JPH0369995B2 - - Google Patents
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- JPH0369995B2 JPH0369995B2 JP58251999A JP25199983A JPH0369995B2 JP H0369995 B2 JPH0369995 B2 JP H0369995B2 JP 58251999 A JP58251999 A JP 58251999A JP 25199983 A JP25199983 A JP 25199983A JP H0369995 B2 JPH0369995 B2 JP H0369995B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode
- bath
- nickel
- tungsten
- electrolytic bath
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、物品表面にNi−Ｗ合金めつきを連
続的に施す装置に関する。
続的に施す装置に関する。
Ni−Ｗ合金は、表面光沢にすぐれ、かつその
耐久性に富み、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性、
機械的な硬度、強度も優秀であり、とくに高温ガ
ラスとの非粘着離型性にすぐれているところか
ら、被めつき物品たる金属製物品、たとえばテレ
ビブラウン管前面内壁成型用金型をはじめとする
各種金型、ローラ、時計のケース等に賞用せられ
ている。
耐久性に富み、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性、
機械的な硬度、強度も優秀であり、とくに高温ガ
ラスとの非粘着離型性にすぐれているところか
ら、被めつき物品たる金属製物品、たとえばテレ
ビブラウン管前面内壁成型用金型をはじめとする
各種金型、ローラ、時計のケース等に賞用せられ
ている。
このようなNi−Ｗ合金めつきにおいて電解浴
液（単に電解浴とも略す）として、ニツケル塩お
よびタングステン酸塩を含有し、くえん酸を有機
錯化剤としたポンプHolt法、同じく酒石酸を有
機錯化剤としたブレナーBrenner法などが知られ
ている。しかし、そのいずれもがバツチシステム
であるに止まり、工業的に好ましい連続めつき手
段の開発が望まれている。
液（単に電解浴とも略す）として、ニツケル塩お
よびタングステン酸塩を含有し、くえん酸を有機
錯化剤としたポンプHolt法、同じく酒石酸を有
機錯化剤としたブレナーBrenner法などが知られ
ている。しかし、そのいずれもがバツチシステム
であるに止まり、工業的に好ましい連続めつき手
段の開発が望まれている。
本発明は、このような要望に応えるべくなされ
たものであつて、ニツケル塩およびタングステン
酸を含有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴
中で、ステンレスSUS材ならびにニツケル材を
陽極とし、タングステン酸含有液を補給しつつ電
解することを特徴とするNi−Ｗ合金めつき方法
およびその装置である。
たものであつて、ニツケル塩およびタングステン
酸を含有し、くえん酸を有機錯化剤とした電解浴
中で、ステンレスSUS材ならびにニツケル材を
陽極とし、タングステン酸含有液を補給しつつ電
解することを特徴とするNi−Ｗ合金めつき方法
およびその装置である。
本発明に使用する電解浴が、Ni塩およびＷ酸
塩を含有し有機錯化剤としてくえん酸を選用する
点においては前述ホルト法に近似するが、ホルト
法は陽極がNiないしＷの単極である点において
不溶性陽極たるSUS材ならびに溶解性陽極とし
てNi材を用いる点において、また浴のPHが約9.0
の高値でない点において相違する。有機錯化剤と
してくえん酸を選用した理由は、得られるめつき
層中のＷ含量を、酒石酸系電解浴の場合の最高35
％にくらべ最高62％にも及ぼさしめることが可能
であるからである。
塩を含有し有機錯化剤としてくえん酸を選用する
点においては前述ホルト法に近似するが、ホルト
法は陽極がNiないしＷの単極である点において
不溶性陽極たるSUS材ならびに溶解性陽極とし
てNi材を用いる点において、また浴のPHが約9.0
の高値でない点において相違する。有機錯化剤と
してくえん酸を選用した理由は、得られるめつき
層中のＷ含量を、酒石酸系電解浴の場合の最高35
％にくらべ最高62％にも及ぼさしめることが可能
であるからである。
本発明に使用する電解浴液中のNi塩の形態と
しては、塩化ニツケル、硝酸ニツケルのような形
で使用不可能ではないが、電流効果が優れている
点で硫酸ニツケルないし硫酸ニツケル・アンモニ
ウム複塩Ni（SO4）・（NH4）2SO4・6H2Oが最良で
ある。同じく電解浴中のタングステン酸の塩とし
ては、そのアルカリ金属の塩、なかんずくナトリ
ウム塩の形態で使用するがよい。タングステン酸
塩をアンモニウム塩の形態ではなくNa2WO4・
2H2Oのようなアルカリ金属塩として使用した場
合には、浴中のNa濃度は連続めつき操作中、被
めつき体に付着して持ち出される以外には不変と
もいうことができるから、その建浴時における濃
度を基準として補給液の添加時期を定めることが
できる。
しては、塩化ニツケル、硝酸ニツケルのような形
で使用不可能ではないが、電流効果が優れている
点で硫酸ニツケルないし硫酸ニツケル・アンモニ
ウム複塩Ni（SO4）・（NH4）2SO4・6H2Oが最良で
ある。同じく電解浴中のタングステン酸の塩とし
ては、そのアルカリ金属の塩、なかんずくナトリ
ウム塩の形態で使用するがよい。タングステン酸
塩をアンモニウム塩の形態ではなくNa2WO4・
2H2Oのようなアルカリ金属塩として使用した場
合には、浴中のNa濃度は連続めつき操作中、被
めつき体に付着して持ち出される以外には不変と
もいうことができるから、その建浴時における濃
度を基準として補給液の添加時期を定めることが
できる。
かくして、本発明方法に適した電解浴を例示す
れば次のとおりである。
れば次のとおりである。
くえん酸…… 100±30ｇ／
Ni塩（NiSO4・6H2Oとして）…… 60±20ｇ／
Ｗ酸塩（Na2WO4・2H2Oとして）……
70±30ｇ／ PH（NH4OHによる調整）…… ６±２ アルカリ金属イオン（Na+）……
0.42±0.15mol／ なおPHが上記のとおり弱酸性であるから、従来
のアンモニアアルカリ性電解浴に比して電解槽付
近のアンモニア臭発生による循環衛生汚染の心配
は甚しく改善せられる。
70±30ｇ／ PH（NH4OHによる調整）…… ６±２ アルカリ金属イオン（Na+）……
0.42±0.15mol／ なおPHが上記のとおり弱酸性であるから、従来
のアンモニアアルカリ性電解浴に比して電解槽付
近のアンモニア臭発生による循環衛生汚染の心配
は甚しく改善せられる。
次に本発明において、陽極としてSUS材とNi
材との２極を採る理由を述べる。
材との２極を採る理由を述べる。
それは基本的には、タングステン合金めつきに
おける金属析出の電流効率が100％ではなく、必
らず水素ガスの生成反応を伴うことによる。この
ようなタングステン合金めつき反応においても、
目的組成を有する合金めつき層を得るためには、
浴中の金属濃度を最適値に維持することが必要で
ある。そのためには、少なくとも陰極における水
素ガス生成電流に相当する電流だけは不溶性陽極
から供給し、同時にニツケルとタングステンの陰
極析出によるめつき浴中の濃度低下をなんらかの
形で補なわねばならない。ところで、金属タング
ステンは、現在の自由世界圏において可溶性陽極
として工業的に使用可能な形態では供給されな
い。また非常に高価でもある。かくて、陰極での
水素とＷ放電に相当する電流は、不溶性の陽極か
ら供給することが必要である。
おける金属析出の電流効率が100％ではなく、必
らず水素ガスの生成反応を伴うことによる。この
ようなタングステン合金めつき反応においても、
目的組成を有する合金めつき層を得るためには、
浴中の金属濃度を最適値に維持することが必要で
ある。そのためには、少なくとも陰極における水
素ガス生成電流に相当する電流だけは不溶性陽極
から供給し、同時にニツケルとタングステンの陰
極析出によるめつき浴中の濃度低下をなんらかの
形で補なわねばならない。ところで、金属タング
ステンは、現在の自由世界圏において可溶性陽極
として工業的に使用可能な形態では供給されな
い。また非常に高価でもある。かくて、陰極での
水素とＷ放電に相当する電流は、不溶性の陽極か
ら供給することが必要である。
くえん酸のような有機錯化剤を含むめつき浴に
おける不溶性陽極の使用によつて生ずる問題は、
不溶性陽極における有機酸の分解、変質と、それ
によるめつき層の脆化であり、これが従来法をバ
ツチシステムに止めた理由に外ならない。
おける不溶性陽極の使用によつて生ずる問題は、
不溶性陽極における有機酸の分解、変質と、それ
によるめつき層の脆化であり、これが従来法をバ
ツチシステムに止めた理由に外ならない。
ステンレス材を陽極として用いた理由は、本発
明者が、くえん酸の非分解触媒性にすぐれた不溶
性陽極として、ステンレス材を実験的に見出した
からである。不溶性陽極としてSUS材は、従来
のめつきに頻用せられる白金、ニツケル、グラフ
アイト、鉛などに比して、電解浴中のくえん酸
を、分解・変質せしめる速度が著しく小さく、グ
ラフアイト陽極の場合の約1/5のいう好成績を与
える。
明者が、くえん酸の非分解触媒性にすぐれた不溶
性陽極として、ステンレス材を実験的に見出した
からである。不溶性陽極としてSUS材は、従来
のめつきに頻用せられる白金、ニツケル、グラフ
アイト、鉛などに比して、電解浴中のくえん酸
を、分解・変質せしめる速度が著しく小さく、グ
ラフアイト陽極の場合の約1/5のいう好成績を与
える。
また、陽極としてNiを用いる理由は、Niの陰
極析出による浴中濃度の低下を補充するためであ
るが、この補充をNiSO4水溶液のような薬液の形
で行うと、長期連続電解に伴う薬液補充によつ
て、めつき浴中にSO4 2-が蓄積してめつきの品質
に問題を生じたからである。
極析出による浴中濃度の低下を補充するためであ
るが、この補充をNiSO4水溶液のような薬液の形
で行うと、長期連続電解に伴う薬液補充によつ
て、めつき浴中にSO4 2-が蓄積してめつきの品質
に問題を生じたからである。
上述したところにより、不溶性陽極に使用する
ステンレスSUS材とは、クロム10％以上を含有
する耐蝕性鉄−クロム合金を指称し、Ni、Si、
Mo、ＷないしNbを含むものが包含される。具体
的にはSUS304、同431、同316など広く供用でき
る。このうち、SUS316のようにMoを含有する
ものは、消耗率が低いすぐれた材料として注目さ
れる。
ステンレスSUS材とは、クロム10％以上を含有
する耐蝕性鉄−クロム合金を指称し、Ni、Si、
Mo、ＷないしNbを含むものが包含される。具体
的にはSUS304、同431、同316など広く供用でき
る。このうち、SUS316のようにMoを含有する
ものは、消耗率が低いすぐれた材料として注目さ
れる。
また溶解性陽極としてのNi材としては、鉄Fe、
銅Cu、鉛Pbなどの不純物をほとんど含まないも
のが適当とされ、電気ニツケルアノード、SKニ
ツケルアノード、デボラライズドニツケールアノ
ードなどの名称のもとに市販されているニツケル
めつき用のものがそのまま使用できる。
銅Cu、鉛Pbなどの不純物をほとんど含まないも
のが適当とされ、電気ニツケルアノード、SKニ
ツケルアノード、デボラライズドニツケールアノ
ードなどの名称のもとに市販されているニツケル
めつき用のものがそのまま使用できる。
本発明方法および装置においても、電解間電解
浴中のNiおよびＷ濃度は当然減少する。このNi
は前記のとおり溶解性陽極から供給されるが、Ｗ
は別途なんらかの形態で補給されなければならな
い。本発明にあつては、これをＷ含有補給液の形
で電解浴液中に補給して行くのである。補給に使
用する好ましいタングステンの形態は、典型的に
はパラタングステン酸アンモニウム
（NH4）10W12O41・5H2Oないし５（NH4）2O・
12WO3・5H2Oである。このものは、むろん常温
固体であるから、補給に当つては、溶液の形態、
とくに補給される電解浴を薄めないように濃厚な
溶液として補給されるべきである。
浴中のNiおよびＷ濃度は当然減少する。このNi
は前記のとおり溶解性陽極から供給されるが、Ｗ
は別途なんらかの形態で補給されなければならな
い。本発明にあつては、これをＷ含有補給液の形
で電解浴液中に補給して行くのである。補給に使
用する好ましいタングステンの形態は、典型的に
はパラタングステン酸アンモニウム
（NH4）10W12O41・5H2Oないし５（NH4）2O・
12WO3・5H2Oである。このものは、むろん常温
固体であるから、補給に当つては、溶液の形態、
とくに補給される電解浴を薄めないように濃厚な
溶液として補給されるべきである。
パラタングステン酸アンモニウムは、常温で約
50ｇ／までは、容易に水に溶解する。ところ
が、これをくえん酸の水溶液として溶解させるな
らば、約100ｇ／の濃厚な水溶液とすることが
できる。その際使用するくえん酸の量は50〜200
ｇ／が適当とされる。というのは、補給液中の
くえん酸は、上記のとおり、沈澱防止剤として働
くばかりではなく、電解間に消耗されたくえん酸
の補充の役割を果たすものであるが、その消耗率
は、電流密度、ステンレス陽極の電流密度などの
操業条件に支配される。
50ｇ／までは、容易に水に溶解する。ところ
が、これをくえん酸の水溶液として溶解させるな
らば、約100ｇ／の濃厚な水溶液とすることが
できる。その際使用するくえん酸の量は50〜200
ｇ／が適当とされる。というのは、補給液中の
くえん酸は、上記のとおり、沈澱防止剤として働
くばかりではなく、電解間に消耗されたくえん酸
の補充の役割を果たすものであるが、その消耗率
は、電流密度、ステンレス陽極の電流密度などの
操業条件に支配される。
したがつて、好ましい補給液は、パラタングス
テン酸アンモニウム100ｇ／に対し、くえん酸
量は50〜200ｇ／の幅をもつことになる。該補
給液のPHは、補給液としての性質上１〜６程度に
アンモニアによつて調整されるがよい。
テン酸アンモニウム100ｇ／に対し、くえん酸
量は50〜200ｇ／の幅をもつことになる。該補
給液のPHは、補給液としての性質上１〜６程度に
アンモニアによつて調整されるがよい。
上述した補給液の補給時期は、電解浴中のＷ含
量が、建浴時のそれよりも減少した時点である。
むろん、電解浴中のＷ量測定手段にとくに限定は
ない。しかし、好ましい手段は、たとえば、常時
電解槽から電解液の一部を抜き取り、その旋光度
を測定することによつてＷを所定量たとえば
0.21mol／に維持するに足る量をポンピングす
ることによつて実施する。後述実施例に示したよ
うに、めつき層に移行することによつて減少した
浴中のＷは、前記補給液の補給によつて補充され
るのみならず、本発明者が実験的に見出した好ま
しいNa+浴濃度0.42mol／が保持できる。しか
しＷ酸塩をそのアンモニウム塩の形態でなく最も
ありふれたNa2WO4・2H2Oの形態で浴中のＷの
減少に見合う量だけ補給してやれば浴中のNa+は
最適濃度、前記0.42mol／よりも増加してしま
う。したがつて、この場合には抜き採つた電解液
からNa+を除去し、しかる後に除去後の電解液を
めつき槽へ循環することによつて解決でき、その
ようなNa+除去手段としてイオン交換樹脂の使用
も不可能ではない。しかしそれは装置的・経済的
負担をあまりに大ならしめることになるので、既
述したパラタングステン酸アンモニウム補給液使
用の有利さに及ばない。
量が、建浴時のそれよりも減少した時点である。
むろん、電解浴中のＷ量測定手段にとくに限定は
ない。しかし、好ましい手段は、たとえば、常時
電解槽から電解液の一部を抜き取り、その旋光度
を測定することによつてＷを所定量たとえば
0.21mol／に維持するに足る量をポンピングす
ることによつて実施する。後述実施例に示したよ
うに、めつき層に移行することによつて減少した
浴中のＷは、前記補給液の補給によつて補充され
るのみならず、本発明者が実験的に見出した好ま
しいNa+浴濃度0.42mol／が保持できる。しか
しＷ酸塩をそのアンモニウム塩の形態でなく最も
ありふれたNa2WO4・2H2Oの形態で浴中のＷの
減少に見合う量だけ補給してやれば浴中のNa+は
最適濃度、前記0.42mol／よりも増加してしま
う。したがつて、この場合には抜き採つた電解液
からNa+を除去し、しかる後に除去後の電解液を
めつき槽へ循環することによつて解決でき、その
ようなNa+除去手段としてイオン交換樹脂の使用
も不可能ではない。しかしそれは装置的・経済的
負担をあまりに大ならしめることになるので、既
述したパラタングステン酸アンモニウム補給液使
用の有利さに及ばない。
つぎにNi材陽極は、電解による浴のNi濃度の
減少を補償する意味で、ある一定速度で溶解し、
濃度が不足した場合には、溶解速度を増し、過剰
の場合には減速させてやる必要がある。これがた
め前記旋光度測定のために抜き取つた電解液を、
吸光度セルに導いて、その明るさを測光し、これ
を電圧に変換し、予め別途用意しておいた電解浴
の明るさと変調電圧との関係を基礎とするNi材
陽極ホイスター基礎本制御部に導き、サーボモー
タに連動させて、該陽極を上・下させ、浴への浸
漬度を調整することによつて、溶解速度を制御す
るがよい。このNi材陽極ホイスターの吸光度に
よる制御によつて、本発明方法が２陽極法である
にもかかわらず、陽極回路を２つ設ける必要をな
くしているという利点を伴うのである。
減少を補償する意味で、ある一定速度で溶解し、
濃度が不足した場合には、溶解速度を増し、過剰
の場合には減速させてやる必要がある。これがた
め前記旋光度測定のために抜き取つた電解液を、
吸光度セルに導いて、その明るさを測光し、これ
を電圧に変換し、予め別途用意しておいた電解浴
の明るさと変調電圧との関係を基礎とするNi材
陽極ホイスター基礎本制御部に導き、サーボモー
タに連動させて、該陽極を上・下させ、浴への浸
漬度を調整することによつて、溶解速度を制御す
るがよい。このNi材陽極ホイスターの吸光度に
よる制御によつて、本発明方法が２陽極法である
にもかかわらず、陽極回路を２つ設ける必要をな
くしているという利点を伴うのである。
さらにまた、Ni材陽極の不動態化を防止する
には、該陽極電位測定装置を付設し、予め定めた
しきい値を基準にして、該陽極表面に接触させる
Cl-の量を加減することによつて行うがよい。
には、該陽極電位測定装置を付設し、予め定めた
しきい値を基準にして、該陽極表面に接触させる
Cl-の量を加減することによつて行うがよい。
上述した本発明方法を実施するに適した装置と
して、本発明者が創作した第１図装置を用いて行
つた実施例につき述べる。
して、本発明者が創作した第１図装置を用いて行
つた実施例につき述べる。
図中符１は電解槽であつて、この中に入れた電
解浴液２の組成は次のとおりである。
解浴液２の組成は次のとおりである。
くえん酸…… 100ｇ／
NiSO4・6H2O…… 70ｇ／
Na2WO4・2H2O…… 70ｇ／
PH（NH4OHで調整）…… 6.0
Na+濃度…… 0.42mol／
該電解浴は70℃に保たれ、その中に陰極３とし
て100×50×0.3mmの鉄板を懸吊し、これと対向す
る位置に、SUS材陽極４ならびにNi材陽極５を
懸吊し、これら電極は電源７とリード線７ａ，７
ｂにより図示のとおりで結ばれている。
て100×50×0.3mmの鉄板を懸吊し、これと対向す
る位置に、SUS材陽極４ならびにNi材陽極５を
懸吊し、これら電極は電源７とリード線７ａ，７
ｂにより図示のとおりで結ばれている。
SUS材陽極４の材質はSUS304で、その形状は
φ1mm針金を方形に編んだ65×50mmの寸法のもの
である。Ni材陽極５は市販電気ニツケルアノー
ドで、断面10×10mm、長さ70mmの角棒であつて、
後述するサーボモータ１４により、上下に浸漬高
さが調整される。Ni材陽極５には常法とおり陽
極バツク６がカバーされる。この場合バツク６の
材料としては東洋紙KK製＃No.２を用いた。
φ1mm針金を方形に編んだ65×50mmの寸法のもの
である。Ni材陽極５は市販電気ニツケルアノー
ドで、断面10×10mm、長さ70mmの角棒であつて、
後述するサーボモータ１４により、上下に浸漬高
さが調整される。Ni材陽極５には常法とおり陽
極バツク６がカバーされる。この場合バツク６の
材料としては東洋紙KK製＃No.２を用いた。
電解浴液は、管路８ａを経てポンプ１０により
常時抜き取られ、冷却器９で常温にまで冷却され
管８ｂ、ポンプ１０、管路８ｃを経て650nｍの
吸光度セル１１、管路８ｄ、555nｍの旋光セル
１５で旋光度を測定したのち、管路８ｅを経て電
解槽１へ循環する。
常時抜き取られ、冷却器９で常温にまで冷却され
管８ｂ、ポンプ１０、管路８ｃを経て650nｍの
吸光度セル１１、管路８ｄ、555nｍの旋光セル
１５で旋光度を測定したのち、管路８ｅを経て電
解槽１へ循環する。
前述した吸光度セル１１で測定した吸光度と、
建浴時の吸光度との偏差は、変調電圧としてコン
トロール電圧発生回路１２から取り出され、Ni
陽極ホイスタ基本制御回路１３において、建浴時
の基準電圧に合致すべく、サーボモータ１４を駆
動させ、それによつてNi陽極５は、浴２への浸
漬度を変え、常に建浴時のNi濃度に等しいNi濃
度が保持できるよう溶解度が加減される。
建浴時の吸光度との偏差は、変調電圧としてコン
トロール電圧発生回路１２から取り出され、Ni
陽極ホイスタ基本制御回路１３において、建浴時
の基準電圧に合致すべく、サーボモータ１４を駆
動させ、それによつてNi陽極５は、浴２への浸
漬度を変え、常に建浴時のNi濃度に等しいNi濃
度が保持できるよう溶解度が加減される。
他方、旋光セル１５では、旋光セルを通つた偏
向光が第２の偏向板を介して、光スイツチ機構１
６に導かれる。光スイツチ機構に入る光強度が、
建浴時の電解浴２についての基準値よりも強くな
つた場合、光スイツチ機構１６がポンプ１７を作
動させ、補給液槽１８中の補給液が、管路１９か
ら電解槽へ補給される。この補給によつて、光ス
イツチ機構１６へ入る光強度が基準値と等しくな
ると、ポンプ１７は停止する。
向光が第２の偏向板を介して、光スイツチ機構１
６に導かれる。光スイツチ機構に入る光強度が、
建浴時の電解浴２についての基準値よりも強くな
つた場合、光スイツチ機構１６がポンプ１７を作
動させ、補給液槽１８中の補給液が、管路１９か
ら電解槽へ補給される。この補給によつて、光ス
イツチ機構１６へ入る光強度が基準値と等しくな
ると、ポンプ１７は停止する。
本実施例に用いた補給液の組成は下記のとおり
であつた。
であつた。
（NH4）10W12O41・5H2O…… 100ｇ／
くえん酸…… 110ｇ／
PH（NH4OHで調整）…… ５
なお、Ni材陽極５には、その表面不動態防止
のため、Cl-イオンの必要最小量が補給せられる。
図中、符２０は、その先端がNi材陽極５に接触
したNi材陽極の電位測定用電解液導管であつて、
その他端は、電位測定部２１に液絡している。測
定された電位が30秒以上1.1Vを示した場合、し
きいスイツチ２２がポンプ２４を作動させ、
NH4Cl水溶液が、その貯槽２３からテフロン製
管路２５を経てNi陽極に供給され、電位が1.0V
に下ればポンプ２４は停止する。
のため、Cl-イオンの必要最小量が補給せられる。
図中、符２０は、その先端がNi材陽極５に接触
したNi材陽極の電位測定用電解液導管であつて、
その他端は、電位測定部２１に液絡している。測
定された電位が30秒以上1.1Vを示した場合、し
きいスイツチ２２がポンプ２４を作動させ、
NH4Cl水溶液が、その貯槽２３からテフロン製
管路２５を経てNi陽極に供給され、電位が1.0V
に下ればポンプ２４は停止する。
本例では180AH／までの浴寿命テストを行
つたが。タングステン補給液中になんらのNa+が
含有されておらず、Cl-イオンの供給も必要最小
限であり、浴液の基本組成が乱されることなく、
Ｗ含量44％の合金組成・外観のほぼ一定しためつ
き槽が連続して得られた。
つたが。タングステン補給液中になんらのNa+が
含有されておらず、Cl-イオンの供給も必要最小
限であり、浴液の基本組成が乱されることなく、
Ｗ含量44％の合金組成・外観のほぼ一定しためつ
き槽が連続して得られた。
本発明は以上のように構成されるから、未だ試
みられたことのないNi−Ｗ合金めつきの少なく
とも確認された180AH／の連続化が可能とな
つたのである。しかも本発明方法および装置によ
ればめつき層中のＷ含量は最高62％にも及ぶ低温
かつ弱酸性電解浴に起因して、NH3揮発に伴う
環境汚染問題は消滅したのである。なお電流効率
は60％の好成績である。
みられたことのないNi−Ｗ合金めつきの少なく
とも確認された180AH／の連続化が可能とな
つたのである。しかも本発明方法および装置によ
ればめつき層中のＷ含量は最高62％にも及ぶ低温
かつ弱酸性電解浴に起因して、NH3揮発に伴う
環境汚染問題は消滅したのである。なお電流効率
は60％の好成績である。
第１図は本発明の一実施例の装置の説明図であ
る。 １……電解槽、２……電解浴、３……陰極、４
……ステンレス材陽極、５……Ni材陽極、６…
…陽極バツグ、７……めつき電源、８（ａ，ｂ，
ｃ，ｃ，ｄ，ｅ）……電解液循環管路、９……冷
却器、１０……ポンプ、１１……吸光度セル、１
２……コントロール電圧発生回路、１３……ニツ
ケルホイスタ基本制御回路、１４……サーボモー
タ、１５……旋光度セル、１６……光スイツチ機
構、１７……ポンプ、１８……補給液槽、１９…
…管路、２０……センサーチユーブ、２１……電
位測定部、２２……しきいスイツチ、２３……
NH4Cl水溶液貯槽。
る。 １……電解槽、２……電解浴、３……陰極、４
……ステンレス材陽極、５……Ni材陽極、６…
…陽極バツグ、７……めつき電源、８（ａ，ｂ，
ｃ，ｃ，ｄ，ｅ）……電解液循環管路、９……冷
却器、１０……ポンプ、１１……吸光度セル、１
２……コントロール電圧発生回路、１３……ニツ
ケルホイスタ基本制御回路、１４……サーボモー
タ、１５……旋光度セル、１６……光スイツチ機
構、１７……ポンプ、１８……補給液槽、１９…
…管路、２０……センサーチユーブ、２１……電
位測定部、２２……しきいスイツチ、２３……
NH4Cl水溶液貯槽。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ニツケル塩、タングステン酸塩を含有し、く
えん酸を有機錯化剤とした電解浴中で、ステンレ
ス材ならびにニツケル材を陽極とし、タングステ
ン含有液を補給しつつ電解することを特徴とする
Ni−Ｗ合金の連続めつき方法。 ２ 不溶性ステンレス材陽極４と、溶解性ニツケ
ル陽極５とを有し、ニツケル濃度測定手段ならび
にタングステン濃度測定手段を有する電解浴循環
路８を備えた電解槽１と、タングステン補給液槽
１８とより成り、ニツケル材陽極の浸漬度を測定
した浴中のニツケル濃度に連動させ、タングステ
ン補給液の補給量を測定した浴中のタングステン
濃度に連動させたことを特徴とするNi−Ｗ合金
連続めつき装置。 ３ ニツケル濃度測定手段は、電解浴液の吸光度
測定である特許請求の範囲１記載のNi−Ｗ合金
連続めつき装置。 ４ タングステン濃度測定手段は電解浴液の旋光
度測定である特許請求の範囲１記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25199983A JPS60135593A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | Ｎｉ―Ｗ合金連続めつき方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25199983A JPS60135593A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | Ｎｉ―Ｗ合金連続めつき方法およびその装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3030482A Division JPH0674520B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | Ｎｉ−Ｗ合金連続めっき用電解浴補給液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60135593A JPS60135593A (ja) | 1985-07-18 |
| JPH0369995B2 true JPH0369995B2 (ja) | 1991-11-06 |
Family
ID=17231141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25199983A Granted JPS60135593A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | Ｎｉ―Ｗ合金連続めつき方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60135593A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02217497A (ja) * | 1989-02-18 | 1990-08-30 | Takada Kenkyusho:Kk | ニッケル―タングステン―炭化珪素複合めっき法 |
| JPH0674520B2 (ja) * | 1991-02-25 | 1994-09-21 | 株式会社シミズ | Ｎｉ−Ｗ合金連続めっき用電解浴補給液 |
| JP2611626B2 (ja) * | 1993-06-30 | 1997-05-21 | 山口県 | 耐熱性ニッケル−タングステン合金めっき皮膜及びその形成方法 |
| JP5513938B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2014-06-04 | 奥野製薬工業株式会社 | 電気ニッケル−タングステンめっき浴用タングステン補給液 |
| JP5649249B2 (ja) * | 2012-01-30 | 2015-01-07 | 新日鐵住金株式会社 | 熱間加工用工具及びその製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5357138A (en) * | 1976-11-04 | 1978-05-24 | Hitachi Chemical Co Ltd | Electrolyte for tungsten type alloy plating |
-
1983
- 1983-12-23 JP JP25199983A patent/JPS60135593A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60135593A (ja) | 1985-07-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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