を行った。各バッチご
との回収溶媒の組成・再仕込み量、およびヘキサフルオ
ロプロペン仕込み量は表4に示した。反応はすべて撹拌
400rpm、120℃の温度条件で、酸素は分注圧1kg
/cm2・Gにて分割仕込みし、ヘキサフルオロプロペン
の転化率が約95%となるまで反応を行った。また各バ
ッチ反応終了ごとに、[I][II][III]の生成により
回収溶媒重量は増加するため、ほぼその増加分を抜き取
り次バッチに用いた。反応結果は全バッチともに誘導期
間はなく、反応終了後の粗製ガスのガスクロマトグラフ
ィー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオキシド収率
で68.4〜71.2%であった。なお各バッチごとのデ
ータは表4に記載した。さらにこれらの粗製ガスをアル
カリ洗浄後、ドライアイス−メタノール浴にてトラップ
したところ、882.1〜906.7gのガス成分を回収
した。これを分析したところヘキサフルオロプロペンオ
キシド(92.1〜96.2%純度)と原料のヘキサフルオ
ロプロペンであった。
【0021】比較例1 実施例1で用いた3Lステンレス鋼製オートクレーブ
に、[I][II][III]化合物を含まない純品のCl(C
F2CFCl)2Cl溶媒を仕込み、反応を行った。各仕込
み条件は表4に示した。反応は撹拌400rpm、120
℃の温度条件で、酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて分割
仕込みし、ヘキサフルオロプロペンの転化率が94.8
%となるまで反応を行った。反応結果は反応開始までに
2.5時間の誘導期間が必要で、反応終了後の粗製ガス
のガスクロマトグラフィー分析の結果、ヘキサフルオロ
プロペンオキシド収率で51.9%であった。なお詳し
くは表4に記載した。さらにこれらの粗製ガスをアルカ
リ洗浄後、ドライアイス−メタノール浴にてトラップし
たところ、640.2gのガス成分を回収した。これを分
析したところヘキサフルオロプロペンオキシド(91.7
%純度)と原料のヘキサフルオロプロペンであった。
に、[I][II][III]化合物を含まない純品のCl(C
F2CFCl)2Cl溶媒を仕込み、反応を行った。各仕込
み条件は表4に示した。反応は撹拌400rpm、120
℃の温度条件で、酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて分割
仕込みし、ヘキサフルオロプロペンの転化率が94.8
%となるまで反応を行った。反応結果は反応開始までに
2.5時間の誘導期間が必要で、反応終了後の粗製ガス
のガスクロマトグラフィー分析の結果、ヘキサフルオロ
プロペンオキシド収率で51.9%であった。なお詳し
くは表4に記載した。さらにこれらの粗製ガスをアルカ
リ洗浄後、ドライアイス−メタノール浴にてトラップし
たところ、640.2gのガス成分を回収した。これを分
析したところヘキサフルオロプロペンオキシド(91.7
%純度)と原料のヘキサフルオロプロペンであった。
【0022】実施例8〜10 実施例1で用いた3Lステンレス鋼製オートクレーブ
に、実施例2で調製した[I][II][III]混合物を仕
込み、これを溶媒として3バッチ繰り返し使用し、反応
を行った。各バッチごとの回収[I][II][III]混合
物量・再仕込み量、およびヘキサフルオロプロペン仕込
み量は表5に示した。反応はすべて撹拌400rpm、1
10℃の温度条件で、酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて
分割仕込みし、ヘキサフルオロプロペンの転化率が90
%以上となるまで反応を行った。また各バッチ反応終了
ごとに、新たな[I][II][III]化合物の生成により
回収混合物重量は増加するため、分析に必要な分を抜き
取り次バッチに用いた。反応結果は全バッチともに誘導
期間はなく、反応終了後の粗製ガスのガスクロマトグラ
フィー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオキシド収
率で61.0〜66.8%であった。なお詳しくは表5に
記載した。
に、実施例2で調製した[I][II][III]混合物を仕
込み、これを溶媒として3バッチ繰り返し使用し、反応
を行った。各バッチごとの回収[I][II][III]混合
物量・再仕込み量、およびヘキサフルオロプロペン仕込
み量は表5に示した。反応はすべて撹拌400rpm、1
10℃の温度条件で、酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて
分割仕込みし、ヘキサフルオロプロペンの転化率が90
%以上となるまで反応を行った。また各バッチ反応終了
ごとに、新たな[I][II][III]化合物の生成により
回収混合物重量は増加するため、分析に必要な分を抜き
取り次バッチに用いた。反応結果は全バッチともに誘導
期間はなく、反応終了後の粗製ガスのガスクロマトグラ
フィー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオキシド収
率で61.0〜66.8%であった。なお詳しくは表5に
記載した。
【0023】比較例2 実施例1で用いた3Lステンレス鋼製オートクレーブ
に、ヘキサフルオロプロペン625gを仕込み、反応を
行った。反応は撹拌400rpm、110℃の温度条件
で、酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて分割仕込みし、ヘ
キサフルオロプロペンの転化率が約98.2%となるま
で反応を行った。反応結果は反応開始までに2.0時間
の誘導期間が必要で、反応終了後の粗製ガスのガスクロ
マトグラフィー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオ
キシド収率で54.0%であった。なお詳しくは表5に
記載した。
に、ヘキサフルオロプロペン625gを仕込み、反応を
行った。反応は撹拌400rpm、110℃の温度条件
で、酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて分割仕込みし、ヘ
キサフルオロプロペンの転化率が約98.2%となるま
で反応を行った。反応結果は反応開始までに2.0時間
の誘導期間が必要で、反応終了後の粗製ガスのガスクロ
マトグラフィー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオ
キシド収率で54.0%であった。なお詳しくは表5に
記載した。
【0024】実施例11 撹拌翼、電気ヒーター、液・ガス・仕込み口、および生
成物の取出し口を備えた200mlステンレス鋼製オート
クレーブに、実施例2と同様に調製した[I][II][I
II]混合物を溶媒として151g、およびヘキサフルオ
ロプロペンを33.2g仕込み、撹拌400rpm、120
℃に加熱した。さらに酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて
分割仕込みし、ヘキサフルオロプロペンの転化率が約9
7.4%となるまで反応を行った。反応結果は誘導期間
はなく、反応終了後の粗製ガスのガスクロマトグラフィ
ー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオキシド収率で
64.8%であった。なお詳しくは表5に記載した。
成物の取出し口を備えた200mlステンレス鋼製オート
クレーブに、実施例2と同様に調製した[I][II][I
II]混合物を溶媒として151g、およびヘキサフルオ
ロプロペンを33.2g仕込み、撹拌400rpm、120
℃に加熱した。さらに酸素は分注圧1kg/cm2・Gにて
分割仕込みし、ヘキサフルオロプロペンの転化率が約9
7.4%となるまで反応を行った。反応結果は誘導期間
はなく、反応終了後の粗製ガスのガスクロマトグラフィ
ー分析の結果、ヘキサフルオロプロペンオキシド収率で
64.8%であった。なお詳しくは表5に記載した。
【0025】
【表4】
【0026】
【表5】
【0027】
【発明の効果】以上述べてきたように、本発明により、
ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化し、ヘキサフルオ
ロプロペンオキシドを製造する場合に、反応開始の誘導
期間が無くなり、反応に要する時間を短縮することがで
きると共に、ヘキサフルオロプロペンオキシドを高収率
で得ることができる。
ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化し、ヘキサフルオ
ロプロペンオキシドを製造する場合に、反応開始の誘導
期間が無くなり、反応に要する時間を短縮することがで
きると共に、ヘキサフルオロプロペンオキシドを高収率
で得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化し
てヘキサフルオロプロペンオキシドを製造する方法にお
いて、一般式: F(CF2O)lCOF [I] F(CF2O)mCF2COF [II] F(CF2O)nOCF2COF [III] (式中l、m、nはそれぞれ1〜50の整数であり、l、m、
nが1より大きい場合、CF2O繰返し単位間の結合は頭
−尾結合の外に、頭−頭結合および/または尾−尾結合
をも含む。)で示される化合物よりなる群から選択され
る少なくとも一種の化合物を含んでなる混合物を添加す
ることを特徴とするヘキサフルオロプロペンオキシドの
製造方法。 - 【請求項2】 上記混合物の、ヨード滴定法で測定した
活性酸素濃度が0.01〜25重量%であることを特徴
とする請求項1の方法。 - 【請求項3】 ヘキサフルオロプロペンを酸素で酸化し
てヘキサフルオロプロペンオキシドを製造する場合にお
いて、当該反応の副生物を添加することを特徴とするヘ
キサフルオロプロペンオキシドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26346592A JPH06107650A (ja) | 1992-10-01 | 1992-10-01 | ヘキサフルオロプロペンオキシドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26346592A JPH06107650A (ja) | 1992-10-01 | 1992-10-01 | ヘキサフルオロプロペンオキシドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06107650A true JPH06107650A (ja) | 1994-04-19 |
Family
ID=17389890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26346592A Pending JPH06107650A (ja) | 1992-10-01 | 1992-10-01 | ヘキサフルオロプロペンオキシドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06107650A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003040879A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Asahi Glass Co Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキサイドの製造方法 |
| JP2010037151A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Unimatec Co Ltd | フッ化カルボニルの製造方法 |
| WO2011122544A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | ダイキン工業株式会社 | フッ化カルボニルおよびヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法 |
| CN102731441A (zh) * | 2011-03-31 | 2012-10-17 | 大金工业株式会社 | 六氟环氧丙烷的清洗方法 |
| CN102728107A (zh) * | 2011-03-31 | 2012-10-17 | 大金工业株式会社 | 阴离子表面活性剂含有液的消泡方法和六氟环氧丙烷的清洗方法 |
| JP2013220999A (ja) * | 2012-04-13 | 2013-10-28 | Daikin Industries Ltd | 含フッ素化合物含有液の処理方法 |
| CN104557797A (zh) * | 2013-10-28 | 2015-04-29 | 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 | 一种缩短六氟丙烯环氧化反应诱导期的方法 |
| JP2024055302A (ja) * | 2022-10-07 | 2024-04-18 | ユニマテック株式会社 | ヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法および製造装置 |
-
1992
- 1992-10-01 JP JP26346592A patent/JPH06107650A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003040879A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Asahi Glass Co Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキサイドの製造方法 |
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| WO2011122544A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | ダイキン工業株式会社 | フッ化カルボニルおよびヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法 |
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| CN102728107A (zh) * | 2011-03-31 | 2012-10-17 | 大金工业株式会社 | 阴离子表面活性剂含有液的消泡方法和六氟环氧丙烷的清洗方法 |
| JP2012211115A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Daikin Industries Ltd | ヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法 |
| JP2013220999A (ja) * | 2012-04-13 | 2013-10-28 | Daikin Industries Ltd | 含フッ素化合物含有液の処理方法 |
| CN104557797A (zh) * | 2013-10-28 | 2015-04-29 | 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 | 一种缩短六氟丙烯环氧化反应诱导期的方法 |
| JP2024055302A (ja) * | 2022-10-07 | 2024-04-18 | ユニマテック株式会社 | ヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法および製造装置 |
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