JPH0368533A - ジアリールケトンの製造方法 - Google Patents
ジアリールケトンの製造方法Info
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- JPH0368533A JPH0368533A JP1204897A JP20489789A JPH0368533A JP H0368533 A JPH0368533 A JP H0368533A JP 1204897 A JP1204897 A JP 1204897A JP 20489789 A JP20489789 A JP 20489789A JP H0368533 A JPH0368533 A JP H0368533A
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- difluorosilane
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- ethyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式（１）
％式％（１）
（式中、ＡｒおよびＡｒ’は置換又は未置換の芳香族基
あるいは複素芳香族基を表す）で表されるジアリールケ
トンの製造方法に関する。
あるいは複素芳香族基を表す）で表されるジアリールケ
トンの製造方法に関する。
本発明の方法によれば、医薬品〔“医薬品合成マニュア
ルｗ巻１〜４．シーエムシー、 （１９８Ｂ））および
農薬〔“新農薬原体製造マニュアル“巻１〜３．シーエ
ムシー（１９８９） ）の合成中間体として有用である
ジアリールケトンを種々合威できる。
ルｗ巻１〜４．シーエムシー、 （１９８Ｂ））および
農薬〔“新農薬原体製造マニュアル“巻１〜３．シーエ
ムシー（１９８９） ）の合成中間体として有用である
ジアリールケトンを種々合威できる。
また、ステロイド等の高選択的酸化剤として有用な多官
能性ジアリールケトンを効率的に合成することができる
（ＣｈｅｃＳｏｃ、Ｒｅｖ、、１．５５３（１９７２）
３さらに、光重合開始剤および色素畑感剤として工業的
に重要な種々のジアリールケトンを合成することができ
る〔“新・充機能性高分子の応用”シーエムシー（１９
８８）） 。
能性ジアリールケトンを効率的に合成することができる
（ＣｈｅｃＳｏｃ、Ｒｅｖ、、１．５５３（１９７２）
３さらに、光重合開始剤および色素畑感剤として工業的
に重要な種々のジアリールケトンを合成することができ
る〔“新・充機能性高分子の応用”シーエムシー（１９
８８）） 。
従来、ジアリールケトンの合成法としては、■塩化デア
ルミニウム存在下芳香族炭化水素と芳香族カルボン酸化
物を反応させるＦｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆ ｔｓ反応〔
Ｆｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ ａｎｄ Ｒｅ１ａｔｅ
ｄ ＲｅａｃｔｉｏｎｓＶｏｌ ＩＩＩ、 Ｃｈａｐ
３１．Ｉｎｔｅｒｓｃｌｅｎｓｅ、Ｎｅｗ Ｗｏｒｋ（
１９６４）；”Ｐｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ Ｃｈｅ
＋ｗｉｓｔｒｙ’ Ｗｌｌｅｙ−１ｎｔｅｒｓｃｉｅｎ
ｃｅ。
ルミニウム存在下芳香族炭化水素と芳香族カルボン酸化
物を反応させるＦｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆ ｔｓ反応〔
Ｆｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ ａｎｄ Ｒｅ１ａｔｅ
ｄ ＲｅａｃｔｉｏｎｓＶｏｌ ＩＩＩ、 Ｃｈａｐ
３１．Ｉｎｔｅｒｓｃｌｅｎｓｅ、Ｎｅｗ Ｗｏｒｋ（
１９６４）；”Ｐｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ Ｃｈｅ
＋ｗｉｓｔｒｙ’ Ｗｌｌｅｙ−１ｎｔｅｒｓｃｉｅｎ
ｃｅ。
Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９７３）） 、芳香族炭化水素を
四塩化炭素に縮合させる方法ｃ″Ｏｒｇａｎｉｃ ５ｙ
ｔｈｅｓｉｓ’ Ｃｏ１１゜Ｖｏｌ、 １．９５（１
９４８） ） 、■芳香族カルボン酸エステルを加熱す
るＦｒ１ｅｓ転移反応Ｃ″Ｆｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆ
ｔｓａｎｄ Ｒｅ１ａｔｅｄ Ｒｅａｃｔｉｏｎ”
Ｖｏｌ、 ＩＩＩ、Ｃｈａｐ３３゜Ｉｎｔｅｒｓｃｌｅ
ｎｃｅ、 Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９６４）） 、■芳香
族マグネシウム、カドミウム化合物と芳香族化合物の縮
合反応（”Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇ
ｒｏｕｐ ＰｒｅｐａｒａｔｉｏｎＶｏｌ Ｉ ＩＣ
ｈａｐ ８．Ａｃａｄｅｍｉｃ、Ｎｅｎ Ｙｏｒｋ（１
９８３））、■遷移金属触媒および一酸化炭素存在下、
芳香族スズ化合物と芳香族ハロゲン化物を反応させる方
法（Ｃｈｅｍ、Ａｂｓｔｒ、 、９５．１１４９８０ｍ
）が開示されている。
四塩化炭素に縮合させる方法ｃ″Ｏｒｇａｎｉｃ ５ｙ
ｔｈｅｓｉｓ’ Ｃｏ１１゜Ｖｏｌ、 １．９５（１
９４８） ） 、■芳香族カルボン酸エステルを加熱す
るＦｒ１ｅｓ転移反応Ｃ″Ｆｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒａｆ
ｔｓａｎｄ Ｒｅ１ａｔｅｄ Ｒｅａｃｔｉｏｎ”
Ｖｏｌ、 ＩＩＩ、Ｃｈａｐ３３゜Ｉｎｔｅｒｓｃｌｅ
ｎｃｅ、 Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９６４）） 、■芳香
族マグネシウム、カドミウム化合物と芳香族化合物の縮
合反応（”Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇ
ｒｏｕｐ ＰｒｅｐａｒａｔｉｏｎＶｏｌ Ｉ ＩＣ
ｈａｐ ８．Ａｃａｄｅｍｉｃ、Ｎｅｎ Ｙｏｒｋ（１
９８３））、■遷移金属触媒および一酸化炭素存在下、
芳香族スズ化合物と芳香族ハロゲン化物を反応させる方
法（Ｃｈｅｍ、Ａｂｓｔｒ、 、９５．１１４９８０ｍ
）が開示されている。
これらの方法のう・ち、■、■の方法では用いることが
できる基質が限定されるうえ、反応の選択性が低い、■
の方法は非対称ジアリールケトンを合成するのが困難で
ある。また、■の方法は活性な有機金属化合物を用いる
ため官能基をもつ基質を用いる際には保護の必要がある
。■の方法は用いることができる基質が著しく限定され
る。
できる基質が限定されるうえ、反応の選択性が低い、■
の方法は非対称ジアリールケトンを合成するのが困難で
ある。また、■の方法は活性な有機金属化合物を用いる
ため官能基をもつ基質を用いる際には保護の必要がある
。■の方法は用いることができる基質が著しく限定され
る。
以上のように、従来の製造方法はいずれも使用できる化
合物が限定されるうえ、多くの官能基を有するジアリー
ルケトンを工業的に製造するうえで実用的であるとは言
い難い。
合物が限定されるうえ、多くの官能基を有するジアリー
ルケトンを工業的に製造するうえで実用的であるとは言
い難い。
本発明者らはかかる欠点を除き、官能基を有するジアリ
ールケトンの工業的に容易な製造方法につき検討を加え
た結果、−数式（ＩＩ）Ａｒ−５ＩＲ−Ｘｓ−−（ＩＴ
） （式中、Ａｒは置換又は未置換の芳香族基あるいは複素
芳香族基を表し、Ｒはアルキル基又は上記Ａｒ基を表し
、Ｘはハロゲン又はアルコキシ基を表し、細は０．１．
２．３のいずれかを表す）で表されるシリル基置換芳香
族化合物と一般式（Ｉ［Ｉ）Ｙ−Ａｒ・
（Ｉ［Ｉ）（式中、Ａｒ’は置換又は未置換の
芳香族基あるいは複素芳香族基を表し、Ｙは脱離基を表
す）で表される芳香族化合物とを第■族遷移金属触媒、
酸化炭素およびフン化物イオン源共存下で反応させるこ
とにより、−数式（１） ％式％（１） （式中、ＡｒおよびＡｒ’は前記と同一の意味を表す）
で表されるジアリールケトンが得られることを見出し本
発明を完成したものである。
ールケトンの工業的に容易な製造方法につき検討を加え
た結果、−数式（ＩＩ）Ａｒ−５ＩＲ−Ｘｓ−−（ＩＴ
） （式中、Ａｒは置換又は未置換の芳香族基あるいは複素
芳香族基を表し、Ｒはアルキル基又は上記Ａｒ基を表し
、Ｘはハロゲン又はアルコキシ基を表し、細は０．１．
２．３のいずれかを表す）で表されるシリル基置換芳香
族化合物と一般式（Ｉ［Ｉ）Ｙ−Ａｒ・
（Ｉ［Ｉ）（式中、Ａｒ’は置換又は未置換の
芳香族基あるいは複素芳香族基を表し、Ｙは脱離基を表
す）で表される芳香族化合物とを第■族遷移金属触媒、
酸化炭素およびフン化物イオン源共存下で反応させるこ
とにより、−数式（１） ％式％（１） （式中、ＡｒおよびＡｒ’は前記と同一の意味を表す）
で表されるジアリールケトンが得られることを見出し本
発明を完成したものである。
本発明の原料である前記−数式（ｆｒ）で表されるシリ
ル基置換芳香族化合物は■種々の芳香族金属化合物とク
ロロシランとを反応させる方法（Ｓｙｎｔｈｅｓｌｇ、
、８４１（１９７９））■パラジウム触媒存在下、ジシ
ランとハロゲン化アリールを反応させる方法（Ｊ、Ｏｒ
ｇａｎｏｍｅｔ、Ｃｈｅｍ、、−１２８，４０９（１９
７７））により容易に合成できるうえに、種々の構造の
ものが工業的に入手容易である。
ル基置換芳香族化合物は■種々の芳香族金属化合物とク
ロロシランとを反応させる方法（Ｓｙｎｔｈｅｓｌｇ、
、８４１（１９７９））■パラジウム触媒存在下、ジシ
ランとハロゲン化アリールを反応させる方法（Ｊ、Ｏｒ
ｇａｎｏｍｅｔ、Ｃｈｅｍ、、−１２８，４０９（１９
７７））により容易に合成できるうえに、種々の構造の
ものが工業的に入手容易である。
用いることができるシリル基置換芳香族化合物としては
、例えば３〜フルオロフエニル（メチル〉ジフルオロシ
ラン、４−フルオロフェニル（メチル）ジフルオロシラ
ン、４−ブロモフェニル（メチル）ジフルオロシラン、
３−ブロモフェニル（ジメチル）フルオロシラン、３−
クロロフェニル（メチル）ジフルオロシラン、ビス（３
−クロロフェニル）ジフルオロシラン、３−メトキシフ
ェニル（エチル）ジフルオロシラン、４−メトキシフェ
ニル（エチル）ジフルオロシラン、３−トリフルオロメ
チルフェニル（エチル）ジフルオロシラン、４−トリフ
ルオロメチル（エチル〉ジフルオロシラン、４−トリフ
ルオロメチルフェニル（プロピル）ジフルオロシラン、
３−メチルフェニル（エチル）ジフルオロシラン、４−
メチルフェニル（エチル）ジフルオロシラン、２−メチ
ルフェニル（プロピル）ジフルオロシラン、３−シアノ
フェニル（エチル）ジフルオロシラン、２−メトキシ力
ルボニル（エチル）ジフルオロシラ、ン、３−カルボキ
シフェニル（エチル）ジフルオロシラン、フェニル（エ
チル〉ジフルオロシラン、フェニル（プロピル）ジフル
オロシラン、フェニル（メチル）ジフルオロシラン、フ
ェニル（トリメチル）シラン、フェニル（トリフルオロ
）シラン、フェニル（トリクロロ）シラン、フェニル（
メチル）ジクロロシラン、フェニル（トリエチル）シラ
ン、ｌ−ナフチル（トリメチル）シラン、１−ナフチル
（エチル）ジフルオロシラン、２−ナフチル（エチル）
ジフルオロシラン、２−チエニル（エチル）ジフルオロ
シラン、２−チエニル（メチル）ジフルオロシラン、２
−チエニル（トリメチル）シラン、２−チエニル（トリ
フルオロ〉シラン、２−チエニル（トリクロロ）シラン
、３−チエニル（エチル）ジフルオロシラン、２−ピリ
ジル（エチル）ジフルオロシラン、２−ピリジル（メチ
ル）ジフルオロシラン、３−ピリジル（エチル）ジフル
オロシラン、キノリン−２−イル（エチル）ジフルオロ
シラン、キノリン−３−イル（エチル）ジフルオロシラ
ン、２−フリル（エチル）ジフルオロシラン、２−フリ
ル（プロピル）ジフルオロシラン、フェニル（メチル〉
ジメトキシシラン、１−ナフチル（エチル〉ジメトキシ
シラン、２−チエニル（エチル）ジェトキシシラン、２
−チエニル〈メチル）ジメトキシシラン、２−ピリジル
（エチル）ジェトキシシランを挙げることができる。
、例えば３〜フルオロフエニル（メチル〉ジフルオロシ
ラン、４−フルオロフェニル（メチル）ジフルオロシラ
ン、４−ブロモフェニル（メチル）ジフルオロシラン、
３−ブロモフェニル（ジメチル）フルオロシラン、３−
クロロフェニル（メチル）ジフルオロシラン、ビス（３
−クロロフェニル）ジフルオロシラン、３−メトキシフ
ェニル（エチル）ジフルオロシラン、４−メトキシフェ
ニル（エチル）ジフルオロシラン、３−トリフルオロメ
チルフェニル（エチル）ジフルオロシラン、４−トリフ
ルオロメチル（エチル〉ジフルオロシラン、４−トリフ
ルオロメチルフェニル（プロピル）ジフルオロシラン、
３−メチルフェニル（エチル）ジフルオロシラン、４−
メチルフェニル（エチル）ジフルオロシラン、２−メチ
ルフェニル（プロピル）ジフルオロシラン、３−シアノ
フェニル（エチル）ジフルオロシラン、２−メトキシ力
ルボニル（エチル）ジフルオロシラ、ン、３−カルボキ
シフェニル（エチル）ジフルオロシラン、フェニル（エ
チル〉ジフルオロシラン、フェニル（プロピル）ジフル
オロシラン、フェニル（メチル）ジフルオロシラン、フ
ェニル（トリメチル）シラン、フェニル（トリフルオロ
）シラン、フェニル（トリクロロ）シラン、フェニル（
メチル）ジクロロシラン、フェニル（トリエチル）シラ
ン、ｌ−ナフチル（トリメチル）シラン、１−ナフチル
（エチル）ジフルオロシラン、２−ナフチル（エチル）
ジフルオロシラン、２−チエニル（エチル）ジフルオロ
シラン、２−チエニル（メチル）ジフルオロシラン、２
−チエニル（トリメチル）シラン、２−チエニル（トリ
フルオロ〉シラン、２−チエニル（トリクロロ）シラン
、３−チエニル（エチル）ジフルオロシラン、２−ピリ
ジル（エチル）ジフルオロシラン、２−ピリジル（メチ
ル）ジフルオロシラン、３−ピリジル（エチル）ジフル
オロシラン、キノリン−２−イル（エチル）ジフルオロ
シラン、キノリン−３−イル（エチル）ジフルオロシラ
ン、２−フリル（エチル）ジフルオロシラン、２−フリ
ル（プロピル）ジフルオロシラン、フェニル（メチル〉
ジメトキシシラン、１−ナフチル（エチル〉ジメトキシ
シラン、２−チエニル（エチル）ジェトキシシラン、２
−チエニル〈メチル）ジメトキシシラン、２−ピリジル
（エチル）ジェトキシシランを挙げることができる。
他方の原料である前記−数式（Ｉ［ｌ）で表される芳香
族化合物は工業的に入手容易な化合物であり、脱ｆｉｔ
基を含めて例示すると、４−ヨードアニソール、４−ヨ
ードエトキシベンゼン、４−エトキシフェニルトリフル
オロアセタート、２−ヨードアニソール、２−ブロモア
ニソール、２−エトキシフェニルトリフルオロアセター
ト、４−クロロアニソール、４−ブロモアニソール、２
−エトキシフェニル（フェニル）スルフィド、２−ヨー
ドベンジルアルコール、３−ヨードベンジルアルコール
、３−ヒドロキシメチル（フェニル）スルフィド、４−
ヨードベンジルアルコール、４−ヒドロキシメチル（フ
ェニル）スルフィド、２−ブロモベンジルアルコール、
３−ブロモベンジルアルコール、２−クロロベンジルア
ルコール、（２−１０ロフエニル）ジメチルホスフェー
ト、フエニルジエチルホスフェート、３−ヨードフェニ
ル酢酸、３−ヨードフェニル酢酸エチル、酢酸３−ヨー
ドベンジル、酢＃４−ヨードベンジル、酢ａ２３−フロ
モベンジル、酢酸４−ブロモベンジル、１−ナフチル（
メチル）スルフィド、ｌ−ナフチル（フェニル）スルフ
ィド、フェニルトリフラート、ｌ−ベンジルトリフラー
ト、フェニルメジラード、フェニル（メチル）スルフィ
ド、ｌ−ベンジル（メチル）スルフィド、１−ベンジル
メジラード、２−ベンジルトリフラート、４−トリルメ
ジラード、２−シアノフェニル（フェニル）エーテル、
２−ヨードベンゾニトリル、３−ヨードベンゾニトリル
、４−ヨードベンゾニトリル、２−ブロモベンゾニトリ
ル、３−ブロモベンゾニトリル、３−シアノフェニル（
フェニル）エーテル、４−ブロモベンゾニトリル、２−
アセトキシヨードベンゼン、３−アセトキシヨードベン
ゼン、４−アセトキシヨードベンゼン、２−アセトキシ
ブロモヘンゼン、４−ヨードアセトフェノン、３−ヨー
ドアセトフェノン、２−ヨードアセトフェノン、４−ヨ
ードフェノール、３−ヨードフェノール、２−ヨードフ
ェノール、４−ヨード安息香酸メチル、３−ヨード安息
香酸メチル、２−ヨード安息香酸メチル、４−ヨードベ
ンズアルデヒド、３−ヨードベンズアルデヒド、２−ヨ
ードベンズアルデヒド、ｌヨードナフタレン、２−ヨー
ドナフタレン等を用いることができる。
族化合物は工業的に入手容易な化合物であり、脱ｆｉｔ
基を含めて例示すると、４−ヨードアニソール、４−ヨ
ードエトキシベンゼン、４−エトキシフェニルトリフル
オロアセタート、２−ヨードアニソール、２−ブロモア
ニソール、２−エトキシフェニルトリフルオロアセター
ト、４−クロロアニソール、４−ブロモアニソール、２
−エトキシフェニル（フェニル）スルフィド、２−ヨー
ドベンジルアルコール、３−ヨードベンジルアルコール
、３−ヒドロキシメチル（フェニル）スルフィド、４−
ヨードベンジルアルコール、４−ヒドロキシメチル（フ
ェニル）スルフィド、２−ブロモベンジルアルコール、
３−ブロモベンジルアルコール、２−クロロベンジルア
ルコール、（２−１０ロフエニル）ジメチルホスフェー
ト、フエニルジエチルホスフェート、３−ヨードフェニ
ル酢酸、３−ヨードフェニル酢酸エチル、酢酸３−ヨー
ドベンジル、酢＃４−ヨードベンジル、酢ａ２３−フロ
モベンジル、酢酸４−ブロモベンジル、１−ナフチル（
メチル）スルフィド、ｌ−ナフチル（フェニル）スルフ
ィド、フェニルトリフラート、ｌ−ベンジルトリフラー
ト、フェニルメジラード、フェニル（メチル）スルフィ
ド、ｌ−ベンジル（メチル）スルフィド、１−ベンジル
メジラード、２−ベンジルトリフラート、４−トリルメ
ジラード、２−シアノフェニル（フェニル）エーテル、
２−ヨードベンゾニトリル、３−ヨードベンゾニトリル
、４−ヨードベンゾニトリル、２−ブロモベンゾニトリ
ル、３−ブロモベンゾニトリル、３−シアノフェニル（
フェニル）エーテル、４−ブロモベンゾニトリル、２−
アセトキシヨードベンゼン、３−アセトキシヨードベン
ゼン、４−アセトキシヨードベンゼン、２−アセトキシ
ブロモヘンゼン、４−ヨードアセトフェノン、３−ヨー
ドアセトフェノン、２−ヨードアセトフェノン、４−ヨ
ードフェノール、３−ヨードフェノール、２−ヨードフ
ェノール、４−ヨード安息香酸メチル、３−ヨード安息
香酸メチル、２−ヨード安息香酸メチル、４−ヨードベ
ンズアルデヒド、３−ヨードベンズアルデヒド、２−ヨ
ードベンズアルデヒド、ｌヨードナフタレン、２−ヨー
ドナフタレン等を用いることができる。
本発明はフン化物イオン源存在下で行うことが必須の条
件である。フソ化物イオン源として、トリス（ジエチル
ア壽））スルホニウムジフルオロトリメチルシリカート
、（ＴＡＳＦ） 、）リス（ジメチルアミノ）スルホニ
ウムジフルオロトリメチルシリカート、トリス（ジメチ
ルアミノ）スルホニウムビフルオリド、テトラブチルア
ンモニウムフルオリド、ベンジルトリメチルアンモニウ
ムフルオリド、ペンジルトリエチルアンモニウムフルオ
リドなどのフン化オニウム塩、フッ化セシウム、フン化
ルビジウム、フン化カリウム等の金属フン化物を使用で
きる。使用量はシリル基置換芳香族化合物に対し、触媒
量ないし過剰量の範囲で使用できるが、０．８〜２．０
モル盪を使用することが望ましい。
件である。フソ化物イオン源として、トリス（ジエチル
ア壽））スルホニウムジフルオロトリメチルシリカート
、（ＴＡＳＦ） 、）リス（ジメチルアミノ）スルホニ
ウムジフルオロトリメチルシリカート、トリス（ジメチ
ルアミノ）スルホニウムビフルオリド、テトラブチルア
ンモニウムフルオリド、ベンジルトリメチルアンモニウ
ムフルオリド、ペンジルトリエチルアンモニウムフルオ
リドなどのフン化オニウム塩、フッ化セシウム、フン化
ルビジウム、フン化カリウム等の金属フン化物を使用で
きる。使用量はシリル基置換芳香族化合物に対し、触媒
量ないし過剰量の範囲で使用できるが、０．８〜２．０
モル盪を使用することが望ましい。
使用する第■金属触媒としては、パラジウムテトラキス
（トリフェニルホスフィン）、パラジウムベンザルアセ
トン錯体、パラジウムジベンザルアセ）ンクロロホルム
錯体等のＰｄ（０）ＩＩ体、アリル塩化パラジウム２１
体、塩化パラジウムビス（トリフェニルホスフィン）、
ヨウ化フェニルパラジウムビス（トリフェニルホスフィ
ン）、塩化ベンジルパラジウムビス（トリフェニルホス
フィン）等のＰｄ（ＩＩ）１１体、テトラキス（トリフ
ェニルホスフィン）ニッケルなどのＮｌ （０）、塩
化ニンケルビス（トリフェニルホスフィン）などのＮ１
（ＩＩ）ＩＩ体および、テトラキス（トリフェニルホス
フィン）白金などのＰｔ（０）錯体を用いることができ
る。使用量はいわゆる触媒量用いればよい。
（トリフェニルホスフィン）、パラジウムベンザルアセ
トン錯体、パラジウムジベンザルアセ）ンクロロホルム
錯体等のＰｄ（０）ＩＩ体、アリル塩化パラジウム２１
体、塩化パラジウムビス（トリフェニルホスフィン）、
ヨウ化フェニルパラジウムビス（トリフェニルホスフィ
ン）、塩化ベンジルパラジウムビス（トリフェニルホス
フィン）等のＰｄ（ＩＩ）１１体、テトラキス（トリフ
ェニルホスフィン）ニッケルなどのＮｌ （０）、塩
化ニンケルビス（トリフェニルホスフィン）などのＮ１
（ＩＩ）ＩＩ体および、テトラキス（トリフェニルホス
フィン）白金などのＰｔ（０）錯体を用いることができ
る。使用量はいわゆる触媒量用いればよい。
本発明は一酸化炭素共存下で行うことが必須の条件であ
る。１．０〜５０気圧の一酸化炭素圧の範囲内で反応を
行うことができるが、操作の簡便な１．０〜３．０気圧
が望ましい。
る。１．０〜５０気圧の一酸化炭素圧の範囲内で反応を
行うことができるが、操作の簡便な１．０〜３．０気圧
が望ましい。
本発明は溶媒中で行うことか望ましく、特に、非プロト
ン性極性溶媒中で行うことが、反応効率の観点から好ま
しい０例えげ、ジメチルホルムア稟ド、ジメチルスルホ
キシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチルペル
ヒドロピリミジン２−オン、ヘキサメヂルリン酸トリア
旦ド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−
ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）を単独、あるいは
混合して使用することができる。反応は、５０℃〜２０
０℃の範囲で行うことができるが、操作の簡便な５０〜
１２０℃が望ましい。
ン性極性溶媒中で行うことが、反応効率の観点から好ま
しい０例えげ、ジメチルホルムア稟ド、ジメチルスルホ
キシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチルペル
ヒドロピリミジン２−オン、ヘキサメヂルリン酸トリア
旦ド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−
ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）を単独、あるいは
混合して使用することができる。反応は、５０℃〜２０
０℃の範囲で行うことができるが、操作の簡便な５０〜
１２０℃が望ましい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
■
１気圧の一酸化炭素雰囲気下、アリル塩化パラジウム二
量体１．８ｍｇ （０，００５ｍｍｏ ｌ） 、４ヨー
ドアセトフエノン５０ｕｔ （０，２０ｍｍｏ ＋）お
よびフン化カリウム１９ａｖ （０，３３ｍｍｏ ｌ）
のＤＭＩ （１ｍｌ）Ｒ液に４−トリル〈エチル）シ
フＪＬｚオロシラン５６ｗ （０，３０ｍｍｏ Ｉ）え
、１００℃で３時間攪拌した０反応溶液をムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル、ヘキサン：酢酸エチル−１０：
１）に通し、溶媒を除去した。
量体１．８ｍｇ （０，００５ｍｍｏ ｌ） 、４ヨー
ドアセトフエノン５０ｕｔ （０，２０ｍｍｏ ＋）お
よびフン化カリウム１９ａｖ （０，３３ｍｍｏ ｌ）
のＤＭＩ （１ｍｌ）Ｒ液に４−トリル〈エチル）シ
フＪＬｚオロシラン５６ｗ （０，３０ｍｍｏ Ｉ）え
、１００℃で３時間攪拌した０反応溶液をムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル、ヘキサン：酢酸エチル−１０：
１）に通し、溶媒を除去した。
得られた粗生成物をさらにカラムクロマトグラフィー（
シリカゲル５ヘキサン：酢酸エチル−１０：ｌ）により
精製し、４−アセチル−４′−メチルベンゾフェノン４
３■を得た。収率９１％。
シリカゲル５ヘキサン：酢酸エチル−１０：ｌ）により
精製し、４−アセチル−４′−メチルベンゾフェノン４
３■を得た。収率９１％。
■−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ） ： δ２．４５（Ｓ、３
１１）、２゜６３（Ｓ、３１（）７．２８（ｄ、Ｊ−７
，５Ｈｚ、２１１）、７．７０（ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ、
２Ｈ）７．８０（ｄ、Ｊ＝８．０１１ｚ、２１１）、８
．０４（ｄ、Ｊ−８，０Ｈｚ、ＩＩ）。
１１）、２゜６３（Ｓ、３１（）７．２８（ｄ、Ｊ−７
，５Ｈｚ、２１１）、７．７０（ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ、
２Ｈ）７．８０（ｄ、Ｊ＝８．０１１ｚ、２１１）、８
．０４（ｄ、Ｊ−８，０Ｈｚ、ＩＩ）。
ｒＲ（Ｒ１１ｒ） ：１（ｉ９０．１６４５．１６０５
．１２９０，１２６５，９３０，８６０゜８３０．７６
０ロー 実施例２ 実施例１と同様な実験手順に従い、フン化カリウム３５
■（０，６０ｍｍｏ ｌ）およびアリル塩化パラジウム
１．８ｗ （０，００５ｍｍｏ ｌ）共存下、３−メト
キシフェニル（プロピル）ジフルオロシラン６５ｗ （
０，３０ｍｍｏ Ｉ）および３−ヨードベンズアルデヒ
ド４６＋ｗ （０，２０ｍｍｏ Ｉ）を反応させ、３−
ホルミル−３′−メトキシベンゾフェノン３８ａ＋ｒを
得た。収率８０％。
．１２９０，１２６５，９３０，８６０゜８３０．７６
０ロー 実施例２ 実施例１と同様な実験手順に従い、フン化カリウム３５
■（０，６０ｍｍｏ ｌ）およびアリル塩化パラジウム
１．８ｗ （０，００５ｍｍｏ ｌ）共存下、３−メト
キシフェニル（プロピル）ジフルオロシラン６５ｗ （
０，３０ｍｍｏ Ｉ）および３−ヨードベンズアルデヒ
ド４６＋ｗ （０，２０ｍｍｏ Ｉ）を反応させ、３−
ホルミル−３′−メトキシベンゾフェノン３８ａ＋ｒを
得た。収率８０％。
’Ｈ−ＮＭＩＩ（ＣＤＣ１１） ： δ３．９２（Ｓ
、３Ｂ）、７．０４−７．８０（ａｎ、５１１） 、８
．００−８．７３（ｍ、３Ｈ） 、 １０．０８（Ｓ、
ｌ１ｌ） 。
、３Ｂ）、７．０４−７．８０（ａｎ、５１１） 、８
．００−８．７３（ｍ、３Ｈ） 、 １０．０８（Ｓ、
ｌ１ｌ） 。
ＩＲ（ｎｅａｔ） ：３１００．２８５０．２７５０，
１７００．１６６０，１２９０゜１２４５、１０４０．
８００，７４０国−１実施例３ １２６０．１０３５．７８０，７４５ｃ＊−’実 施例４ Ｓｔ（［！ｔ）ｈ フン化カリウム３５■（０，６０ｍｍ ｏ ｌ ） の
ｅｓ。
１７００．１６６０，１２９０゜１２４５、１０４０．
８００，７４０国−１実施例３ １２６０．１０３５．７８０，７４５ｃ＊−’実 施例４ Ｓｔ（［！ｔ）ｈ フン化カリウム３５■（０，６０ｍｍ ｏ ｌ ） の
ｅｓ。
びアリル塩化パラジウムニ量体１．８■（０，００５ｍ
ｍｏ＋）共存下、実施例１と同様な実験手順で３−メト
キシフェニル（エチル）ジフルオロシラン６５ｗ （０
，３０ｍｍｏ ｌ）と１−ヨードナフタレン５１ｗ （
０，２０ｍｍｏ ＋）を反応させ、３−メトキシフェニ
ルｌ−ナフチルケトン３５ｑｒを得た。収率６７％。
ｍｏ＋）共存下、実施例１と同様な実験手順で３−メト
キシフェニル（エチル）ジフルオロシラン６５ｗ （０
，３０ｍｍｏ ｌ）と１−ヨードナフタレン５１ｗ （
０，２０ｍｍｏ ＋）を反応させ、３−メトキシフェニ
ルｌ−ナフチルケトン３５ｑｒを得た。収率６７％。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＯＣｌツ）： δ３．８０（Ｓ、３ｔ
ｌ）、７．０５−７．７７（ｍ。
ｌ）、７．０５−７．７７（ｍ。
８！ｌ）、７．８０−８．２５（ｍ、３Ｈ）ＩＲ（ｎｅ
ａｔ） ：３１００，２９５０．１６６’０，１５９０
．１５８５，１２８０゜フン化カリウム３５■（０，６
０ｍｍ ｏ ｌ ）およびアリル塩化パラジウムニ量体
１．８■（０，００５ｍｍｏｌ）共存下、実施例１と同
様な実験手順でフェニル（エチル）ジフルオロシラン５
２ｇ（０，３０ｍｍｏｌ）および４−ヨードアセトフェ
ノン４６■（０，２０ｍｍｏ Ｉ）を反応させ、４シア
ノベンゾフエノン２５■を得た。収率６０％。
ａｔ） ：３１００，２９５０．１６６’０，１５９０
．１５８５，１２８０゜フン化カリウム３５■（０，６
０ｍｍ ｏ ｌ ）およびアリル塩化パラジウムニ量体
１．８■（０，００５ｍｍｏｌ）共存下、実施例１と同
様な実験手順でフェニル（エチル）ジフルオロシラン５
２ｇ（０，３０ｍｍｏｌ）および４−ヨードアセトフェ
ノン４６■（０，２０ｍｍｏ Ｉ）を反応させ、４シア
ノベンゾフエノン２５■を得た。収率６０％。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ） ： δ７．２０−８．
００（ｍ、９Ｈ）。
００（ｍ、９Ｈ）。
ＩＲ（ＫＢｒ） ：２２５０，１６５０，１６００，１
３２０．１２８０．８５８８００７４０．６９５．６８
０ｃｍ−’ ＩＲ（ＫＢｒ）：３１００．２８５０．１７００，１６
２０．１４１０．１３１０゜１２００．１１２０，１０
５５，８１０，７３０，７２０ｃｍ−’実施例６ フン化カリウム３５＊ （０，６０ｍｍｏ ＋）および
アリル塩化パラジウムニ憤体１．８■（０，００５ｍｍ
ｏｌ）共存下、実施例１と同様な実験手順で２−チエニ
ル（エチル）ジフルオロシラン５３■（０，３０ｍｍｏ
Ｉ）および３−ヨードベンズアルデヒド４６ｍ （０
，２０ｍｍｏ ＋）を反応させて、３−ホルくルフェニ
ルー２−チエニルケトン３１■を得た。収率７２％。
３２０．１２８０．８５８８００７４０．６９５．６８
０ｃｍ−’ ＩＲ（ＫＢｒ）：３１００．２８５０．１７００，１６
２０．１４１０．１３１０゜１２００．１１２０，１０
５５，８１０，７３０，７２０ｃｍ−’実施例６ フン化カリウム３５＊ （０，６０ｍｍｏ ＋）および
アリル塩化パラジウムニ憤体１．８■（０，００５ｍｍ
ｏｌ）共存下、実施例１と同様な実験手順で２−チエニ
ル（エチル）ジフルオロシラン５３■（０，３０ｍｍｏ
Ｉ）および３−ヨードベンズアルデヒド４６ｍ （０
，２０ｍｍｏ ＋）を反応させて、３−ホルくルフェニ
ルー２−チエニルケトン３１■を得た。収率７２％。
Ｈ４ＭＲ（ＣＤＣＩｓ） ： δ６．５８−８．
６３（ｍ、７Ｈ）、１０．２０（Ｓ、 ＩＨ） 。
６３（ｍ、７Ｈ）、１０．２０（Ｓ、 ＩＨ） 。
フン化カリウム３５ｇ （０，６０ｍｍｏ ｌ）および
アリル塩化パラジウムニ量体１．８■（０，００５ｍｍ
ｏｌ）共存下、実施例１と同様な実験手順で２−チエニ
ル（エチル）ジフルオロシラン５３■（０，３０ｍｍｏ
ｌ）および３−ヨー）’キノリン５１ｗ （０，２０ｍ
ｍｏ ｌ）を反応させ、キ／ ＩＪ ７３−イル−２−
チエニルケトン３７■を得た。収率７８％。
アリル塩化パラジウムニ量体１．８■（０，００５ｍｍ
ｏｌ）共存下、実施例１と同様な実験手順で２−チエニ
ル（エチル）ジフルオロシラン５３■（０，３０ｍｍｏ
ｌ）および３−ヨー）’キノリン５１ｗ （０，２０ｍ
ｍｏ ｌ）を反応させ、キ／ ＩＪ ７３−イル−２−
チエニルケトン３７■を得た。収率７８％。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｈ） ： δ７．１Ｂ（園、Ｉ
Ｈ）、７．５０−８．０５（ｍ。
Ｈ）、７．５０−８．０５（ｍ。
５Ｂ）、８．２０（鵬、１Ｍ）、８．６５（ｍ、ＬＨ）
、９．３５（鳳、ＩＩＩ）。
、９．３５（鳳、ＩＩＩ）。
［Ｒ（にＢｒ）：３０５０，１６３０，１５９０，１４
１０．１２９０，１２５０゜１０６０．８００，７５３
ｃｍ−’ ５Ｈ）、７．８４（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、２Ｈ）、８．１５
（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、２Ｈ）。
１０．１２９０，１２５０゜１０６０．８００，７５３
ｃｍ−’ ５Ｈ）、７．８４（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、２Ｈ）、８．１５
（ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、２Ｈ）。
／ ＩＲ（ＫＢｒ） ：３０００．２９５０，１７１
０，１６４０，１４３５，１２７５゜１１００７７０．
７１０．６９０ｃｍ−’実施例７ 実施例８ Ｓｔ（［！ｔ）Ｆ。
０，１６４０，１４３５，１２７５゜１１００７７０．
７１０．６９０ｃｍ−’実施例７ 実施例８ Ｓｔ（［！ｔ）Ｆ。
リ
フン化カリウム３５ｓｉｒ （０，６０ｍｍｏ ｌ）お
よびアリル塩化パラジウム二量体１．８■（０，００５
ｍｍｏｌ）共存下、実施例１と同様にフェニル（エチル
）ジフルオロシラン５２■（０，３０ｍｍｏ ｌ）およ
び４−ヨード安息香酸メチル５２ｗ （０，２０ｍｍｏ
Ｉ）を反応させ４−ベンゾイル安息香酸メチル２９曙
を得た。収率６１％。
よびアリル塩化パラジウム二量体１．８■（０，００５
ｍｍｏｌ）共存下、実施例１と同様にフェニル（エチル
）ジフルオロシラン５２■（０，３０ｍｍｏ ｌ）およ
び４−ヨード安息香酸メチル５２ｗ （０，２０ｍｍｏ
Ｉ）を反応させ４−ベンゾイル安息香酸メチル２９曙
を得た。収率６１％。
’４１−ＮＭＲ（ＣｎＣ１ｓ） ： δ３．９０（Ｓ
、３Ｈ）、７．３０−７．７９（ｓ。
、３Ｈ）、７．３０−７．７９（ｓ。
７）化カリウム１９ｗ （０，３０ｍｍｏ Ｉ）および
塩化ニッケルビス（トリフェニルホスフィン）６．５ｗ
（０，Ｏｌｍｍｏ ＋）共存下、実施例１と同様な実
験手順で４−トリル（エチル）ジフルオロシラン５６＊
（０，３０ｍｍｏ Ｉ）および４−ヨードアセトフェ
ノン５０ｍｇ （０，２Ｑｍｍｏ Ｉ）を反応させ、４
−アセチル−４′−メチルベンゾフエノン３１■を得た
。収率６３％、スペクトルデーで得たものと一致した。
塩化ニッケルビス（トリフェニルホスフィン）６．５ｗ
（０，Ｏｌｍｍｏ ＋）共存下、実施例１と同様な実
験手順で４−トリル（エチル）ジフルオロシラン５６＊
（０，３０ｍｍｏ Ｉ）および４−ヨードアセトフェ
ノン５０ｍｇ （０，２Ｑｍｍｏ Ｉ）を反応させ、４
−アセチル−４′−メチルベンゾフエノン３１■を得た
。収率６３％、スペクトルデーで得たものと一致した。
夕は実施例１で得たものと一致した。
実
施
例
■
Claims (1)
- （１）一般式 Ａｒ−ＳｉＲ＿ｍＸ＿３＿−＿ｎ 〔式中、Ａｒは置換又は未置換の芳香族基あるいは複素
芳香族基を表し、Ｒはアルキル基又は上記Ａｒ基を表し
、Ｘはハロゲン又はアルコキシ基を表し、ｍは０、１、
２、３のいずれかを表す。〕で表されるシリル基置換芳
香族化合物と一般式 Ｙ−Ａｒ′ （式中Ｙは脱離基を表し、Ａｒ′は置換又は未置換の芳
香族基あるいは複素芳香族基を表す）で表される芳香族
化合物を第VIII族遷移金属触媒、一酸化炭素およびフッ
化物イオン源の存在下に反応させることからなる、一般
式 ＡｒＣＯＡｒ′ （式中、Ａｒ、Ａｒ′とも前記と同一の意味を表す）で
表されるジアリールケトンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1204897A JPH0796518B2 (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | ジアリールケトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1204897A JPH0796518B2 (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | ジアリールケトンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0368533A true JPH0368533A (ja) | 1991-03-25 |
| JPH0796518B2 JPH0796518B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=16498210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1204897A Expired - Lifetime JPH0796518B2 (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | ジアリールケトンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796518B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010149839A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-07-08 | Honda Motor Co Ltd | エンジンルームカバー及びエンジンルームカバーの組み付け方法 |
-
1989
- 1989-08-09 JP JP1204897A patent/JPH0796518B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010149839A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-07-08 | Honda Motor Co Ltd | エンジンルームカバー及びエンジンルームカバーの組み付け方法 |
| US8302718B2 (en) | 2008-11-26 | 2012-11-06 | Honda Motor Co., Ltd. | Engine room cover and method for mounting thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0796518B2 (ja) | 1995-10-18 |
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