JPH037102B2 - - Google Patents
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- JPH037102B2 JPH037102B2 JP4934183A JP4934183A JPH037102B2 JP H037102 B2 JPH037102 B2 JP H037102B2 JP 4934183 A JP4934183 A JP 4934183A JP 4934183 A JP4934183 A JP 4934183A JP H037102 B2 JPH037102 B2 JP H037102B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- thin film
- photosensitive
- metal thin
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/90—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof prepared by montage processes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は画像形成材料に関し、特に印刷製版装
飾、電気的用途に用いる感光性材料に関する。
飾、電気的用途に用いる感光性材料に関する。
従来より画像を網点でなくベタで印刷する場
合、版画を製版するために使用されるマスク版
を、再現すべき画像をいわゆるくくり線で囲んで
構成した原稿(以下くくり線原稿と称す)を基に
して感光性材料に写真処理を施こして作成する方
法がある。すなわちネガテイブまたはポジテイブ
のくくり線原稿を感光性材料の遮光性の感光性マ
スク層に焼付け、次いで該マスク層に応じて現像
もしくは現像とエツチングの処理を行なうと、第
1図aに示すように感光性材料1の透明フイルム
2上には原稿3のくくり線4に相当する溝5の形
成された感光性マスク層のレリーフ画像6が形成
される。次いで第1図bに示すように透明フイル
ム2からレリーフ画像6をマスクする部分6′を
残して針、ナイフなどで剥取ると必要な画像が遮
光性を有しない凹部7として形成されたマスク版
8が得られる。そしてこうして得られたマスク版
8に基づいて同様な写真処理を施こして版面の製
版が行なわれる。
合、版画を製版するために使用されるマスク版
を、再現すべき画像をいわゆるくくり線で囲んで
構成した原稿(以下くくり線原稿と称す)を基に
して感光性材料に写真処理を施こして作成する方
法がある。すなわちネガテイブまたはポジテイブ
のくくり線原稿を感光性材料の遮光性の感光性マ
スク層に焼付け、次いで該マスク層に応じて現像
もしくは現像とエツチングの処理を行なうと、第
1図aに示すように感光性材料1の透明フイルム
2上には原稿3のくくり線4に相当する溝5の形
成された感光性マスク層のレリーフ画像6が形成
される。次いで第1図bに示すように透明フイル
ム2からレリーフ画像6をマスクする部分6′を
残して針、ナイフなどで剥取ると必要な画像が遮
光性を有しない凹部7として形成されたマスク版
8が得られる。そしてこうして得られたマスク版
8に基づいて同様な写真処理を施こして版面の製
版が行なわれる。
ところで多色印刷をする場合、通常各色のマス
ク版は合版ネガ原稿から得られたレリーフ画像を
その色に応じた選択的剥取りによつて作成されて
おり、合版ネガ原稿にはある色のマスク版に不必
要な他の色のマスク版のくくり線が含まれてい
る。このくくり線に対応して感光性マスク層に形
成される溝のところでは光を遮光しないので、選
択的剥取りによつて各色のマスク版を作成するに
あたり、修正液と呼ばれる高い遮光性を有する塗
布液を画像上に塗布、乾燥して不必要なくくり線
に相当する溝を埋め隠蔽、消去しておく必要があ
る。このことは周囲をくくり線で囲まず線そのも
ので描く文字等についても同じである。
ク版は合版ネガ原稿から得られたレリーフ画像を
その色に応じた選択的剥取りによつて作成されて
おり、合版ネガ原稿にはある色のマスク版に不必
要な他の色のマスク版のくくり線が含まれてい
る。このくくり線に対応して感光性マスク層に形
成される溝のところでは光を遮光しないので、選
択的剥取りによつて各色のマスク版を作成するに
あたり、修正液と呼ばれる高い遮光性を有する塗
布液を画像上に塗布、乾燥して不必要なくくり線
に相当する溝を埋め隠蔽、消去しておく必要があ
る。このことは周囲をくくり線で囲まず線そのも
ので描く文字等についても同じである。
また異なる色をぴつたりと突き合せる印刷にお
いても、くくり線に相当する溝の部分をどちらか
一方の色になるようにしなければならず、他方の
色のマスク版は突き合せる部分の画像全面に修正
液を塗布、乾燥して溝を隠蔽、消去してから剥取
り作成する必要がある。
いても、くくり線に相当する溝の部分をどちらか
一方の色になるようにしなければならず、他方の
色のマスク版は突き合せる部分の画像全面に修正
液を塗布、乾燥して溝を隠蔽、消去してから剥取
り作成する必要がある。
この様な目的に使用される修正液には、有機溶
剤溶液型と水溶液型のものがある。有機溶剤溶液
型は、引火性や臭気の点で取扱上注意を要する。
また水溶液型も乾燥が非常に遅く作業上能率が悪
いなどの欠点を有する。
剤溶液型と水溶液型のものがある。有機溶剤溶液
型は、引火性や臭気の点で取扱上注意を要する。
また水溶液型も乾燥が非常に遅く作業上能率が悪
いなどの欠点を有する。
更に、修正液の塗布には平らな広い場所と均一
に塗布する技術が必要であり、製版の作業工程上
改良の要求される部分であつた。
に塗布する技術が必要であり、製版の作業工程上
改良の要求される部分であつた。
本発明はかかる従来の難点に鑑みなされたもの
で、その特徴とするところは透明フイルム支持体
上に金属薄膜層を形成して該薄膜層により遮光性
を持たせるとともに、該薄膜層の上に形成する感
光層を強靭な皮膜性を有しかつ金属薄膜層と強固
な接着力を有するものとし、金属薄膜層を浸透可
能な溶液により溶解される下引層を介在せしめネ
ガテイブなレリーフ画像を剥離したとき一緒に下
の金属薄膜層を同形に剥離させて必要な画像を形
成し、くくり線および文字等を描いた線に対応す
る金属薄膜層は透明フイルム上に常に残存するよ
うにすると共に、部分修正に於ても、下引層を選
択的に溶解する溶液により、現像処理後のマスク
画を軽くこすることにより、短時間に、所望に応
じ金属薄膜層を除去し、従来の感光材料を用いた
と同じ結果を得ることができるようにした点にあ
る。
で、その特徴とするところは透明フイルム支持体
上に金属薄膜層を形成して該薄膜層により遮光性
を持たせるとともに、該薄膜層の上に形成する感
光層を強靭な皮膜性を有しかつ金属薄膜層と強固
な接着力を有するものとし、金属薄膜層を浸透可
能な溶液により溶解される下引層を介在せしめネ
ガテイブなレリーフ画像を剥離したとき一緒に下
の金属薄膜層を同形に剥離させて必要な画像を形
成し、くくり線および文字等を描いた線に対応す
る金属薄膜層は透明フイルム上に常に残存するよ
うにすると共に、部分修正に於ても、下引層を選
択的に溶解する溶液により、現像処理後のマスク
画を軽くこすることにより、短時間に、所望に応
じ金属薄膜層を除去し、従来の感光材料を用いた
と同じ結果を得ることができるようにした点にあ
る。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性材料は、第2図に示すように透
明フイルムの支持体9上に金属薄膜層10を形成
し、該薄膜層10の上にこれと強固に接着しかつ
強靭な皮膜性を有する感光層11を形成して薄膜
層10と支持体9との間に下引層19を介在して
構成される。
明フイルムの支持体9上に金属薄膜層10を形成
し、該薄膜層10の上にこれと強固に接着しかつ
強靭な皮膜性を有する感光層11を形成して薄膜
層10と支持体9との間に下引層19を介在して
構成される。
本発明で使用する支持体9としては、平滑な表
面を有し、かつその上に金属薄膜を設けることが
できるフイルム形成性熱可塑性高分子化合物のフ
イルムが用いられる。例えばポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタア
クリレートおよびこれらの共重合体、ジアセチル
セルロース、トリアセチルセルロース、プロピル
セルロースおよび混合セルロースエステルが挙げ
られる。このうち寸法安定性に優れた二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフイルムは特に好まし
い。
面を有し、かつその上に金属薄膜を設けることが
できるフイルム形成性熱可塑性高分子化合物のフ
イルムが用いられる。例えばポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタア
クリレートおよびこれらの共重合体、ジアセチル
セルロース、トリアセチルセルロース、プロピル
セルロースおよび混合セルロースエステルが挙げ
られる。このうち寸法安定性に優れた二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフイルムは特に好まし
い。
金属薄膜層10を形成する金属は、各種の成膜
手段によつて薄膜を形成できるものならばどれで
も使用できる。金属薄膜層の厚さは、少なくとも
50mμあることが好ましい。これ以下では、遮光
効果に乏しい。膜厚の上限に関しては1000mμ以
下が好ましい。これ以上では、金属膜の皮膜性が
強くなり、本発明に従つて、部分的に剥離した場
合、画像の解像力が悪化する。
手段によつて薄膜を形成できるものならばどれで
も使用できる。金属薄膜層の厚さは、少なくとも
50mμあることが好ましい。これ以下では、遮光
効果に乏しい。膜厚の上限に関しては1000mμ以
下が好ましい。これ以上では、金属膜の皮膜性が
強くなり、本発明に従つて、部分的に剥離した場
合、画像の解像力が悪化する。
成膜手段としては、気化法、スパツタリング法
などの真空蒸着法、無電解メツキ法、またはこれ
らとさらに電解メツキ法とを組合せた方法が採用
される。
などの真空蒸着法、無電解メツキ法、またはこれ
らとさらに電解メツキ法とを組合せた方法が採用
される。
真空蒸着可能な各種金属としては、アルミニウ
ム、亜鉛、銀、金、ニツケル、銅、クロムコバル
ト、鉄などがあり、更に各種合金も、スパツタリ
ング法により蒸着可能である。無電解メツキは、
任意公知方法により、銅、ニツケル、コバルト、
金、パラジウム、銀、ニツケル−コバルト合金が
用いられる。
ム、亜鉛、銀、金、ニツケル、銅、クロムコバル
ト、鉄などがあり、更に各種合金も、スパツタリ
ング法により蒸着可能である。無電解メツキは、
任意公知方法により、銅、ニツケル、コバルト、
金、パラジウム、銀、ニツケル−コバルト合金が
用いられる。
一般に、使用可能な金属の範囲が広いこと、処
理が単純かつ高速であることなどから真空蒸着法
が秀れている。
理が単純かつ高速であることなどから真空蒸着法
が秀れている。
下引層19は金属薄膜層10を浸透可能な溶液
により溶解される物質であり、透明フイルム支持
体9に強固に接着し、かつ平滑、透明な塗膜を形
成するものがよく、下引層19の膜厚は2μ以下
が好ましい。これ以上になると溶解したときにサ
イドエツチングが形成されて解像力が低下する。
各種有機、無機物質が利用できる。この下引層1
9としては、例えばポリ酢酸ビニル、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフツ化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−(無水マレイン酸、
アクリロニトリルまたはビニルアルコール)三元
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−(アク
リロニトリル、酢酸ビニルまたはメチルメタアク
リレート)三元共重合体、アクリル酸エステル−
(メチルメタアクリレートまたはスチレン)共重
合体、線状熱可塑性ポリエステルまたはコポリエ
ステル例えばポリエチレンテレフタレートまたは
ポリエチレンテレフタレート・イソフタレート、
アルコール可溶性ポリアミド、ポリウレタン、ア
セチルセルロース、アセチルブチルセルロース、
ニトロセルロース、エチルセルロース、アセチル
プロピルセルロース、塩素化ポリオレフイン、フ
ツ素ゴム、シリコン系界面活性剤、フツ素系界面
活性剤、シランカツプリング剤がある。これらの
物質は隣接する支持体及び金属薄膜との組合せに
より、感光性マスク層11を剥離したときに、支
持体および金属薄膜の何れか一方に接着する。
により溶解される物質であり、透明フイルム支持
体9に強固に接着し、かつ平滑、透明な塗膜を形
成するものがよく、下引層19の膜厚は2μ以下
が好ましい。これ以上になると溶解したときにサ
イドエツチングが形成されて解像力が低下する。
各種有機、無機物質が利用できる。この下引層1
9としては、例えばポリ酢酸ビニル、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフツ化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−(無水マレイン酸、
アクリロニトリルまたはビニルアルコール)三元
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−(アク
リロニトリル、酢酸ビニルまたはメチルメタアク
リレート)三元共重合体、アクリル酸エステル−
(メチルメタアクリレートまたはスチレン)共重
合体、線状熱可塑性ポリエステルまたはコポリエ
ステル例えばポリエチレンテレフタレートまたは
ポリエチレンテレフタレート・イソフタレート、
アルコール可溶性ポリアミド、ポリウレタン、ア
セチルセルロース、アセチルブチルセルロース、
ニトロセルロース、エチルセルロース、アセチル
プロピルセルロース、塩素化ポリオレフイン、フ
ツ素ゴム、シリコン系界面活性剤、フツ素系界面
活性剤、シランカツプリング剤がある。これらの
物質は隣接する支持体及び金属薄膜との組合せに
より、感光性マスク層11を剥離したときに、支
持体および金属薄膜の何れか一方に接着する。
薄膜層10を浸透可能で、下引層19を溶解す
る溶液は、感光層11、金属薄膜層10及びフイ
ルム支持体9を溶解しないものを使用し水又は希
酸性または希アルカリ性の、水溶液、アルコール
系、ケトン系、エステル系、炭化水素系、ハロゲ
ン化炭化水素系、及びこれらの誘導体を含む有機
溶剤の1種または2種以上から選択される。
る溶液は、感光層11、金属薄膜層10及びフイ
ルム支持体9を溶解しないものを使用し水又は希
酸性または希アルカリ性の、水溶液、アルコール
系、ケトン系、エステル系、炭化水素系、ハロゲ
ン化炭化水素系、及びこれらの誘導体を含む有機
溶剤の1種または2種以上から選択される。
感光層11は写真処理を経てネガテイブレリー
フ画像に形成後剥離するので、良好なフイルム形
成性及び適当なフイルム強度を有することが必要
である。また、剥離により下の金属薄膜も同時に
支持体より取り去るために、他の層の界面におけ
る接着力よりも金属薄膜と強固な接着力を有する
ことが必要である。
フ画像に形成後剥離するので、良好なフイルム形
成性及び適当なフイルム強度を有することが必要
である。また、剥離により下の金属薄膜も同時に
支持体より取り去るために、他の層の界面におけ
る接着力よりも金属薄膜と強固な接着力を有する
ことが必要である。
感光層はバインダー用高分子化合物および感光
剤からなる感光性組成物層一層で形成しても良
く、皮膜性を有する高分子化合物層を下層に感光
性組成物層を上層に積層した2層構造にしても良
い。
剤からなる感光性組成物層一層で形成しても良
く、皮膜性を有する高分子化合物層を下層に感光
性組成物層を上層に積層した2層構造にしても良
い。
この場合、感光層を2層構造にしたものでは、
感光剤としての機能と剥離のための皮膜の機能と
を分離できるので、感光性組成物層一層のように
剥離性と感度低下防止を考慮する必要がなくな
る。
感光剤としての機能と剥離のための皮膜の機能と
を分離できるので、感光性組成物層一層のように
剥離性と感度低下防止を考慮する必要がなくな
る。
感光性組成物としてはネガ型、ポジ型の両者を
用いることができる。
用いることができる。
ネガ型の感光性組成物に用いられる感光剤とし
ては、4−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドとの縮合
物、4−ジアゾジフエニルアミン四弗化硼酸塩と
ホルムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエ
ニルアミン・ドデシルベンゼンスルホン酸塩のホ
ルムアルデヒド縮合物がある。感光層を感光性組
成物一層で形成するときはバインダー用高分子化
合物に対する感光剤の含有量は3〜50%であり、
望ましくは5〜30%である。
ては、4−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドとの縮合
物、4−ジアゾジフエニルアミン四弗化硼酸塩と
ホルムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエ
ニルアミン・ドデシルベンゼンスルホン酸塩のホ
ルムアルデヒド縮合物がある。感光層を感光性組
成物一層で形成するときはバインダー用高分子化
合物に対する感光剤の含有量は3〜50%であり、
望ましくは5〜30%である。
ネガ型の感光性組成物に用いられるバインダー
用高分子化合物としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメタクリレートとマレイン酸共重
合体、アルコール可溶性ポリアミド、アクリルア
ミドとダイアセトンアクリルアミドの共重合体、
部分ケン化酢酸ビニルがある。これらの高分子化
合物は単独でも2種以上を組合せても用いること
ができる。
用高分子化合物としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメタクリレートとマレイン酸共重
合体、アルコール可溶性ポリアミド、アクリルア
ミドとダイアセトンアクリルアミドの共重合体、
部分ケン化酢酸ビニルがある。これらの高分子化
合物は単独でも2種以上を組合せても用いること
ができる。
ポジ型の感光性組成物の感光剤としては、オル
ソキノンジアジド化合物がある。この場合、感光
性マスク層を感光性組成物一層で形成するとき
は、バインダー用高分子化合物に対する感光剤の
含有量は5〜50%であり、望ましくは10〜30%で
ある。
ソキノンジアジド化合物がある。この場合、感光
性マスク層を感光性組成物一層で形成するとき
は、バインダー用高分子化合物に対する感光剤の
含有量は5〜50%であり、望ましくは10〜30%で
ある。
ポジ型の感光性組成物のバインダー用高分子化
合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合
体、ポリビニル−3−メトキシ−4−ヒドロキシ
ベンザール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニルがあり、これらの高
分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用い
ることができる。
合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合
体、ポリビニル−3−メトキシ−4−ヒドロキシ
ベンザール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニルがあり、これらの高
分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用い
ることができる。
2層構造の感光層における皮膜層には、先に掲
げた感光性組成物層の形成に用いるバインダー用
高分子化合物の他に、これに使用できない強靭な
高分子化合物をも用いることができる。例として
は、カプロラクタム、ヘキサメチレンジアミンア
ジペートと4,4′−ジアミノジシクロヘキシルメ
タンアジペートの共重合体、各種ポリアミドのN
−メチロール誘導体などアルコール可溶性ポリア
ミドがある。
げた感光性組成物層の形成に用いるバインダー用
高分子化合物の他に、これに使用できない強靭な
高分子化合物をも用いることができる。例として
は、カプロラクタム、ヘキサメチレンジアミンア
ジペートと4,4′−ジアミノジシクロヘキシルメ
タンアジペートの共重合体、各種ポリアミドのN
−メチロール誘導体などアルコール可溶性ポリア
ミドがある。
感光性組成物層中には、その感光機構に悪影響
を及ぼさない限り、染料または顔料を添加するこ
とができる。本発明においては金属薄膜層により
遮光性を持たせているので遮光性付与のためには
不要であるが、この添加によつて画像の状態の確
認を容易にし、特にレリーフ画像の端部がシヤー
プに仕上がつたか否かの確認を容易にすることが
できる。
を及ぼさない限り、染料または顔料を添加するこ
とができる。本発明においては金属薄膜層により
遮光性を持たせているので遮光性付与のためには
不要であるが、この添加によつて画像の状態の確
認を容易にし、特にレリーフ画像の端部がシヤー
プに仕上がつたか否かの確認を容易にすることが
できる。
次にかかる感光材料を用いた製版用マスク版の
作成について述べる。
作成について述べる。
透明フイルム9上に下引層19、金属薄膜層1
0、感光性マスク層11が順次形成された感光性
材料12(第2図参照)に、第3図aに示すよう
にネガテイブ又はポジテイブのくくり線原稿13
を重ねて活性光線を露光し、現像すると、感光層
11のタイプに応じて露光部分又は未露光部分が
溶出し、例えば図のように原稿13のくくり線1
4に相当するところが溝15になつたネガテイブ
なレリーフ画像16が形成される。この場合、感
光層11が高分子化合物の皮膜層と感光性組成物
層の2層からなるときは感光性組成物層の現像の
他に高分子化合物の皮膜層のエツチング処理を要
する。
0、感光性マスク層11が順次形成された感光性
材料12(第2図参照)に、第3図aに示すよう
にネガテイブ又はポジテイブのくくり線原稿13
を重ねて活性光線を露光し、現像すると、感光層
11のタイプに応じて露光部分又は未露光部分が
溶出し、例えば図のように原稿13のくくり線1
4に相当するところが溝15になつたネガテイブ
なレリーフ画像16が形成される。この場合、感
光層11が高分子化合物の皮膜層と感光性組成物
層の2層からなるときは感光性組成物層の現像の
他に高分子化合物の皮膜層のエツチング処理を要
する。
次いで第3図bのようにマスクする部分16′
を残してレリーフ画像16を剥取ると、下の金属
薄膜層10も一緒にレリーフ画像と同形に剥取ら
れ、必要な画像が凹部17として形成されたマス
ク版18が得られる。
を残してレリーフ画像16を剥取ると、下の金属
薄膜層10も一緒にレリーフ画像と同形に剥取ら
れ、必要な画像が凹部17として形成されたマス
ク版18が得られる。
ここで原稿13のくくり線14に対応する金属
薄膜層の部分15′は、その上にレリーフ画像1
6がないので剥離されず下引層19、従つて透明
フイルム9上に残り、活性光線を照射したときく
くり線に相当する部分は遮光される。原稿13の
くくり線14には他の色のマスク版を作成するた
めに使用されるものが含まれているが、金属薄膜
層として残存しているため従来行なつていた修正
液による隠蔽、消去の作業が不要となる。また従
来の感光性材料から同一原稿を用いて他の色のマ
スク版を作成すると該マスク版ではくくり線に相
当する部分は溝に形成され遮光しないようになつ
ているので、これと上記のように作成したマスク
版とを組合せることにより、異なる色をぴつたり
突き合せて印刷できる版画を製版できる。
薄膜層の部分15′は、その上にレリーフ画像1
6がないので剥離されず下引層19、従つて透明
フイルム9上に残り、活性光線を照射したときく
くり線に相当する部分は遮光される。原稿13の
くくり線14には他の色のマスク版を作成するた
めに使用されるものが含まれているが、金属薄膜
層として残存しているため従来行なつていた修正
液による隠蔽、消去の作業が不要となる。また従
来の感光性材料から同一原稿を用いて他の色のマ
スク版を作成すると該マスク版ではくくり線に相
当する部分は溝に形成され遮光しないようになつ
ているので、これと上記のように作成したマスク
版とを組合せることにより、異なる色をぴつたり
突き合せて印刷できる版画を製版できる。
また、第4図のように、下引層19を選択的に
溶解し、他の層を溶解しない適当な溶液を用いて
溝15の部分を擦過すれば、金属薄膜を浸透して
下引層が溶解されるため、くくり線に相当する金
属薄膜層10も除去されて透明な溝20になり、
従来の感光性材料と同様の効果を生じ、同様の用
途に使用できる。本発明の感光性組成物は、印刷
製版用のマスク材料として有用であるばかりでな
く、金属光沢を持つ画像を利用した装飾用途、更
に画像を形成後、不必要部分を剥離して残る金属
画像の導電性を利用して電気的用途(例えばプリ
ント配線基板)にも使用することができる。
溶解し、他の層を溶解しない適当な溶液を用いて
溝15の部分を擦過すれば、金属薄膜を浸透して
下引層が溶解されるため、くくり線に相当する金
属薄膜層10も除去されて透明な溝20になり、
従来の感光性材料と同様の効果を生じ、同様の用
途に使用できる。本発明の感光性組成物は、印刷
製版用のマスク材料として有用であるばかりでな
く、金属光沢を持つ画像を利用した装飾用途、更
に画像を形成後、不必要部分を剥離して残る金属
画像の導電性を利用して電気的用途(例えばプリ
ント配線基板)にも使用することができる。
次に本発明を実施例に基づき更に詳述する。
実施例 1
平均重合度1700の完全ケン化ポリビニルアルコ
ール10g及び4−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩
とホルムアルデヒドとの縮合物0.5gを、水89.5
mlに溶解し、固型分含有量10.5%の感光性組成物
溶液を調製した。
ール10g及び4−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩
とホルムアルデヒドとの縮合物0.5gを、水89.5
mlに溶解し、固型分含有量10.5%の感光性組成物
溶液を調製した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面に塩素化ポリエチレン(昭和電工
社製商品名エラスロン)のトルエン溶液を塗布乾
燥し薄厚0.1μの下引層を得たのち、アルミニウム
を真空蒸着して膜厚100mμのアミニウム薄膜層を
形成した。
フイルムの片面に塩素化ポリエチレン(昭和電工
社製商品名エラスロン)のトルエン溶液を塗布乾
燥し薄厚0.1μの下引層を得たのち、アルミニウム
を真空蒸着して膜厚100mμのアミニウム薄膜層を
形成した。
次にアルミニウム薄膜層上に前記の感光性組成
物溶液を、乾燥後の膜厚が10μとなるような量
で、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾
燥して感光層を形成し、画像形成材料を得た。
物溶液を、乾燥後の膜厚が10μとなるような量
で、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾
燥して感光層を形成し、画像形成材料を得た。
この感光層上にポジのくくり線原稿を密着さ
せ、1m離れた2kW高圧水銀灯から50秒間光を照
射した。このフイルムを流水にて現像すると、ア
ルミニウム薄膜層上に原稿に忠実なネガのレリー
フ画像が得られた。
せ、1m離れた2kW高圧水銀灯から50秒間光を照
射した。このフイルムを流水にて現像すると、ア
ルミニウム薄膜層上に原稿に忠実なネガのレリー
フ画像が得られた。
このレリーフ画像を針等で選択的に剥離するこ
とにより、アルミニウム薄膜層は剥離したレリー
フ画像のところが一緒に同形に剥がされ他の部分
が残存された遮光性の高いマスク版ができた。
とにより、アルミニウム薄膜層は剥離したレリー
フ画像のところが一緒に同形に剥がされ他の部分
が残存された遮光性の高いマスク版ができた。
この方法により作成した各色のマスク版は、全
面に修正液を塗布する必要もなく、直ちに製版に
使用でき作業工程を軽減させることができ、トル
エン溶液を浸ました綿棒を用いて部分的に除去し
たいくくり線に相当する金属薄膜層を擦過させた
ところ、容易かつ迅速にこの部分が除去でき部分
修正ができた。
面に修正液を塗布する必要もなく、直ちに製版に
使用でき作業工程を軽減させることができ、トル
エン溶液を浸ました綿棒を用いて部分的に除去し
たいくくり線に相当する金属薄膜層を擦過させた
ところ、容易かつ迅速にこの部分が除去でき部分
修正ができた。
実施例 2
平均重合度700のアクリルアミド−ダイアセト
ンアクリルアミド共重合体(共重合比6:4)10
g、4−ジアゾジフエニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの縮合物0.7gを水89.3mlに溶
解し、固型分含有量10.7%の感光性組成物溶液を
調整した。
ンアクリルアミド共重合体(共重合比6:4)10
g、4−ジアゾジフエニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの縮合物0.7gを水89.3mlに溶
解し、固型分含有量10.7%の感光性組成物溶液を
調整した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面にフツ素ゴム(金陽社製商品名パ
ーフロン)のメチルエチルケトン溶液を塗布乾燥
し、膜厚0.2μの下引層を得たのち、銅をスパツタ
リング法によりアルゴンガス圧5×10-3torrでコ
ーテイングし、膜厚100mμの銅薄膜層を形成し
た。
フイルムの片面にフツ素ゴム(金陽社製商品名パ
ーフロン)のメチルエチルケトン溶液を塗布乾燥
し、膜厚0.2μの下引層を得たのち、銅をスパツタ
リング法によりアルゴンガス圧5×10-3torrでコ
ーテイングし、膜厚100mμの銅薄膜層を形成し
た。
銅薄膜上に前記の感光性組成物溶液を、乾燥後
の膜厚が10μとなるような量で、ワイヤーバーを
用いて塗布後90℃で3分間乾燥して画像形成材料
を得た。
の膜厚が10μとなるような量で、ワイヤーバーを
用いて塗布後90℃で3分間乾燥して画像形成材料
を得た。
この画像形成材料を、実施例1に従つて露光、
現像すると銅薄膜上に原稿に忠実なネガのレリー
フ画像が得られた。
現像すると銅薄膜上に原稿に忠実なネガのレリー
フ画像が得られた。
レリーフ画像を部分的に剥離したマスク版は修
正の必要もなく直ちに製版に使用でき、メチルエ
チルケトンを用いて実施例1と同様に部分修正が
容易にできた。
正の必要もなく直ちに製版に使用でき、メチルエ
チルケトンを用いて実施例1と同様に部分修正が
容易にできた。
実施例 3
ホルマール分81%、アセテート分9〜13%、ア
ルコール分5〜6.5%のポリビニルホルマール樹
脂10g及び、1,2−ナフトキノン−ジアジド(2)
−4−スルフオン酸のノボラツクエステル3gを
1ポリエチレングリコールモノエチルエーテル20
g、メタノール10g、トルエン57gに溶解し固型
分含有量13%の感光性組成物溶液とした。
ルコール分5〜6.5%のポリビニルホルマール樹
脂10g及び、1,2−ナフトキノン−ジアジド(2)
−4−スルフオン酸のノボラツクエステル3gを
1ポリエチレングリコールモノエチルエーテル20
g、メタノール10g、トルエン57gに溶解し固型
分含有量13%の感光性組成物溶液とした。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面に線状ポリエステル樹脂(東洋紡
社製商品名バイロン200)のメチルエチルケトン
溶液を塗布乾燥し、膜厚0.1μの下引層を得た後、
アルミニウムを真空蒸着し、膜厚100mμのアルミ
ニウム薄膜層を形成した。
フイルムの片面に線状ポリエステル樹脂(東洋紡
社製商品名バイロン200)のメチルエチルケトン
溶液を塗布乾燥し、膜厚0.1μの下引層を得た後、
アルミニウムを真空蒸着し、膜厚100mμのアルミ
ニウム薄膜層を形成した。
アルミニウム薄膜上に、前記の感光性組成物溶
液を、乾燥後の膜厚が5μとなるような量で、ワ
イヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て、画像形成材料を得た。
液を、乾燥後の膜厚が5μとなるような量で、ワ
イヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て、画像形成材料を得た。
感光層上にネガのくくり線原稿を密着させ、実
施例1の光源にて50秒間露光した。
施例1の光源にて50秒間露光した。
次いでサルチル酸ナトリウム300g、水酸化ナ
トリウム10gを水700mlに溶解させて現像液を調
整し、前記露光済フイルムを浸漬して約5分間現
像した。
トリウム10gを水700mlに溶解させて現像液を調
整し、前記露光済フイルムを浸漬して約5分間現
像した。
水洗、乾燥して得られたフイルムには、アルミ
薄膜上に、原稿に忠実なネガ画像が形成されてお
り、実施例1,2と同様に修正液による処理をす
ることなく選択的に剥離して、そのままマスク版
として製版に供することができ、実施例2と同様
に部分修正が容易にできた。
薄膜上に、原稿に忠実なネガ画像が形成されてお
り、実施例1,2と同様に修正液による処理をす
ることなく選択的に剥離して、そのままマスク版
として製版に供することができ、実施例2と同様
に部分修正が容易にできた。
実施例 4
カプロラクタム、ヘキサトチレンジアミンアジ
ペート及び4,4′−ジアミノジシクロヘキシルメ
タンアジペートの共重合体(BASF社より
ULTRAMID−ICとして市販)の10%のメタノ
ール溶液を調整した。
ペート及び4,4′−ジアミノジシクロヘキシルメ
タンアジペートの共重合体(BASF社より
ULTRAMID−ICとして市販)の10%のメタノ
ール溶液を調整した。
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの片面に実施例1と同様の下引層を成膜した
後、アルミニウムを100mμ真空蒸着した100μのポ
リエステルフイルムのアルミの上に上記の液を塗
布乾燥して10μの塗膜とした。
ルムの片面に実施例1と同様の下引層を成膜した
後、アルミニウムを100mμ真空蒸着した100μのポ
リエステルフイルムのアルミの上に上記の液を塗
布乾燥して10μの塗膜とした。
更にこの上にナフトキノン(1,2)ジアジド
(2)−5−スルホン酸ソーダのノボラツクレジンエ
ステルの20%のメチルエチルケトン、トルオール
(1:1)溶液を3μの乾燥塗膜となるよう塗布し
た。
(2)−5−スルホン酸ソーダのノボラツクレジンエ
ステルの20%のメチルエチルケトン、トルオール
(1:1)溶液を3μの乾燥塗膜となるよう塗布し
た。
このフイルムを原稿と合わせ紫外線露光後、カ
セイソーダのアルカリ水溶液で現像した。
セイソーダのアルカリ水溶液で現像した。
更に感光面上をP−クロル安息香酸の中性塩の
20%水溶液でこするとアルミ層上にレリーフ画像
ができた。このレリーフ画像をナイフ等で、持ち
上げ剥離すると、レリーフ下部のアルミ層も剥離
して、マスク版ができ、修正液による処理を施す
ことなくそのまま製版に供することができ、実施
例と同じ溶液を用いて部分修正が容易になされ
た。
20%水溶液でこするとアルミ層上にレリーフ画像
ができた。このレリーフ画像をナイフ等で、持ち
上げ剥離すると、レリーフ下部のアルミ層も剥離
して、マスク版ができ、修正液による処理を施す
ことなくそのまま製版に供することができ、実施
例と同じ溶液を用いて部分修正が容易になされ
た。
以上の実施例からも明らかなように本発明の製
版用感光性材料は、透明フイルム支持体の上に金
属薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれと強固に
接着しかつ皮膜性を有する感光層を形成し、支持
体を金属薄膜層との間に下引層を介在して構成さ
れ、写真処理によつて形成された感光層のレリー
フ画像を選択的に剥離することによつて一緒に金
属薄膜層を剥離したレリーフ画像と同形に剥取
り、原稿のくくり線に対応する金属薄膜層の部分
は透明フイルム上に残存させて遮光性を有するよ
うにしているので、各色のマスク版を作成するに
あたり修正液による隠蔽、消去の作業が不要とな
り、製版の作業能力が著しく向上すると共に、く
くり線の金属薄膜における部分修正が極めて容
易、かつ迅速にできるという秀れた効果をもたら
す。
版用感光性材料は、透明フイルム支持体の上に金
属薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれと強固に
接着しかつ皮膜性を有する感光層を形成し、支持
体を金属薄膜層との間に下引層を介在して構成さ
れ、写真処理によつて形成された感光層のレリー
フ画像を選択的に剥離することによつて一緒に金
属薄膜層を剥離したレリーフ画像と同形に剥取
り、原稿のくくり線に対応する金属薄膜層の部分
は透明フイルム上に残存させて遮光性を有するよ
うにしているので、各色のマスク版を作成するに
あたり修正液による隠蔽、消去の作業が不要とな
り、製版の作業能力が著しく向上すると共に、く
くり線の金属薄膜における部分修正が極めて容
易、かつ迅速にできるという秀れた効果をもたら
す。
第1図a,bは従来の製版用マスク材料におけ
るネガテイブなレリーフ画像を選択的に剥離し
て、マスク版を作成するところを説明するための
断面図、第2図は本発明のマスク材料を示す断面
図、第3図a,bは本発明のマスク材料における
マスク版を作成するところを説明するための断面
図、第4図は第3図a,bのくくり線に相当する
金属薄膜を部分的に修正除去する状態を示す断面
図である。 9……透明フイルム、10……金属薄膜層、1
1……感光性層、19……下引層。
るネガテイブなレリーフ画像を選択的に剥離し
て、マスク版を作成するところを説明するための
断面図、第2図は本発明のマスク材料を示す断面
図、第3図a,bは本発明のマスク材料における
マスク版を作成するところを説明するための断面
図、第4図は第3図a,bのくくり線に相当する
金属薄膜を部分的に修正除去する状態を示す断面
図である。 9……透明フイルム、10……金属薄膜層、1
1……感光性層、19……下引層。
Claims (1)
- 1 透明フイルムを支持体としてこれに金属薄膜
層を形成し、該薄膜層の上にこれと強固に接着し
かつ皮膜性を有する感光層を形成し、該支持体と
金属薄膜層の間に前記金属薄膜層を浸透可能な溶
液により溶解される下引層を設けたことを特徴と
する感光性材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58049341A JPS59210443A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 感光性材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58049341A JPS59210443A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 感光性材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59210443A JPS59210443A (ja) | 1984-11-29 |
| JPH037102B2 true JPH037102B2 (ja) | 1991-01-31 |
Family
ID=12828295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58049341A Granted JPS59210443A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 感光性材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59210443A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59191029A (ja) * | 1983-04-13 | 1984-10-30 | Kimoto & Co Ltd | 金属画像形成材料 |
-
1983
- 1983-03-24 JP JP58049341A patent/JPS59210443A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59210443A (ja) | 1984-11-29 |
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