JPH0371990A - レーザ用反射ミラー - Google Patents
レーザ用反射ミラーInfo
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- JPH0371990A JPH0371990A JP1204521A JP20452189A JPH0371990A JP H0371990 A JPH0371990 A JP H0371990A JP 1204521 A JP1204521 A JP 1204521A JP 20452189 A JP20452189 A JP 20452189A JP H0371990 A JPH0371990 A JP H0371990A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野Ｊ
本発明は、高出力レーザからのレーザビームを反射する
ための反射ミラーに関するものである。
ための反射ミラーに関するものである。
［従来の技術］
レーザ溶接機等のレーザ加工機においては、炭酸ガスレ
ーザやＹＡＧレーザ等の高出力レーザが用いられており
、この高出力レーザからのレーザビームを反射しその進
行方向を変更するために反射ミラーが設けられている。
ーザやＹＡＧレーザ等の高出力レーザが用いられており
、この高出力レーザからのレーザビームを反射しその進
行方向を変更するために反射ミラーが設けられている。
従来の反射ミラーとしては、第９図に示すように、銅製
のミラー基材１上に反射率の高い金コーティング層２を
形成したもの、或は、第１０図に示すように、ミラー基
材１にニッケルコーティング層３を設けてオプティカル
研磨を容易にした上で、金コーティング層２を形成した
ものが一般的である６ ［発明が解決しようとする課題］ 上述したような従来の反射ミラーにおいては、高温環境
下で使用する際、或はレーザを長時間、高出力で使用す
る際、反射ミラーに生じる数％のレーザビーム吸収によ
って反射ミラーの温度が上昇する。
のミラー基材１上に反射率の高い金コーティング層２を
形成したもの、或は、第１０図に示すように、ミラー基
材１にニッケルコーティング層３を設けてオプティカル
研磨を容易にした上で、金コーティング層２を形成した
ものが一般的である６ ［発明が解決しようとする課題］ 上述したような従来の反射ミラーにおいては、高温環境
下で使用する際、或はレーザを長時間、高出力で使用す
る際、反射ミラーに生じる数％のレーザビーム吸収によ
って反射ミラーの温度が上昇する。
従って、十分な冷却を行わずにこれらの反射ミラーを用
いると、ミラー温度が上昇し、金コーティング層とミラ
ー基材との間、或は金コーティング層とニッケルコーテ
ィング層との間に金属の相互拡散が生じる。第１１図は
、第１０図の反射ミラーを高出力で長時間使用した後の
、金コーティング層とニッケルコーティング層との間の
相互拡散の状態をミラー表面から深さ方向にオージェ分
析した結果を示したものであり、ニッケルがミラー表面
まで拡散し得ることがこの図から分かるであろう、この
ような使用状態を続けると、反射ミラーの反射率が低下
し、ついにはミラーの破損に至ることとなる。第１２図
は、第１０図の反射ミラーの反射率及びミラー温度のレ
ーザビーム照射時間に対する変化を示しており、この図
から、ビーム照射後約５０秒でミラー反射率が低下し、
長時間の使用が困難であることが理解されるであろう。
いると、ミラー温度が上昇し、金コーティング層とミラ
ー基材との間、或は金コーティング層とニッケルコーテ
ィング層との間に金属の相互拡散が生じる。第１１図は
、第１０図の反射ミラーを高出力で長時間使用した後の
、金コーティング層とニッケルコーティング層との間の
相互拡散の状態をミラー表面から深さ方向にオージェ分
析した結果を示したものであり、ニッケルがミラー表面
まで拡散し得ることがこの図から分かるであろう、この
ような使用状態を続けると、反射ミラーの反射率が低下
し、ついにはミラーの破損に至ることとなる。第１２図
は、第１０図の反射ミラーの反射率及びミラー温度のレ
ーザビーム照射時間に対する変化を示しており、この図
から、ビーム照射後約５０秒でミラー反射率が低下し、
長時間の使用が困難であることが理解されるであろう。
また、反射ミラーの破損は、拡散によりミラー表面に出
てきたニッケル又は銅が酸化され、ビーム吸収率が更に
増すことによっても生ずる。反射ミラーを長時間、高温
下で使用する場合、金コーティング層の表面の金も酸化
され、反射率が低下することもある。
てきたニッケル又は銅が酸化され、ビーム吸収率が更に
増すことによっても生ずる。反射ミラーを長時間、高温
下で使用する場合、金コーティング層の表面の金も酸化
され、反射率が低下することもある。
このように、従来の反射ミラーを使用するには、十分な
冷却を行うために、水冷機構が必要不可欠であった。こ
のため、装置全体の寸法が大きくなり、適用可能な被加
工物の範囲が狭められる場合がある。
冷却を行うために、水冷機構が必要不可欠であった。こ
のため、装置全体の寸法が大きくなり、適用可能な被加
工物の範囲が狭められる場合がある。
従って、本発明の主目的は、冷却を行わずとも高温環境
下で長時間使用できる高出力レーザ用反射ミラーを提供
することにある。
下で長時間使用できる高出力レーザ用反射ミラーを提供
することにある。
［課題を解決するための手段コ
上記目的を遠戚するために、第１の発明は、ミラー基材
上に、レーザビームを反射する金コーティング層のよう
な高反射率金属コーティング層が形成されているレーザ
用反射ミラーにおいて、前記高反射率金属コーティング
層の裏面側に拡散係数の小さなコーティング層を設けた
ことを特徴としている。
上に、レーザビームを反射する金コーティング層のよう
な高反射率金属コーティング層が形成されているレーザ
用反射ミラーにおいて、前記高反射率金属コーティング
層の裏面側に拡散係数の小さなコーティング層を設けた
ことを特徴としている。
また、第２の発明は、高反射率金属コーティング層の表
面上に少なくとも１層の誘電体コーティング層を設けた
ことを特徴としている。
面上に少なくとも１層の誘電体コーティング層を設けた
ことを特徴としている。
更に、第３の発明は、高反射率金属コーティング層の裏
面側に拡散係数の小さなコーティング層を設けると共に
、高反射率金属コーティング層を設けたことを特徴とし
ている。
面側に拡散係数の小さなコーティング層を設けると共に
、高反射率金属コーティング層を設けたことを特徴とし
ている。
［作用］
第１の発明においては、高反射率金属コーティング層と
、ミラー基材若しくはニッケルコーティング層のような
下地金属コーティング層との間に、タングステン等の拡
散係数の小さいコーティング層が介在されるので、高反
射率金属コーティング層に他の金属が拡散してその反射
率を低下させるということがなくなる。
、ミラー基材若しくはニッケルコーティング層のような
下地金属コーティング層との間に、タングステン等の拡
散係数の小さいコーティング層が介在されるので、高反
射率金属コーティング層に他の金属が拡散してその反射
率を低下させるということがなくなる。
また、第２の発明によれば、酸化アルミニウム（＾１２
０３）や酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ケイ素（Ｓｉ０
２）等のＭ電体コーティング層を高反射率金属コーティ
ング層上に形成することで、高反射率金属コーティング
層の酸化が防止されると共に、その反射率が改善される
。
０３）や酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ケイ素（Ｓｉ０
２）等のＭ電体コーティング層を高反射率金属コーティ
ング層上に形成することで、高反射率金属コーティング
層の酸化が防止されると共に、その反射率が改善される
。
第３の発明は第１の発明と第２の発明を合体させたもの
で、その作用効果も第１と第２の発明の作用効果を有す
るものとなっている。
で、その作用効果も第１と第２の発明の作用効果を有す
るものとなっている。
［実施例］
以下、図面と共に本発明の好適な実施例について詳細に
説明する。
説明する。
第１図は、高出力レーザとしてＹＡＧレーザを用いたレ
ーザ溶接機のレーザビーム照射装置１０を示しており、
このレーザビーム照射装置１０内に本発明による反射ミ
ラー１１が組み込まれている。レーザビーム照射装置１
０は、ＹＡＧレーザ（図示しない）に光フアイバー１２
により連結されており、ＹＡＧレーザからのレーザビー
ムが光フアイバー１２を伝搬してレーザビーム照射装置
１０内に入ると、該レーザビームは集光レンズ１３によ
り収束された後、反射ミラー１１によりその進路が直角
に屈曲されるようになっている。図示実施例では、チュ
ーブ１４の内周面でレーザビームが集光され、これによ
りレーザビーム照射装置１０自体又はチューブ１４を一
回転することにより、符号１５で示す如（チューブ１４
の内周面を周溶接することができる。
ーザ溶接機のレーザビーム照射装置１０を示しており、
このレーザビーム照射装置１０内に本発明による反射ミ
ラー１１が組み込まれている。レーザビーム照射装置１
０は、ＹＡＧレーザ（図示しない）に光フアイバー１２
により連結されており、ＹＡＧレーザからのレーザビー
ムが光フアイバー１２を伝搬してレーザビーム照射装置
１０内に入ると、該レーザビームは集光レンズ１３によ
り収束された後、反射ミラー１１によりその進路が直角
に屈曲されるようになっている。図示実施例では、チュ
ーブ１４の内周面でレーザビームが集光され、これによ
りレーザビーム照射装置１０自体又はチューブ１４を一
回転することにより、符号１５で示す如（チューブ１４
の内周面を周溶接することができる。
第２図は反射ミラー１１の斜視図であり、符号１６はミ
ラーコート面である。以下で詳細に説明するが、本発明
によれば、反射ミラー１１の冷却は殆ど不要であるので
、反射ミラー１１の冷却手段としては空冷式の放熱フィ
ン１７を設けるだけで十分である。
ラーコート面である。以下で詳細に説明するが、本発明
によれば、反射ミラー１１の冷却は殆ど不要であるので
、反射ミラー１１の冷却手段としては空冷式の放熱フィ
ン１７を設けるだけで十分である。
第３図は第１−の発明に従った反射ミラーの断面図であ
る。図示の如く、この反射ミラー■１は、銅から戊るミ
ラー基材１の表面上に、２０００〜３０００人の厚さの
タングステンコーティング層２０が形成されている。更
に、このタングステンコーティングＮ２０の上には、高
反射率金属コーティング層である金コーティング層２が
５０００人の厚さで設けられている。これらのＩ２０．
２は蒸着或はイオンブレーティング等により形成される
。
る。図示の如く、この反射ミラー■１は、銅から戊るミ
ラー基材１の表面上に、２０００〜３０００人の厚さの
タングステンコーティング層２０が形成されている。更
に、このタングステンコーティングＮ２０の上には、高
反射率金属コーティング層である金コーティング層２が
５０００人の厚さで設けられている。これらのＩ２０．
２は蒸着或はイオンブレーティング等により形成される
。
タングステンは拡散係数が小さいため、タングステンコ
ーティング層２０が金コーティングＮ２の裏面關に存す
ると、金コーティ〉・Ｉ１２とミラー基材ｌとの間の拡
散防止層として働き、高出力のレーザビームを長時間に
わたりこの反射ミラー１１に照射しても、金と銅の相互
拡散は生じない。このような拡散防止機能を有する他の
材料としてはモリブデンがある。
ーティング層２０が金コーティングＮ２の裏面關に存す
ると、金コーティ〉・Ｉ１２とミラー基材ｌとの間の拡
散防止層として働き、高出力のレーザビームを長時間に
わたりこの反射ミラー１１に照射しても、金と銅の相互
拡散は生じない。このような拡散防止機能を有する他の
材料としてはモリブデンがある。
第３図の反射ミラー１１の変形として、タングステンコ
ーティング層２０とミラー基材１との間にニッケルコー
ティング層を形成したものが考えられるが（図示しない
）、この反射ミラーに対して高出力のレーザビームを無
冷却で長時間照射した場合のオージェ分析結果を第７図
に示す。タングステンコーティング層のない場合の第１
１図と比較すると、ミラー表面へのニッケル或は銅の拡
散は皆無であり、ニッケルや銅の酸化の恐れがなく高反
射率が確保されることが分かるであろう。
ーティング層２０とミラー基材１との間にニッケルコー
ティング層を形成したものが考えられるが（図示しない
）、この反射ミラーに対して高出力のレーザビームを無
冷却で長時間照射した場合のオージェ分析結果を第７図
に示す。タングステンコーティング層のない場合の第１
１図と比較すると、ミラー表面へのニッケル或は銅の拡
散は皆無であり、ニッケルや銅の酸化の恐れがなく高反
射率が確保されることが分かるであろう。
次に、第４図は第２の発明による反射ミラーを示したも
のである。この反射ミラー１１は、５０００Åの金コー
ティング層２上にλ／４（λ−１，０６）ｔｎ）の酸化
アルミニウムから成る誘電体コーティング層２１を設け
たものである。
のである。この反射ミラー１１は、５０００Åの金コー
ティング層２上にλ／４（λ−１，０６）ｔｎ）の酸化
アルミニウムから成る誘電体コーティング層２１を設け
たものである。
この誘電体コーティング１２１は、金コーティング層２
の酸化防止の機能を有する。また、この反射ミラー１１
の反射率は、誘電体コーティング層２１がないものに比
して２％程度高く、水冷を行うことなく長時間、高温環
境下で使用することができる。
の酸化防止の機能を有する。また、この反射ミラー１１
の反射率は、誘電体コーティング層２１がないものに比
して２％程度高く、水冷を行うことなく長時間、高温環
境下で使用することができる。
第５図は第３の発明による反射ミラーである。
図示するように、この反射ミラー１１は、第３図の反射
ミラーに更に、２０００〜３０００人の厚さのタングス
テンコーティング層２０をミラー基材１と金コーティン
グ層２との間に形成した形となっており、第１の発明と
第２の発明の効果を併せ持っている。
ミラーに更に、２０００〜３０００人の厚さのタングス
テンコーティング層２０をミラー基材１と金コーティン
グ層２との間に形成した形となっており、第１の発明と
第２の発明の効果を併せ持っている。
即ち、タングステンコーティング層２０が金コーティン
グＪ’！！２とミラー基材１との間の相互拡散を防止す
ると共に、誘電体コーティング層２１が金コーティング
層２の酸化を防止している。
グＪ’！！２とミラー基材１との間の相互拡散を防止す
ると共に、誘電体コーティング層２１が金コーティング
層２の酸化を防止している。
尚、金コーティング層２上の誘電体コーティング層は１
層に限らず、第６図の如く２層以上としても良い。２層
とした場合、下側の誘電体コーティング層２１として酸
化ケイ素又はフッ化イツトリウム（ＹＦ３）、上側の誘
電体コーティング層２２として酸化チタンを用いたもの
が考えられる。この実施例では、各層の厚さはλ／４で
ある。
層に限らず、第６図の如く２層以上としても良い。２層
とした場合、下側の誘電体コーティング層２１として酸
化ケイ素又はフッ化イツトリウム（ＹＦ３）、上側の誘
電体コーティング層２２として酸化チタンを用いたもの
が考えられる。この実施例では、各層の厚さはλ／４で
ある。
このように誘電体コーティング層を複数層とすることで
、反射ミラー１１の反射率を単層よりも更に向上させる
ことができる。
、反射ミラー１１の反射率を単層よりも更に向上させる
ことができる。
第８図は、銅のミラー基材１、タングステンコーティン
グ層２０、金コーティング層２、酸化ケイ素の誘電体コ
ーティングＷ１２１及び酸化チタンの誘電体コーティン
グｌＩ２２から成る反射ミラー１１（第６図〉の反射率
Ｒ及びミラー温度θのＹＡＧレーザビーム照射時間に対
する変化を示したものである。図示の如く、レーザ照射
出力が６７０Ｗの高出力で、５００秒のレーザビーム照
射を行った場合であっても、反射ミラー１１の反射率は
９８％以上に保たれ、また、ミラー温度が４００℃まで
上昇しても反射率は９８％で安定している。また、この
測定においては、照射雰囲気は２％の酸素入り窒素雰囲
気としたが、酸化が発生せず、酸素に対しても反射ミラ
ー１１は安定した反射率を確保していることが分かるに
の効果は第１２図を参照することで更に明らかとなろう
。
グ層２０、金コーティング層２、酸化ケイ素の誘電体コ
ーティングＷ１２１及び酸化チタンの誘電体コーティン
グｌＩ２２から成る反射ミラー１１（第６図〉の反射率
Ｒ及びミラー温度θのＹＡＧレーザビーム照射時間に対
する変化を示したものである。図示の如く、レーザ照射
出力が６７０Ｗの高出力で、５００秒のレーザビーム照
射を行った場合であっても、反射ミラー１１の反射率は
９８％以上に保たれ、また、ミラー温度が４００℃まで
上昇しても反射率は９８％で安定している。また、この
測定においては、照射雰囲気は２％の酸素入り窒素雰囲
気としたが、酸化が発生せず、酸素に対しても反射ミラ
ー１１は安定した反射率を確保していることが分かるに
の効果は第１２図を参照することで更に明らかとなろう
。
前述した各反射ミラー１１はいずれも、３００〜４００
℃の高温下で長時間にわたり９７〜９９％の高反射率が
確保でき、これらの反射ミラー１１を有するレーザ溶接
機では、レーザ出力８００Ｗにおいて、溶接速度０．５
ｍ／ｍｉｎの溶接を連続２００ビード以上行うことがで
きることが確認されている。
℃の高温下で長時間にわたり９７〜９９％の高反射率が
確保でき、これらの反射ミラー１１を有するレーザ溶接
機では、レーザ出力８００Ｗにおいて、溶接速度０．５
ｍ／ｍｉｎの溶接を連続２００ビード以上行うことがで
きることが確認されている。
［発明の効果］
上述したように、第１の発明では、金のような高反射率
金属コーティング層の裏面側にタングステン、モリブデ
ン等の拡散係数の小さなコーティング層が設けられるの
で、高反射率金属コーティング層とミラー基材にッケル
コーティング層等の下地金属コーティング層）との間の
相互拡散が防止され、それによってミラー反射率が維持
され、ミラー温度の上昇が防止される。
金属コーティング層の裏面側にタングステン、モリブデ
ン等の拡散係数の小さなコーティング層が設けられるの
で、高反射率金属コーティング層とミラー基材にッケル
コーティング層等の下地金属コーティング層）との間の
相互拡散が防止され、それによってミラー反射率が維持
され、ミラー温度の上昇が防止される。
また、第２の発明では、高反射率金属コーティング層上
の誘電体コーティング層により、高反射率金属コーティ
ング層の酸化が防止されると共に、反射率も改善される
。よって、この場合もミラー温度の上昇が防止される。
の誘電体コーティング層により、高反射率金属コーティ
ング層の酸化が防止されると共に、反射率も改善される
。よって、この場合もミラー温度の上昇が防止される。
第３の発明は、誘電体コーティング層及び拡散防止用の
コーティング層を有して入るので、第１の発明又は第２
の発明以上の効果を奏することができる。
コーティング層を有して入るので、第１の発明又は第２
の発明以上の効果を奏することができる。
従って、第１、第２及び第３の発明による反射ミラーは
いずれも、水冷を行わずとも長時間、高温環境下で使用
できる。また、水冷機構のような大掛りな冷却手段が不
要となるので、装置のコンパクト化を図ることが可能と
なる。
いずれも、水冷を行わずとも長時間、高温環境下で使用
できる。また、水冷機構のような大掛りな冷却手段が不
要となるので、装置のコンパクト化を図ることが可能と
なる。
第１図は本発明の反射ミラーが適用されたレーザ溶接機
のレーザビーム照射装置を示す概略説明図、第２図は本
発明の反射ミラーの斜視図、第３図は第１の発明に従っ
た反射ミラーの断面図、第４図は第２の発明に従った反
射ミラーの断面図、第５図は第３の発明に従った反射ミ
ラーの断面図、第６図は誘電体コーティング層が２層設
けられた第３の発明に従った反射ミラーの断面図、第７
図は第１の発明による反射ミラーの使用後におけるミラ
ーコーティング部のオージェ分析結果を示すグラフ、第
８図は第３の発明による反射ミラーのレーザビーム照射
時間と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフ、第９図
及び第１０図はそれぞれ従来の反射ミラーを示す断面図
、第１１図は第■０図の反射ミラーの使用後におけるミ
ラーコーティング部のオージェ分析結果を示すグラフ、
第１２図は第１０図の反射ミラーのレーザビーム照射時
間と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフである０図
中、 １・・・ミラー基材 ２・・・金コーティング層 （高反射率金属コーティング層） １０・・・レーザビーム照射装置 １１・・・反射ミラー
のレーザビーム照射装置を示す概略説明図、第２図は本
発明の反射ミラーの斜視図、第３図は第１の発明に従っ
た反射ミラーの断面図、第４図は第２の発明に従った反
射ミラーの断面図、第５図は第３の発明に従った反射ミ
ラーの断面図、第６図は誘電体コーティング層が２層設
けられた第３の発明に従った反射ミラーの断面図、第７
図は第１の発明による反射ミラーの使用後におけるミラ
ーコーティング部のオージェ分析結果を示すグラフ、第
８図は第３の発明による反射ミラーのレーザビーム照射
時間と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフ、第９図
及び第１０図はそれぞれ従来の反射ミラーを示す断面図
、第１１図は第■０図の反射ミラーの使用後におけるミ
ラーコーティング部のオージェ分析結果を示すグラフ、
第１２図は第１０図の反射ミラーのレーザビーム照射時
間と反射率、ミラー温度の関係を示すグラフである０図
中、 １・・・ミラー基材 ２・・・金コーティング層 （高反射率金属コーティング層） １０・・・レーザビーム照射装置 １１・・・反射ミラー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ミラー基材上に、レーザビームを反射する高反射率
金属コーティング層が形成されているレーザ用反射ミラ
ーにおいて、前記高反射率金属コーティング層の裏面側
に拡散係数の小さなコーティング層を設けたことを特徴
とするレーザ用反射ミラー。 ２、ミラー基材上に、レーザビームを反射する高反射率
金属コーティング層が形成されているレーザ用反射ミラ
ーにおいて、前記高反射率金属コーティング層の表面上
に少なくとも１層の誘電体コーティング層を設けたこと
を特徴とするレーザ用反射ミラー。 ３、ミラー基材上に、レーザビームを反射する高反射率
金属コーティング層が形成されているレーザ用反射ミラ
ーにおいて、前記高反射率金属コーティング層の裏面側
に拡散係数の小さなコーティング層を設けると共に、前
記高反射率金属コーティング層を設けたことを特徴とす
るレーザ用反射ミラー。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1204521A JP2659809B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | レーザ用反射ミラー |
| US07/558,238 US5097110A (en) | 1989-08-07 | 1990-07-26 | Reflecting mirror for a laser beam and laser beam welding apparatus, including the same laser beam reflecting mirror |
| EP90114585A EP0418519B1 (en) | 1989-08-07 | 1990-07-30 | Reflecting mirror for a laser beam and laserbeam welding apparatus including the same |
| DE69033313T DE69033313T2 (de) | 1989-08-07 | 1990-07-30 | Reflektierender Spiegel für einen Laserstrahl und ihn verwendender Laserstrahlschweissapparat |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1204521A JP2659809B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | レーザ用反射ミラー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0371990A true JPH0371990A (ja) | 1991-03-27 |
| JP2659809B2 JP2659809B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=16491912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1204521A Expired - Lifetime JP2659809B2 (ja) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | レーザ用反射ミラー |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5097110A (ja) |
| EP (1) | EP0418519B1 (ja) |
| JP (1) | JP2659809B2 (ja) |
| DE (1) | DE69033313T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP1803524A1 (en) * | 2005-12-28 | 2007-07-04 | Yamazaki Mazak Corporation | Laser hardening tool with an optical waveguide having a rectangular cross-sectional shape |
| JP2010535357A (ja) * | 2007-07-31 | 2010-11-18 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | フォトニックガイド装置 |
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| FR2683473B1 (fr) * | 1991-11-13 | 1994-03-04 | Framatome | Dispositif de travail au laser a l'interieur d'un element tubulaire. |
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