JPH0371368B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0371368B2
JPH0371368B2 JP61227434A JP22743486A JPH0371368B2 JP H0371368 B2 JPH0371368 B2 JP H0371368B2 JP 61227434 A JP61227434 A JP 61227434A JP 22743486 A JP22743486 A JP 22743486A JP H0371368 B2 JPH0371368 B2 JP H0371368B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
polymer
carbon
platinum
carbon film
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP61227434A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6385010A (ja
Inventor
Yoshio Yamada
Minoru Shiraishi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP61227434A priority Critical patent/JPS6385010A/ja
Publication of JPS6385010A publication Critical patent/JPS6385010A/ja
Publication of JPH0371368B2 publication Critical patent/JPH0371368B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • Y02E60/12

Landscapes

  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は新規な炭素フイルムの製造法に関する
ものである。
〔従来技術〕
炭素フイルムは電極材料や導電性材料として注
目されている物質である。従来から行われてきた
製造法には、天然黒鉛を強い酸化性溶液中で処理
して生成した酸化黒鉛を基盤に塗布し、乾燥後還
元雰囲気下で炭素化してフイルムを得る方法、天
然黒鉛を硫酸中で電解処理して層間化合物を形成
させ、急熱して得たコロイド状の膨張黒鉛をシー
ト状にして炭素フイルムを製造する方法、炭素や
黒鉛粉を物理的に圧着して賦形する方法、炭素の
蒸着法などがある。また、最近では高分子フイル
ムを出発原料にしてそのまま炭素化したり、可溶
性ポリマーであれば適当な溶剤に溶かしてからガ
ラス板などにキヤストして炭素化する方法が行わ
れている。しかしながら、このような方法ではフ
イルムの厚みを制御することができず、また均一
な膜を得にくいなどの欠点がある。そのため、比
較的薄く、かつ均一な炭素フイルムの工業的な製
造法は確立されていない。
〔発明の目的〕
本発明は前記従来技術とは異なつた方法による
炭素フイルムの製造方法を提供することを目的と
する。
〔発明の構成〕
本発明はベンゼンを支持電解質を含む溶媒に溶
かし、二つの電極間に電気を流して陽極板上に生
成したポリフエニレンフイルムを炭素化して炭素
フイルムを製造する方法である。この方法では印
加する電気量によつて膜厚を容易に制御すること
ができる上に、生成したポリマーは固相で収率よ
く炭素化されるため、膜の形状をほとんど維持し
たまま厚さ2〜30μm程度の炭素フイルムを作る
ことができる。以下に具体的な製造法を述べる。
実施例 1 50mlの三ツ口フラスコの中央に20×20mmの白金
およびニツケルの平板電極を吊るし、窒素ガスを
流しながら塩化アルミニウム4gと塩化テトラー
n−ブチルアンモニウム0.5gを35mlのニトロメ
タンまたはニトロベンゼンに溶かす。これにベン
ゼン2mlを加え、白金極をプラス、ニツケル極を
マイナスとして48mAの直流定電流を印加する。
0.5〜3時間後白金板上のポリマーをアセトン、
加熱した希塩酸で洗い100℃で乾燥する。0.5時間
程度で約10μm、1〜2時間で20μm以上になる。
得られたフイルムを白金か石英ボート上に置き、
アルゴンガスを流しながら3℃/minの昇温速度
で800または1000℃で1時間熱処理することによ
つて所望の炭素フイルムを得る。膜収率としては
75〜80%で、多少収縮するが膜の形状は保たれ
る。
実施例 2 1と同じ反応容器に白金、ニツケル電極を吊る
し、塩化第二銅0.5g、リチウム六フツ化ヒ素0.7
gを35mlのニトロベンゼンに懸濁させる。これに
ベンゼン約4mlを加え、白金極をプラス、ニツケ
ル極をマイナスとして8mAの定電流を印加す
る。1時間後、白金極板上のポリマーをアセトン
で洗つてポリフエニレンフイルムを得る。ポリマ
ー中にドープされたアニオンは、反応後極性を逆
にするかアンモニア水に浸して除く。膜の厚さは
1時間で10〜12μmである。次に前記と同様に得
られたフイルムを炭素化する。収率は800℃処理
で約85%と実施例1よりも高い。
〔発明の効果〕
本発明によつて得られた薄くて均一な炭素フイ
ルムは、電池用電極や各種エレクトロニクス材料
への用途が期待される。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 電解酸化重合法により、ベンゼンから合成し
    た高分子フイルムを炭素化して炭素フイルムを製
    造する方法。
JP61227434A 1986-09-26 1986-09-26 炭素フィルムの製造法 Granted JPS6385010A (ja)

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JPS6385010A JPS6385010A (ja) 1988-04-15
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JPH01282111A (ja) * 1988-05-06 1989-11-14 Toshiba Ceramics Co Ltd 炭素原料の製造方法
JP2011195432A (ja) * 2010-02-26 2011-10-06 Sekisui Chem Co Ltd 薄片化黒鉛の製造方法及び薄片化黒鉛

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JPS6385010A (ja) 1988-04-15

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