JPH0542660B2 - - Google Patents
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- JPH0542660B2 JPH0542660B2 JP59053319A JP5331984A JPH0542660B2 JP H0542660 B2 JPH0542660 B2 JP H0542660B2 JP 59053319 A JP59053319 A JP 59053319A JP 5331984 A JP5331984 A JP 5331984A JP H0542660 B2 JPH0542660 B2 JP H0542660B2
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- JP
- Japan
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- layer
- thin film
- photosensitive
- metal thin
- film layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/04—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性画像形成材料に関し、特に装飾
用途に好ましく用いられる感光性画像形成材料に
関する。
用途に好ましく用いられる感光性画像形成材料に
関する。
本発明者は支持体上に金属薄膜層、感光層を順
次設けてなる感光性材料に写真処理を施して製版
用マスク版を作成する方法について特願昭58−
49341号として出願している。この方法を概略述
べると、ネガテイブまたはポジテイブの原稿を感
光性材料に焼付け次いでそのマスク層(感光層)
に応じて現像もしくは現像とエツチング処理を行
うと感光性材料の金属薄膜層上に原稿に相当する
レリーフ画像が形成される。
次設けてなる感光性材料に写真処理を施して製版
用マスク版を作成する方法について特願昭58−
49341号として出願している。この方法を概略述
べると、ネガテイブまたはポジテイブの原稿を感
光性材料に焼付け次いでそのマスク層(感光層)
に応じて現像もしくは現像とエツチング処理を行
うと感光性材料の金属薄膜層上に原稿に相当する
レリーフ画像が形成される。
次いで支持体からレリーフ画像を針、ナイフな
どで剥取ると金属薄膜層も感光層とともにピール
され透明は部分が現われる。
どで剥取ると金属薄膜層も感光層とともにピール
され透明は部分が現われる。
部分修正に於ては支持体と金属薄膜層の間に設
けられている下引層を選択的に溶解する溶液によ
り現像処理後の金属薄膜面を軽くこすることによ
り所望に応じ金属薄膜層を除去し透明な部分を得
ることができる。
けられている下引層を選択的に溶解する溶液によ
り現像処理後の金属薄膜面を軽くこすることによ
り所望に応じ金属薄膜層を除去し透明な部分を得
ることができる。
このように注目すべき特徴を有する製版用材料
であるが、装飾用材料に用いる場合、感光層の色
が単色なため著しく装飾性に乏しいという欠点を
有する。
であるが、装飾用材料に用いる場合、感光層の色
が単色なため著しく装飾性に乏しいという欠点を
有する。
本発明は、かかる難点に鑑みなされたものでそ
の特徴とするところは、支持体上に順次下引層、
金属薄膜層及び感光層を形成して成り、感光層は
金属薄膜層との接着力が、支持体と下引層との接
着力および下引層と金属薄膜との接着力の少なく
とも一方より強く剥離可能な皮膜性を有し着色さ
れているものとし、レリーフ画像を剥離したとき
一緒に下の金属薄膜層を同形に剥離させて必要な
画像を形成し文字等を描いた線に対応する金属薄
膜層は支持体上に常に残存するようにすると共
に、前記感光層を所望の色にすることにより装飾
性に豊んだ画像を得ることができた点にある。
の特徴とするところは、支持体上に順次下引層、
金属薄膜層及び感光層を形成して成り、感光層は
金属薄膜層との接着力が、支持体と下引層との接
着力および下引層と金属薄膜との接着力の少なく
とも一方より強く剥離可能な皮膜性を有し着色さ
れているものとし、レリーフ画像を剥離したとき
一緒に下の金属薄膜層を同形に剥離させて必要な
画像を形成し文字等を描いた線に対応する金属薄
膜層は支持体上に常に残存するようにすると共
に、前記感光層を所望の色にすることにより装飾
性に豊んだ画像を得ることができた点にある。
さらに、該感光層をピールした透明な部分と金
属薄膜層を除去した透明な部分に所望の色を入れ
ることにより1枚の画像の中に金属薄膜を利用し
た多色性の装飾用感光性材料を得ることができ
た。
属薄膜層を除去した透明な部分に所望の色を入れ
ることにより1枚の画像の中に金属薄膜を利用し
た多色性の装飾用感光性材料を得ることができ
た。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の装飾用感光材料は第1図に示すように
支持体9上に下引層19および金属薄膜層10を
順次形成し該薄膜層10の上にこれと強固に接着
しかつ強靭な皮膜性を有し所望の色に着色された
感光層11を形成して構成される。
支持体9上に下引層19および金属薄膜層10を
順次形成し該薄膜層10の上にこれと強固に接着
しかつ強靭な皮膜性を有し所望の色に着色された
感光層11を形成して構成される。
本発明で使用される支持体9としては、平滑な
表面を有し、かつその上に金属薄膜を設けること
ができる熱可塑性高分子化合物のフイルム又は板
が用いられる。例えば、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリ
レートおよびこれらの共重合体、ジアセチルセル
ロース、トリアセチルセルロース、プロピルセル
ロースおよび混合セルロースエステルが挙げられ
る。
表面を有し、かつその上に金属薄膜を設けること
ができる熱可塑性高分子化合物のフイルム又は板
が用いられる。例えば、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリ
レートおよびこれらの共重合体、ジアセチルセル
ロース、トリアセチルセルロース、プロピルセル
ロースおよび混合セルロースエステルが挙げられ
る。
下引層19は、金属薄膜層10を浸透可能な溶
液により溶解される物質であるのが好ましく、支
持体9に強固に接着し、かつ平滑(透明な)塗膜
を形成するものがよく、下引層19の膜厚は2μ
以下が好ましい。これ以上になると溶解したとき
にサイドエツチングが形成されて解像力が低下す
る。各種有機・無機物質が利用できる。
液により溶解される物質であるのが好ましく、支
持体9に強固に接着し、かつ平滑(透明な)塗膜
を形成するものがよく、下引層19の膜厚は2μ
以下が好ましい。これ以上になると溶解したとき
にサイドエツチングが形成されて解像力が低下す
る。各種有機・無機物質が利用できる。
下引層19として例えば、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリン、ポリフツ化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−(無水マレイ
ン酸、アクリロニトリルまたはビニルアルコー
ル)三元共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
−(アクリロニトリル、酢酸ビニルまたはメチル
メタアクリレート)共重合体、アクリル酸エステ
ル−(メチルメタアクリレートまたはスチレン)
共重合体、線状熱可塑性ポリエステルまたはコポ
リエステル例えばポリエチレンテレフタレートま
たはポリエチレンテレフタレート・イソフタレー
ト、アルコール可溶性ポリアミド、ポリウレタ
ン、アセチルセルロース、アセチルブチルセルロ
ース、ニトロセルロース、エチルセルロース、ア
セチルプロピルセルロース、塩素化ポリオレフイ
ン、フツ素ゴム、シリコン系界面活性剤、フツ素
系界面活性剤、シランカツプリング剤がある。
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリン、ポリフツ化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−(無水マレイ
ン酸、アクリロニトリルまたはビニルアルコー
ル)三元共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
−(アクリロニトリル、酢酸ビニルまたはメチル
メタアクリレート)共重合体、アクリル酸エステ
ル−(メチルメタアクリレートまたはスチレン)
共重合体、線状熱可塑性ポリエステルまたはコポ
リエステル例えばポリエチレンテレフタレートま
たはポリエチレンテレフタレート・イソフタレー
ト、アルコール可溶性ポリアミド、ポリウレタ
ン、アセチルセルロース、アセチルブチルセルロ
ース、ニトロセルロース、エチルセルロース、ア
セチルプロピルセルロース、塩素化ポリオレフイ
ン、フツ素ゴム、シリコン系界面活性剤、フツ素
系界面活性剤、シランカツプリング剤がある。
これらの物質は隣接する支持体及び金属薄膜と
の組合せにより感光層11を剥離したときに、支
持体および金属薄膜の何れか一方に接着する。
の組合せにより感光層11を剥離したときに、支
持体および金属薄膜の何れか一方に接着する。
薄膜層10を浸透可能で、下引層19を溶解す
る溶液は、感光層11、金属薄膜層10及び支持
体9を溶解しないものを使用し、水又は、希酸性
または希アルカリ性の水溶液、アルコール系、ケ
トン系、エステル系、炭化水素系、ハロゲン化炭
化水素系、及びこれらの誘導体を含む有機溶剤の
1種または2種以上から選択される。
る溶液は、感光層11、金属薄膜層10及び支持
体9を溶解しないものを使用し、水又は、希酸性
または希アルカリ性の水溶液、アルコール系、ケ
トン系、エステル系、炭化水素系、ハロゲン化炭
化水素系、及びこれらの誘導体を含む有機溶剤の
1種または2種以上から選択される。
金属薄膜層10を形成する金属は、各種の成膜
手段によつて薄膜を形成できるものならばどれで
も使用できる。金属薄膜層の厚さは少くとも20m
μあることが望ましい。これ以下では、装飾用と
して反射効果に乏しい。膜厚の上限に関しては、
1000mμ以下が好ましい。これ以上では、本発明
に従つて部分的に剥離した場合画像の解像力が下
がり画像の仕上がりが悪くなる。
手段によつて薄膜を形成できるものならばどれで
も使用できる。金属薄膜層の厚さは少くとも20m
μあることが望ましい。これ以下では、装飾用と
して反射効果に乏しい。膜厚の上限に関しては、
1000mμ以下が好ましい。これ以上では、本発明
に従つて部分的に剥離した場合画像の解像力が下
がり画像の仕上がりが悪くなる。
成膜方法としては、真空蒸着法、イオンプレー
テイング法、スパツタリング法、無電解メツキ
法、電解メツキ法さらにこれらを組み合わせた方
法が採用される。真空蒸着法により、アルミニウ
ム、亜鉛、金、銀、ニツケル、銅、インジウム、
チタン、コバルトなどが得られ、スパツタリング
法、イオンプレーテイング法等によりさらに各種
合金及び各種化合物例えば、TcN、CuZn(真ち
ゆう)、ITO、Ni−Cr、AlNが成膜可能である。
テイング法、スパツタリング法、無電解メツキ
法、電解メツキ法さらにこれらを組み合わせた方
法が採用される。真空蒸着法により、アルミニウ
ム、亜鉛、金、銀、ニツケル、銅、インジウム、
チタン、コバルトなどが得られ、スパツタリング
法、イオンプレーテイング法等によりさらに各種
合金及び各種化合物例えば、TcN、CuZn(真ち
ゆう)、ITO、Ni−Cr、AlNが成膜可能である。
無電解メツキ法は任意公知方法により銅、ニツ
ケル、コバルト、金、パラジウム、銀、ニツケル
ーコバルト合金等が用いられる。
ケル、コバルト、金、パラジウム、銀、ニツケル
ーコバルト合金等が用いられる。
所望の色に着色された感光層11は、写真処理
を経てレリーフ画像に形成後、剥離するので良好
なフイルム形成性及び適当はフイルム強度を有す
ることが必要である。また剥離により下の金属薄
膜も同時に支持体より取り去るために他の層の界
面における接着力よりも金属薄膜と強固な接着力
を有することが必要である。
を経てレリーフ画像に形成後、剥離するので良好
なフイルム形成性及び適当はフイルム強度を有す
ることが必要である。また剥離により下の金属薄
膜も同時に支持体より取り去るために他の層の界
面における接着力よりも金属薄膜と強固な接着力
を有することが必要である。
感光層はバインダー用高分子化合物、感光剤お
よび着色剤からなる感光性組成物層一層で形成し
てもよく、着色剤を含む皮膜性を有する高分子化
合物層を下層に、感光性組成物層を上層に積層し
た2種構造にしてもよい。また2層構造の場合、
感光性組成物層に着色剤を添加してもよい。
よび着色剤からなる感光性組成物層一層で形成し
てもよく、着色剤を含む皮膜性を有する高分子化
合物層を下層に、感光性組成物層を上層に積層し
た2種構造にしてもよい。また2層構造の場合、
感光性組成物層に着色剤を添加してもよい。
感光性組成物としてはネガ型、ポジ型の両者を
用いることができる。
用いることができる。
ネガ型の感光性組成物に用いられる感光剤とし
ては、4−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドとの縮合
物、4−ジアゾジフエニルアミン四弗化硼酸塩と
ホルムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエ
ニルアミン・ドデシルベンゼンスルホン酸塩のホ
ルムアルデヒド縮合物がある。感光層を感光性組
成物一層で形成するときはバインダー用高分子化
合物に対する感光剤の含有量は3〜50%であり、
望ましくは3〜30%である。
ては、4−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドとの縮合
物、4−ジアゾジフエニルアミン四弗化硼酸塩と
ホルムアルデヒドとの縮合物、4−ジアゾジフエ
ニルアミン・ドデシルベンゼンスルホン酸塩のホ
ルムアルデヒド縮合物がある。感光層を感光性組
成物一層で形成するときはバインダー用高分子化
合物に対する感光剤の含有量は3〜50%であり、
望ましくは3〜30%である。
ネガ型の感光性組成物に用いられるバインダー
用高分子化合物としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメタクリレートとマレイン酸共重
合体、アルコール可溶性ポリアミド、アクリルア
ミドとダイアセトンアクリルアミドの共重合体、
部分ケン化酢酸ビニルがある。これらの高分子化
合物は、単独でも2種以上を組合わせても用いる
ことができる。
用高分子化合物としては、ポリビニルアルコー
ル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメタクリレートとマレイン酸共重
合体、アルコール可溶性ポリアミド、アクリルア
ミドとダイアセトンアクリルアミドの共重合体、
部分ケン化酢酸ビニルがある。これらの高分子化
合物は、単独でも2種以上を組合わせても用いる
ことができる。
ポジ型の感光性組成物の感光剤としては、オル
ソキノンジアジド化合物がある。この場合感光層
を感光性組成物一層で形成するときは、バインダ
ー用高分子化合物に対する感光剤の含有量は5〜
50%であり、望ましくは10〜30%である。
ソキノンジアジド化合物がある。この場合感光層
を感光性組成物一層で形成するときは、バインダ
ー用高分子化合物に対する感光剤の含有量は5〜
50%であり、望ましくは10〜30%である。
ボジ型の感光性組成物のバインダー用高分子化
合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合
体、ポリビニル−3−メトキシ−4−ヒドロキシ
ベンザール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニルがあり、これらの高
分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用い
ることができる。
合物としては、アルカリ可溶性アクリル共重合
体、ポリビニル−3−メトキシ−4−ヒドロキシ
ベンザール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニルがあり、これらの高
分子化合物は単独でも2種以上を組合せても用い
ることができる。
2層構造の皮膜層には先に掲げた感光性組成物
層の形成に用いるバインダー用高分子化合物の他
にこれに使用できない強靭な高分子化合物も用い
ることができる。例としては、カプロラクタム、
ヘキサメチレンジアミンアジペートと4、4'ジア
ミノジシクロヘキシルメタンアジペートの共重合
体、各種ポリアミドのN−メチロール誘導体など
アルコール可溶性ポリアミドがある。
層の形成に用いるバインダー用高分子化合物の他
にこれに使用できない強靭な高分子化合物も用い
ることができる。例としては、カプロラクタム、
ヘキサメチレンジアミンアジペートと4、4'ジア
ミノジシクロヘキシルメタンアジペートの共重合
体、各種ポリアミドのN−メチロール誘導体など
アルコール可溶性ポリアミドがある。
感光層に添加する染料としては例えばイエロー
としてC.I 11020、オレンジとしてC.I 18736A、
レツドとしてC.I 26110、バイオレツトとしてC.I
61100、ブルーとしてC.I 61525、グリーンとして
C.I 61565、ブラウンとしてC.I 12020、ブラツク
としてC.I 50415が用いられる。
としてC.I 11020、オレンジとしてC.I 18736A、
レツドとしてC.I 26110、バイオレツトとしてC.I
61100、ブルーとしてC.I 61525、グリーンとして
C.I 61565、ブラウンとしてC.I 12020、ブラツク
としてC.I 50415が用いられる。
次に、かかる感光性材料を用いた装飾用材料の
作成について述べる。
作成について述べる。
支持体9上に下引層19、金属薄膜層10、着
色された感光層11が順次形成された装飾用感光
性材料12(第1図参照)に第2図aに示すよう
にネガテイブ又はポジテイブの原稿13を重ねて
活性光線を露光し、現像すると、感光層11のタ
イプに応じて露光部分又は末露光部分が溶出し、
例えば図のように原稿13の線14に相当すると
ころが溝15になつたネガテイブな着色されたレ
リーフ画像16が形成される。この場合感光層1
1が高分子化合物の皮膜層と感光性組成物層の2
層からなるときは、感光性組成物層の現像の他に
高分子化合物の皮膜層のエツチング処理を要す
る。
色された感光層11が順次形成された装飾用感光
性材料12(第1図参照)に第2図aに示すよう
にネガテイブ又はポジテイブの原稿13を重ねて
活性光線を露光し、現像すると、感光層11のタ
イプに応じて露光部分又は末露光部分が溶出し、
例えば図のように原稿13の線14に相当すると
ころが溝15になつたネガテイブな着色されたレ
リーフ画像16が形成される。この場合感光層1
1が高分子化合物の皮膜層と感光性組成物層の2
層からなるときは、感光性組成物層の現像の他に
高分子化合物の皮膜層のエツチング処理を要す
る。
次いで第2図bのように他の感光層部分16′
を残してレリーフ画像16を剥取ると下の金属薄
膜層10も一緒にレリーフ画像と同形に剥取ら
れ、必要な画像が凹部17として金属薄膜層のな
い部分が得られる。
を残してレリーフ画像16を剥取ると下の金属薄
膜層10も一緒にレリーフ画像と同形に剥取ら
れ、必要な画像が凹部17として金属薄膜層のな
い部分が得られる。
ここで原稿13の線14に対応する金属薄膜層
の部分15′はその上にレリーフ画像16がない
ので剥離されず下引層19、従つて支持体9上に
残る。
の部分15′はその上にレリーフ画像16がない
ので剥離されず下引層19、従つて支持体9上に
残る。
また第3図のように下引層19を選択的に溶解
し他の層を溶解しない適当な溶液を用いて溝15
の部分を擦過すれば金属薄膜を浸透して下引層が
溶解されるため金属薄膜層10が除去されて透明
な溝20が得られる。
し他の層を溶解しない適当な溶液を用いて溝15
の部分を擦過すれば金属薄膜を浸透して下引層が
溶解されるため金属薄膜層10が除去されて透明
な溝20が得られる。
本発明によれば金属薄膜層により装飾性、遮光
性を持たせていると同時に感光性組成物中に染料
又は顔料を添加し、カラーのレリーフ画像を形成
することによりさらに装飾効果を向上させること
ができる。
性を持たせていると同時に感光性組成物中に染料
又は顔料を添加し、カラーのレリーフ画像を形成
することによりさらに装飾効果を向上させること
ができる。
淡い色の感光層を金属薄膜層の上に積層するこ
とにより、メタリツクカラーの効果を出し、更に
前記したように金属薄膜層を除去した部分と感光
層のレリーフ画像部分を剥離した部分にはさらに
所望の色を入れることもできる。
とにより、メタリツクカラーの効果を出し、更に
前記したように金属薄膜層を除去した部分と感光
層のレリーフ画像部分を剥離した部分にはさらに
所望の色を入れることもできる。
以下に本発明の感光性材料を装飾用途に用いた
場合の実施例について説明する。
場合の実施例について説明する。
実施例 1
平均重合度1700の完全ケン化ポリビニルアルコ
ール10g、メチレンブルー0.06g及び4−ジアゾ
ジフエニルアミン硫酸塩とホルムアルデヒドとの
縮合物0.5gを、水89.5ml溶解し、固型分含有量
10.5%の感光性組成物溶液を調整した。
ール10g、メチレンブルー0.06g及び4−ジアゾ
ジフエニルアミン硫酸塩とホルムアルデヒドとの
縮合物0.5gを、水89.5ml溶解し、固型分含有量
10.5%の感光性組成物溶液を調整した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面に塩素化ポリエチレン(昭和電工
社製商品名エラスレン)のトルエン溶液を塗布乾
燥し膜厚0.1μの下引層を得たのちアルミニウムを
真空蒸着して膜厚100mμのアルミニウム薄膜層
を形成した。
フイルムの片面に塩素化ポリエチレン(昭和電工
社製商品名エラスレン)のトルエン溶液を塗布乾
燥し膜厚0.1μの下引層を得たのちアルミニウムを
真空蒸着して膜厚100mμのアルミニウム薄膜層
を形成した。
次にアルミニウム薄膜層上に前記の感光性組成
物溶液を乾燥後の膜厚が10μとなるような量で、
ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て感光層を形成しブルーの画像形成材料を得た。
物溶液を乾燥後の膜厚が10μとなるような量で、
ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て感光層を形成しブルーの画像形成材料を得た。
このブルーの感光層上に線の入つたポジ原稿を
密着させ1m離れた2kw高圧水銀灯から50秒間光
を照射した。このフイルムを流水にて現像すると
アルミニウム薄膜層上に原稿に忠実なネガのブル
ーレリーフ画像が得られた。
密着させ1m離れた2kw高圧水銀灯から50秒間光
を照射した。このフイルムを流水にて現像すると
アルミニウム薄膜層上に原稿に忠実なネガのブル
ーレリーフ画像が得られた。
ブルーのレリーフ画像を針等で選択的に剥離す
ることよりアルミニウム薄膜層は、剥離したブル
ーのレリーフ画像のところが一緒に同形に剥がさ
れブルーのレリーフ画像部分、アルミ薄膜層部
分、透明な部分の三つの部分からなる装飾用材料
が得られた。さらにトルエン溶液を浸ました線棒
を用いて所望のアルミ薄膜層部分を擦過させたと
ころ容易かつ迅速にこの部分が除去でき望みの色
を加えることができた。
ることよりアルミニウム薄膜層は、剥離したブル
ーのレリーフ画像のところが一緒に同形に剥がさ
れブルーのレリーフ画像部分、アルミ薄膜層部
分、透明な部分の三つの部分からなる装飾用材料
が得られた。さらにトルエン溶液を浸ました線棒
を用いて所望のアルミ薄膜層部分を擦過させたと
ころ容易かつ迅速にこの部分が除去でき望みの色
を加えることができた。
実施例 2
平均重合度700のアクリルアミド−ダイアセト
ンアクリルアミド共重合体(共重合比6:4)10
g、メチルレツド0.05g、4−ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドと縮合物
0.7gを水89.3mlに溶解し、固型分含有量10.7%の
赤色感光性組成物溶液を調整した。
ンアクリルアミド共重合体(共重合比6:4)10
g、メチルレツド0.05g、4−ジアゾジフエニル
アミン塩化亜鉛塩とホルムアルデヒドと縮合物
0.7gを水89.3mlに溶解し、固型分含有量10.7%の
赤色感光性組成物溶液を調整した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面にフツ素ゴム(金陽社製商品名パ
ーフロン)のメチルエチルケトン溶液を塗布乾燥
し、膜厚0.2μの下引層を得たのち銅をスパツタリ
ンク法によりアルゴンガス圧5×10 Torrでコー
テイングし膜厚100mμの銅薄膜層を形成した。
フイルムの片面にフツ素ゴム(金陽社製商品名パ
ーフロン)のメチルエチルケトン溶液を塗布乾燥
し、膜厚0.2μの下引層を得たのち銅をスパツタリ
ンク法によりアルゴンガス圧5×10 Torrでコー
テイングし膜厚100mμの銅薄膜層を形成した。
銅薄膜上に前記の赤色感光性組成物溶液を、乾
燥後の膜厚が10μとなるような量でワイヤーバー
を用いて塗布後90℃で3分間乾燥して赤色の画像
形成材料を得た。
燥後の膜厚が10μとなるような量でワイヤーバー
を用いて塗布後90℃で3分間乾燥して赤色の画像
形成材料を得た。
この画像形成材料を実施例1に従つて露光、現
像すると銅薄膜上に原稿に忠実なネガの赤色レリ
ーフ画像が得られた。赤色レリーフ画像を部分的
に剥離すると透明な部分が得られ、メチルエチル
ケトンを用いて実施例1と同様に部分修正ができ
所望の装飾用材料として使用できた。
像すると銅薄膜上に原稿に忠実なネガの赤色レリ
ーフ画像が得られた。赤色レリーフ画像を部分的
に剥離すると透明な部分が得られ、メチルエチル
ケトンを用いて実施例1と同様に部分修正ができ
所望の装飾用材料として使用できた。
実施例 3
ホルマール分8%、アセテート分9〜13%、ア
ルコール分5〜6.5%のポリビニールホルマール
樹脂10g、ネオザポンブラツクRE0.1g及び1、
2−ナフトキノンジアジド(2)−4−スルフオン酸
のノボラツクエステル3gをエチレングリコール
モノエチルエーテル20g、メタノール10g、トル
エン57gに溶解し、固型分含有量13%の黒色感光
性組成物溶液を調整した。
ルコール分5〜6.5%のポリビニールホルマール
樹脂10g、ネオザポンブラツクRE0.1g及び1、
2−ナフトキノンジアジド(2)−4−スルフオン酸
のノボラツクエステル3gをエチレングリコール
モノエチルエーテル20g、メタノール10g、トル
エン57gに溶解し、固型分含有量13%の黒色感光
性組成物溶液を調整した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面に線状ポリエステル樹脂(東洋紡
社製商品名バイロン200)のメチルエチルケトン
溶液を塗布乾燥し、膜厚0.1μの下引層を得た後ア
ルミニウムを真空蒸着し膜厚100mμのアルミニ
ウム薄膜層を形成した。
フイルムの片面に線状ポリエステル樹脂(東洋紡
社製商品名バイロン200)のメチルエチルケトン
溶液を塗布乾燥し、膜厚0.1μの下引層を得た後ア
ルミニウムを真空蒸着し膜厚100mμのアルミニ
ウム薄膜層を形成した。
アルミニウム薄膜層上に前記の黒色感光性組成
物溶液を乾燥後の膜厚が5μとなるような量で、
ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て黒色の画像形成材料を得た。
物溶液を乾燥後の膜厚が5μとなるような量で、
ワイヤーバーを用いて塗布後90℃で3分間乾燥し
て黒色の画像形成材料を得た。
黒色感光層上にネガの原稿を密着させ、実施例
1の光源にて50秒間露光した。
1の光源にて50秒間露光した。
次いでサリチル酸ナトリウム300g、水酸化ナ
トリウム10gを水700mlに溶解させて現像液を調
整し、前記露光済フイルムを浸漬して約5分間現
像した。
トリウム10gを水700mlに溶解させて現像液を調
整し、前記露光済フイルムを浸漬して約5分間現
像した。
水洗、乾燥して得られたフイルムにはアルミ薄
膜上に、原稿に忠実な黒色のネガ画像が形成され
ており、実施例1および2と同様に選択的に剥離
でき、実施例2と同様にアルミ薄膜の部分修正が
容易にでき、所望の装飾用材料として使用でき
た。
膜上に、原稿に忠実な黒色のネガ画像が形成され
ており、実施例1および2と同様に選択的に剥離
でき、実施例2と同様にアルミ薄膜の部分修正が
容易にでき、所望の装飾用材料として使用でき
た。
以上に実施例からも明らかなように本発明の感
光性材料は、支持体の上に下引層を塗布し次にそ
の上に金属薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれ
と強固に接着しかつ皮膜性を有する着色された感
光層を塗布して構成され、写真処理によつて形成
された感光層のカラーレリーフ画像を選択的に剥
離することによつて剥離したレリーフ画像と一緒
に金属薄膜層を同形に剥取ることができ、この部
分を他の色に置き換えることができるようにして
いる。また原稿の線に対応して金属薄膜層の部分
は支持体上に残存させて装飾性を有するようにし
ており、さらにこの金属薄膜層を適当な溶液を用
いて除去でき、他の色のイメージを入れることが
できて、部分修正が極めて容易かつ迅速にできる
という優れた装飾用材料が得られた。
光性材料は、支持体の上に下引層を塗布し次にそ
の上に金属薄膜層を形成し、該薄膜層の上にこれ
と強固に接着しかつ皮膜性を有する着色された感
光層を塗布して構成され、写真処理によつて形成
された感光層のカラーレリーフ画像を選択的に剥
離することによつて剥離したレリーフ画像と一緒
に金属薄膜層を同形に剥取ることができ、この部
分を他の色に置き換えることができるようにして
いる。また原稿の線に対応して金属薄膜層の部分
は支持体上に残存させて装飾性を有するようにし
ており、さらにこの金属薄膜層を適当な溶液を用
いて除去でき、他の色のイメージを入れることが
できて、部分修正が極めて容易かつ迅速にできる
という優れた装飾用材料が得られた。
第1図は本発明の感光性画像形成材料を示す断
面図、第2図a、bおよび第3図は本発明の感光
性画像形成材料を用いて装飾用レリーフ画像を作
成するところを説明するための断面図である。 9……支持体、10……金属薄膜層、11……
感光層、19……下引層。
面図、第2図a、bおよび第3図は本発明の感光
性画像形成材料を用いて装飾用レリーフ画像を作
成するところを説明するための断面図である。 9……支持体、10……金属薄膜層、11……
感光層、19……下引層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持体上に順次下引層、金属薄膜層及び感光
層を形成して成り、前記感光層は前記金属薄膜層
との接着力が、前記支持体と前記下引層との接着
力および前記下引層と前記金属薄膜層との接着力
の少なくとも一方より強く剥離可能な皮膜性を有
し着色されていることを特徴とする感光性画像形
成材料。 2 前記下引層は、前記金属薄膜層を浸透可能な
溶液により溶解される樹脂を主成分とすることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の感光性画
像形成材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59053319A JPS60196747A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 感光性画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59053319A JPS60196747A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 感光性画像形成材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60196747A JPS60196747A (ja) | 1985-10-05 |
| JPH0542660B2 true JPH0542660B2 (ja) | 1993-06-29 |
Family
ID=12939395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59053319A Granted JPS60196747A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | 感光性画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60196747A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015024498A (ja) * | 2013-06-17 | 2015-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 加飾材パターン付き基板およびその製造方法、加飾材形成用積層材料ならびに加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51135641A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Kimoto & Co Ltd | Photosensitive film |
| JPS5876833A (ja) * | 1981-11-02 | 1983-05-10 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成材料 |
-
1984
- 1984-03-19 JP JP59053319A patent/JPS60196747A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60196747A (ja) | 1985-10-05 |
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