JPS5876833A - 画像形成材料 - Google Patents

画像形成材料

Info

Publication number
JPS5876833A
JPS5876833A JP56174420A JP17442081A JPS5876833A JP S5876833 A JPS5876833 A JP S5876833A JP 56174420 A JP56174420 A JP 56174420A JP 17442081 A JP17442081 A JP 17442081A JP S5876833 A JPS5876833 A JP S5876833A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
solns
image
treating
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56174420A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiyuki Funabashi
船橋 美行
Yoshiaki Shimizu
良昭 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP56174420A priority Critical patent/JPS5876833A/ja
Publication of JPS5876833A publication Critical patent/JPS5876833A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、蒸着層を有する画像形成材料に関する。更に
詳しくは、水系処理液による現像が可能であり、しかも
蒸着層上に感光性樹脂層を設は九場合にも、その画像が
充分な濃度を保ちながら感度低下を伴なわないようにし
た画像形成材料に関する。
この種の画像形成材料において、その画像濃度を得る目
的で金属又は金属状物質層を設けることは、例えば特開
昭50−2925号公報に示されているように公知であ
るが、かかる層の除去には、レジストが耐えないような
強い酸またはアルカリ液を必要とし、良好な画像形成、
液の取シ扱いや排液処理といった面での不利がこの技術
にはみられる。更にまた、レジストを浸さない弱い処理
液ではかかる層の除去には比較的長時間を必要とし、迅
速な現像処理を行なうことが困難である。
これを改良する手段として、アルミニウムに有機物質を
共蒸着する方法が特開昭56−9736号公報に示され
ている。この方法によれば、迅速な現像が可能となるが
、共蒸着という手段を用いるため、アルミニウムと有機
物質間の蒸着の制御が難しいという欠点がある。
この欠点を持九ず、しか・も水系で現像が可能な方法と
して、特開昭48−29502号公報には、感光性樹脂
1脅上に金属蒸着層を設けることが示されている。しか
し、この場合には感光性樹脂層に充分な光を与えるため
に、金属蒸着層に画像としての充分な濃度を持たせるこ
とができず、更に感光材料として見え場合には、感度の
低下が避けられない問題が出て来る。
本発明は、これらの欠点を改、良するために成されたも
のであり、レジストが浸されない弱い水系処理液で現像
が可能な金属又は金属状の画像を侮ることを1つの目的
とし、しかもその画像が感光性樹脂層を設けた場合にも
充分な濃度を持ちながら感度の低下を伴なわないことを
別の目的とし、更にまた製造も容易であることをもう1
つの別の目的とする画像形成材料を提供するものである
本発明の上記目的は、(a)支持体、(b)該支持体上
に設けた水系処理液可溶性又は親和性を有する下引層、
および(6)該下引層上に蒸着された金属層又は金属状
物質層(以下、蒸着層という−を有することを特徴とす
る画像形成材料によって達成される。
本発明の一実施態様に従えに、前記蒸着層上に感光性樹
脂層を設けることをI!#黴とする画像形成材料とする
ことである。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明の蒸着層は、金属又は金属状物質を蒸着法によっ
て非常に薄く設けることができ、適当な光学濃度を持ち
ながら水系処理液に対して溶解性または透過性を持たせ
ることができる。本発明における水系処理液とに、水は
もちろん、水を主成分としたアルカリ水浴液、酸水溶液
、わるいはこれらは少鼠の有機溶媒を混入させた従来公
知のものである。この蒸着層上に画像様のレジストを設
けることにより、そのレジストで覆われなかった部分の
み、蒸着層の下に設けられた水系処理液可溶性又は親和
性を有する下引層へ水系処理液を伝えることができるよ
うになる。この下引層は、水系処8!液の浸透によって
溶解、膨潤あるいは蒸着層との接着性の変化が起こシ、
この時、例えば外部から力を加えることにより、蒸着層
は、最上部に与えたレジストの画像様に除去される。
この際、最上層の画像様レジストは、蒸着層上に感光性
樹脂層を設け、画像露光を施し、次いでこの層を現像す
ることによって、或いは印刷手段を用いて直接蒸着層上
に設けることができる。前者p場合には、解像力の高い
シャープな画像様レジストを得ることが可能であり、後
者の場合にL一度に多数の同一画像のレジストを得るこ
とが可能である。tた本発明者らは、ここで用いる感光
性樹脂層が必ずしも画像様に凹凸を持ったレリーフ状に
ならすとも水に対する浸透性が変化するのみで、最終の
画像を与え得ることを見い出した。
これにより、本発明に用い得る感光性樹脂層の範囲は極
めて広くなった。
本発明の応用としては、通常の可視画像形成材料だけで
なく、現像後にレジストを除去することで、金属パター
ンの導電性を利用したプリント配線および電子回路、さ
らに金属のインキ受答性を利用した耐摩耗性の良い印刷
版などの多種多様な分野に及ぶ、なお、本発明の構成は
前述のものに限定されず、例えば金属層又は金属物質層
が2以上の層構成とされることや、他の公知の補助層等
が付加されてもよい。
以下、本発明による各層について説明する。
支持体としては、その上に設けられる各層を保持しかつ
現像溶媒である水系処理液に溶けないものであれば自由
に選ぶことができるが、板状、シート状またはフィルム
状といった形態のものが好適であり、素材としては陶磁
器、ガラス、金属、合金、プラスチック、紙並びにこれ
らの複合材料などが一般的に用いられる。
水系処理液可溶性又は親和性を有する下引層は、水系処
理液の作用を受けて接着強度が低下する必要がある。更
に乾いた状態では、支持体並びに蒸着層との接着が良好
であることが好ましい。この目的のためには、各種既知
の水系処理液可溶性又は親和性の樹脂を単独或いは複数
で用いることができる。樹脂の代表例としては、水処理
液による処理の場合、ポリビニルアルコール及びその誘
導体、ポリエチレングリコール、ゼラチンなどが挙げら
れ、水あるいはアルカリ水溶液処理の場合、セルロース
及びその誘導体、ポリビニルピロリドン及びその共重合
体、ポリアクリル酸及びその共重合体、アクリル酸エス
テル共重合体、アクリル酸アミド共重合体、メタクリル
酸アミド共重合体、フタル酸共重合体、イソフタル酸共
重合体、アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン共
重合体、無水イタコン酸共重合体、無水マレイン酸共重
合体、スチレン共重合体などを挙けることができる。
また、酸水溶液処理の場合は、例えば、それぞれ側鎖に
ジアルキルアミノ基を有する、ジメチルアミノメチルメ
タクリレート共重合体、ジエチルアミノメチルメタクリ
レート共重合体等を挙けることができる。
本明細書において親和性というのは、水系処理液に濡れ
易いこと、或いは水系処理液で膨潤し易−いことを意味
し、具体的には水系処理液滴下1分後の接触角が40°
以下、好ましくは300.以下であることを意味してい
る。尚、この下引層には接着性と水系処理液可溶性また
は親和性の2つの役割があるため、一層だけでなく二層
に分けてこの目的を達成することもできる。また、この
下引層は、画像の精度の点でなるべく薄い方が好ましく
通常2μ以下、好ましくは1μ以下が良い。この意味か
ら、支持体としてプラスチフス例えばポリエチレンテレ
フタレート又はその複合材料を用いる場合は、プラズマ
重合、プラズマ処理、CVD(ケミカル・ペーパー・デ
ィボジシ1ン)などといった表面処理技法を用いて、数
A〜数千λ程度の下引層を支持体上に設けることも有効
である。
また、この下引層に熱可−塑性樹脂、例えば塩化ビニリ
デン共重合体を用いた場合には、この上に蒸着層を設け
た後に熱処理を施すことによって、下引層或いは下引層
と蒸着層の界面に物理的もしくは化学的変化が起こり、
現像処理時間を短縮することが可能で′Iりり、本発明
にとって好ましい用い方の1つとなる。
蒸着層の蒸着物質としては金属、合金および金属化合物
などの金属状物質が用いられる。具体的。
には、アルミニウム、アンチモン、ヒ素、ベリリウム、
ビスマス、クロム、コバルト、ニオブ、銅、ゲルマニウ
ム、L 鉛、マンガン、ニッケル、パラジウム、セレン
、ケイ素、銀、テルル、スズ、亜鉛、ジルコニウムやこ
れら金属の合金、或いは、これら金属の酸化物、窒化物
、硫化物、ハロゲン化物等を挙げることができ、それぞ
れの遮光性、導電性、耐摩耗性などの%微を生かして、
所額マスク材料、プリント配線や電子回#6あるいは眼
刷版などの各種の分野へ応用することができる。これら
の物質は、一般的な真空蒸層法によって蒸着することが
できる。本発明の応用のうち最も一般的な用い方の1つ
は、蒸着層をマスクとして利用す尿光透過型の画像形成
材料であシ、この場合には該蒸着層が適当な濃度を持つ
ことが費求される。
従ってマスクの光学濃iは1.5以上、好ましくは25
以上必債であり、これと水系処理液浸透性を満足するた
めに該蒸着層の厚さは100A〜3000^の範囲にな
るのが望ましい。
本発明においてレジストは、前記蒸着層上に設けた感光
性樹脂層に画一様露光を施し、次いで該層を現像するこ
とによって設けることができるし、或いは前記蒸着層上
にインキ等の水系処理液に対してレジスト性を持つ物質
を画像様に印刷すること等の他の方法によって設けるこ
ともできる。本発明において感光性樹脂層を利用する場
合、該層はuni偉様の露光が与えられた後、溶媒によ
って現像されてレジストを形成するが、この時溶媒に金
属処理液と同じ水系処理液を用いれば、該層の現像と同
時に蒸着層の現碑も行なわれることとなり、−同の処理
で目的とする画像を得ることができ、より好ましい態様
と表る。そのためには該層は、光の作用によシ水系処理
液に対する溶解性が変化するか、または水系処理液浸透
性の変化することが必要であシ、このためには公知のジ
アゾ系、アジド糸、キノンジアジド系等の感光性組成物
、および水系処理液可溶性バインダーと水系処理液可溶
性もしくは油溶性モノマーと開始剤の組み合わせによる
光重合系の感光性組成物を用いることができる。
本発明において、その他の構成層、例えば蒸着層と感光
性樹脂層との間に中間層を設けること、およびl又は該
感光性樹脂層上に保護層を設ける等としてもよい。
次に実施例をあげて本発明を説明するが、本発明の実施
態様は、これらによって何ら限定されるものではない。
実施例1 ポリエチレンテレフタレート(以下PETと略す)フィ
ルム支持体上に、フェノールをPETO膨潤剤として用
いて、厚さα5μのスチレンとマレイン酸ナトリウムの
共重合体(モル比で1:l)の下引層を設け、その上に
アルミニウムを真空蒸着で光学濃度2.5に表るように
蒸着した。更にその蒸着層上に、ポリビニルアルコール
(日本合成社製GL−05)とポリアクリル酸エステル
(日本綿某社製ジュリマーAT−515L)及びジアゾ
樹脂(フェアマウント社製#4)より成る感光性樹脂層
(重量比で3ニア:1)を厚さ2μになるように設け、
画像形成材料の試料とした。この試料に原稿を密着し、
アイドルフィン2000 (岩崎電機■製2KWメタル
ハライド)で30秒間画像露光を与え、流水下スポンジ
でこすり現像を行なったところ、良好な画像濃度のアル
ミニウムネガ画像、が得られた。
実施例2 実施例1と同じ支持体、下引層および蒸着層から成るも
のの上に、エポキシ樹脂(シェルケミカル社製、エポン
103])と、p−ジアゾジフェニルアミンのp−トル
エンスルホン酸塩トホルムアルデヒドとの縮合物より成
る感光性樹脂層(重量比でio:i)を厚さ3μで設け
、実施例1と同様の画像露光および現像を行なったとこ
ろ、良好なアルミニウムネガ画像が得られた。
実施例3 PET支持体上に7エノールを該支持体の膨潤剤として
用い、厚さ0.3μのアクリル酸メチル/塩化ビニリデ
ン/無水イタコン酸の共重合体(モル比で19ニア8:
3)の第1下引層を設け、この第1下引層上にポリアク
リル酸(日本紬薬社製ジエリマーAC−10L)の第2
下引層を塗布して、全体として厚さ0.8μの下引層と
した。この下引層の上に実施例1と同じ蒸着層および感
光性樹脂層を設け、同様の画像露光および現像を行なっ
たとζろ2分間の現像で高濃度の画像が得られた。
実施例4 冥施例3と同じ支持体、下引層および蒸着層から成るも
のを110℃で2分間熱処理し、室温に戻してからさら
に実施例3と同じ感光性樹脂層を設けて、同様の画像露
光および現像を行なったところ、1分間の現像で高濃度
の画像が得られた。
実施例5 実施例1と同じ支持体、下引層および蒸着層から成るも
のの上に、印刷によって印刷インキ(東洋インキ社製、
ウルトラキングマゼンタ)の画像様レジストを設け、イ
ンキが乾燥してから流水下スポンジでこすり現像を行な
ったところ、良好な濃度の画像が得られた。
実施例6 PET支持体上に、厚さα5μのスチレンとメタクリル
酸共重合体(モル比で7:3)の下引層を設け、その上
にアルミニウムを真空蒸着で光学濃度25になるように
蒸着した。更にこの蒸着層上に、以下の感光性樹脂組成
物を乾燥後の膜厚が1.5μになるように塗布して試料
を得た。
上記試料に原稿を密着し、実施例1と同様の露光装置で
20秒間画像露光を与え、αINの水酸化ナトリウム水
溶液に浸漬したところ、液温25℃、浸漬時間1分間で
、良好な高濃度のアルミニウムネガ画像が得られた。
比較例1 実施例1の画像形成材料の試料から、下引層を除いた比
較の試料を作シ、実施例1と同様の画像g元および現像
を行なったところ、非画線部のアツベニウムが除去でき
ず、アルミニウム画像を得ることはできなかった。
比較例2 実施例6の試料から下引層を除外した比較の試料につい
て、実施例6と同様に行なったところ、アルミニウムの
ネガ画像を得るのに3分間を要した。
特許出願人 小西六写真工業株式会社 代通人弁理士 坂  口   信  昭(ほか1名)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  (1)支持体、(b)該支持体上に設けられ
    死水系処理液可溶性又は親和性を有する下引層、および
    (C)該下引層上に蒸着された金属層又は金属状物質層
    を有することを特徴とする画像形成材料。
  2. (2)  蒸着された金属層又は金属物置層上に感光性
    樹脂層を設けたことを特徴とする特!)’FM求の範囲
    81項記載の画像形成材料。
JP56174420A 1981-11-02 1981-11-02 画像形成材料 Pending JPS5876833A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56174420A JPS5876833A (ja) 1981-11-02 1981-11-02 画像形成材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56174420A JPS5876833A (ja) 1981-11-02 1981-11-02 画像形成材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5876833A true JPS5876833A (ja) 1983-05-10

Family

ID=15978233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56174420A Pending JPS5876833A (ja) 1981-11-02 1981-11-02 画像形成材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5876833A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59191029A (ja) * 1983-04-13 1984-10-30 Kimoto & Co Ltd 金属画像形成材料
JPS60196747A (ja) * 1984-03-19 1985-10-05 Kimoto & Co Ltd 感光性画像形成材料
JPS6168258U (ja) * 1984-10-11 1986-05-10

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59191029A (ja) * 1983-04-13 1984-10-30 Kimoto & Co Ltd 金属画像形成材料
JPS60196747A (ja) * 1984-03-19 1985-10-05 Kimoto & Co Ltd 感光性画像形成材料
JPS6168258U (ja) * 1984-10-11 1986-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3635709A (en) Light-sensitive lithographic plate
JP3381208B2 (ja) リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法
JP3381207B2 (ja) リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法
JP3381209B2 (ja) リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法
EP0186510A2 (en) Multilayer dry-film positive-acting photoresist
JPS589146A (ja) 水不要平版用版材
US4557994A (en) Light-sensitive printing plate with patterned matting layer
JPS5814130A (ja) 像形成物品
JPS5850342B2 (ja) キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ
CA1091969A (en) Photosensitive unilayer film structure cast from a polymeric emulsion dispersion
US4581308A (en) Process for preparation of a masking element for forming a multicolor printing plate
JPS5876833A (ja) 画像形成材料
CA2012258A1 (en) Image-forming material and process for forming images
US6187507B1 (en) Presensitized printing plates
US3922206A (en) Method of photo-etching and photogravure using fission fragment and/or alpha ray etch tracks from toned photographs
US3839037A (en) Light-sensitive structure
US3736138A (en) Process for transferring images from a surface to a temporary surface and to a final surface
US4552826A (en) Method of forming composite image as in add-on non-silver microfiche
US3188211A (en) Pretreatment of metallic base materials to be used in photoengraving processes
EP0048160B1 (en) Photosensitive recording material, and method of half-tone etching
EP0087317B1 (en) Cold water soluble gelatin and process
JPH0327107B2 (ja)
JPH0447301B2 (ja)
JPS58501338A (ja) 微細線写真転写
JPH037102B2 (ja)