JPH0372230B2 - - Google Patents
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- JPH0372230B2 JPH0372230B2 JP23483383A JP23483383A JPH0372230B2 JP H0372230 B2 JPH0372230 B2 JP H0372230B2 JP 23483383 A JP23483383 A JP 23483383A JP 23483383 A JP23483383 A JP 23483383A JP H0372230 B2 JPH0372230 B2 JP H0372230B2
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- boron trifluoride
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Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Description
本発明はホウ素キレート化合物の製造法に関す
る。さらに詳しくは、本発明は式 （式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、
R2及びR3は同じ又は異なる低級アルキル基を、
X1及びX2は同じ又は異なるハロゲン原子を表わ
す）で表わされる化合物と三フツ化ホウ素又は三
フツ化ホウ素錯体とを酸無水物中で反応させるこ
とからなる式 （式中、R1，X1及びX2は前記に同じ）で表わ
される化合物の製造法に関する。 式（）の化合物は特開昭57−46986号公報に
記載された抗菌物質の合成中間体としてきわめて
重要な化合物である。 従来、式（）の化合物の製造法としては、式
（）の化合物を三フツ化ホウ素又は三フツ化ホ
ウ素錯体と反応させることからなる製造法が知ら
れている。（特開昭58−29789号公報参照） しかしながら、この製造法では反応温度を200
〜240℃に保つた場合には目的化合物が収率良く
得られるが、反応温度をそれよりも低く保つた場
合、収率が低下している。従つて、目的化合物を
収率良く得るには反応温度を200℃以上という高
温に保たねばならず、設備面、材質面及び危険性
等から、従来の製造法は工業的製造法として満足
できるものではない。 本発明者等は、従来法のかかる欠点を克服すべ
く鋭意検討した結果本発明を完成した。 即ち、本発明は式（）の化合物と三フツ化ホ
ウ素又は三フツ化ホウ素錯体とを酸無水物中で反
応させることからなる式（）の化合物の製造法
である。 三フツ化ホウ素錯体としては三フツ化ホウ素の
テトラヒドロフラン錯体、ジエチルエーテル錯
体、ジブチルエーテル錯体、酢酸錯体及びメタノ
ール錯体等があげられる。 三フツ化ホウ素及び三フツ化ホウ素錯体は、そ
れぞれ単独又は２種以上混合して使用され、その
使用量は通常式（）の化合物に対し１〜３倍モ
ルの範囲、好ましくは１〜２倍モルの範囲であ
る。 酸無水物としては無水酢酸、無水プロピオン酸
及び無水酪酸等の脂肪族カルボン酸の無水物並び
に安息香酸等の炭素環式カルボン酸の無水物があ
げられる。これらの酸無水物は通常単独で使用さ
れるが、２種以上混合して使用してもよく、その
使用量は通常式（）の化合物１部に対して0.5
〜５部の範囲が好適である。 反応は80〜150℃、好ましくは100〜140℃で30
分〜４時間、好ましくは１〜２時間保つことによ
り実施される。 反応が進行すると、カルボン酸のアルキルエス
テル、カルボン酸並びにテトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、酢酸及びメタノール等の錯体溶
媒の如き副生物が生成するが、これらを反応系外
に除去しながら、例えば低沸点のものを留去しな
がら反応を行うと目的化合物の収率が一層向上す
ることがある。 反応終了後、反応液を冷却し析出する結晶をそ
のまま濾取しメタノール等で洗浄するか、もしく
は反応液にメタノール又はエタノール等のアルコ
ール系溶媒、アセトン等のケトン系溶媒、酢酸エ
ステル等のエステル系溶媒、エチレンジクロリド
等の塩素系溶媒あるいはベンゼン等の芳香族系溶
媒を注加した後析出した結晶を濾取してメタノー
ル等で洗浄すると、目的とする式（）の化合物
を容易に得ることができる。 本発明は比較的低温で目的とする式（）の化
合物を高収率及び高純度で得ることができ、工業
的にきわめて有用な製造法である。 実施例 １ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン5.2ｇ及
びジエチルエトキシメチレンマロネート7.4ｇの
混合物を130〜140℃で生成するエタノールを留去
しながら５時間加熱撹拌し、（７，８−ジフルオ
ロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−4H−１，
４−ベンズオキサジン−４−イル）メチレンマロ
ン酸ジエチルを生成させる。減圧下にエタノール
を留去し、残査に三フツ化ホウ素テトラヒドロフ
ラン錯体８ｇ及び無水酢酸10mlを加え、１時間撹
拌還流する。その後102〜135℃で低沸点留分を留
去しながら１時間撹拌する。冷後エチレンジクロ
リド30mlを加え析出した結晶を濾取し、メタノー
ルで洗浄して乾燥する。得られた結晶のIR，
NMR、元素分析及びTLC等は既知の９，10−ジ
フルオロ−３−メチル−７−オキソ−２，３−ジ
ヒドロ−7H−ピリド〔１，２，３−de〕〔１，
４〕ベンズオキサジン−６−カルボン酸−BF2−
キレートと一致した。収量8.01ｇ（収率85.2％） 実施例 ２ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン9.33ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート13.1ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて（７，８
−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−
4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）メ
チレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下に
エタノールを留去し、残査を無水酢酸18mlに溶解
後100〜120℃で撹拌下に三フツ化ホウ素テトラヒ
ドロフラン錯体7.76ｇを滴下する。滴下後30分間
撹拌還流し、次いで102〜117℃で低沸点の物質を
留去しながら１時間撹拌する。冷後、エチレンジ
クロリド54mlで晶析させる。析出した結晶を濾取
しメタノール54mlで洗浄し、９，10−ジフルオロ
−３−メチル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−
7H−ピリド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズ
オキサジン−６−カルボン酸−BF2−キレートを
得る。収量13.72ｇ（収率82.8％） 実施例 ３ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン13.15ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート16.89
ｇの混合物を実施例１と同様に反応させて（７，
８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル
−4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）
メチレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査を無水酢酸24mlに溶
解し、100〜120℃で撹拌下に三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体10.93ｇを滴下する。滴下後
30分間撹拌還流し、ついで低沸点留分を留去しな
がら２時間撹拌する。冷後アセトン30mlで晶析さ
せる。析出した結晶を濾取し、メタノール50mlで
洗浄し、９，10−ジフルオロ−３−メチル−７−
オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリド〔１，
２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジン−６−
カルボン酸−BF2−キレートを得る。収量20.14
ｇ（収率86.2％） 実施例 ４ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン2.34ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート3.29ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査をジイソプロピルエ
ーテルで再結晶すると白色結晶の（７，８−ジフ
ルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−4H−
１，４−ベンズオキサジン−４−イル）メチレン
マロン酸ジエチルを得る。融点68℃。 NMR（CDCl3，δ，ppm） 6.67〜6.87（2H，ｍ，芳香族プロトン） 4.0〜4.47（7H，ｍ，−ＣＨ 2−CT3，
る。さらに詳しくは、本発明は式 （式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、
R2及びR3は同じ又は異なる低級アルキル基を、
X1及びX2は同じ又は異なるハロゲン原子を表わ
す）で表わされる化合物と三フツ化ホウ素又は三
フツ化ホウ素錯体とを酸無水物中で反応させるこ
とからなる式 （式中、R1，X1及びX2は前記に同じ）で表わ
される化合物の製造法に関する。 式（）の化合物は特開昭57−46986号公報に
記載された抗菌物質の合成中間体としてきわめて
重要な化合物である。 従来、式（）の化合物の製造法としては、式
（）の化合物を三フツ化ホウ素又は三フツ化ホ
ウ素錯体と反応させることからなる製造法が知ら
れている。（特開昭58−29789号公報参照） しかしながら、この製造法では反応温度を200
〜240℃に保つた場合には目的化合物が収率良く
得られるが、反応温度をそれよりも低く保つた場
合、収率が低下している。従つて、目的化合物を
収率良く得るには反応温度を200℃以上という高
温に保たねばならず、設備面、材質面及び危険性
等から、従来の製造法は工業的製造法として満足
できるものではない。 本発明者等は、従来法のかかる欠点を克服すべ
く鋭意検討した結果本発明を完成した。 即ち、本発明は式（）の化合物と三フツ化ホ
ウ素又は三フツ化ホウ素錯体とを酸無水物中で反
応させることからなる式（）の化合物の製造法
である。 三フツ化ホウ素錯体としては三フツ化ホウ素の
テトラヒドロフラン錯体、ジエチルエーテル錯
体、ジブチルエーテル錯体、酢酸錯体及びメタノ
ール錯体等があげられる。 三フツ化ホウ素及び三フツ化ホウ素錯体は、そ
れぞれ単独又は２種以上混合して使用され、その
使用量は通常式（）の化合物に対し１〜３倍モ
ルの範囲、好ましくは１〜２倍モルの範囲であ
る。 酸無水物としては無水酢酸、無水プロピオン酸
及び無水酪酸等の脂肪族カルボン酸の無水物並び
に安息香酸等の炭素環式カルボン酸の無水物があ
げられる。これらの酸無水物は通常単独で使用さ
れるが、２種以上混合して使用してもよく、その
使用量は通常式（）の化合物１部に対して0.5
〜５部の範囲が好適である。 反応は80〜150℃、好ましくは100〜140℃で30
分〜４時間、好ましくは１〜２時間保つことによ
り実施される。 反応が進行すると、カルボン酸のアルキルエス
テル、カルボン酸並びにテトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、酢酸及びメタノール等の錯体溶
媒の如き副生物が生成するが、これらを反応系外
に除去しながら、例えば低沸点のものを留去しな
がら反応を行うと目的化合物の収率が一層向上す
ることがある。 反応終了後、反応液を冷却し析出する結晶をそ
のまま濾取しメタノール等で洗浄するか、もしく
は反応液にメタノール又はエタノール等のアルコ
ール系溶媒、アセトン等のケトン系溶媒、酢酸エ
ステル等のエステル系溶媒、エチレンジクロリド
等の塩素系溶媒あるいはベンゼン等の芳香族系溶
媒を注加した後析出した結晶を濾取してメタノー
ル等で洗浄すると、目的とする式（）の化合物
を容易に得ることができる。 本発明は比較的低温で目的とする式（）の化
合物を高収率及び高純度で得ることができ、工業
的にきわめて有用な製造法である。 実施例 １ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン5.2ｇ及
びジエチルエトキシメチレンマロネート7.4ｇの
混合物を130〜140℃で生成するエタノールを留去
しながら５時間加熱撹拌し、（７，８−ジフルオ
ロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−4H−１，
４−ベンズオキサジン−４−イル）メチレンマロ
ン酸ジエチルを生成させる。減圧下にエタノール
を留去し、残査に三フツ化ホウ素テトラヒドロフ
ラン錯体８ｇ及び無水酢酸10mlを加え、１時間撹
拌還流する。その後102〜135℃で低沸点留分を留
去しながら１時間撹拌する。冷後エチレンジクロ
リド30mlを加え析出した結晶を濾取し、メタノー
ルで洗浄して乾燥する。得られた結晶のIR，
NMR、元素分析及びTLC等は既知の９，10−ジ
フルオロ−３−メチル−７−オキソ−２，３−ジ
ヒドロ−7H−ピリド〔１，２，３−de〕〔１，
４〕ベンズオキサジン−６−カルボン酸−BF2−
キレートと一致した。収量8.01ｇ（収率85.2％） 実施例 ２ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン9.33ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート13.1ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて（７，８
−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−
4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）メ
チレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下に
エタノールを留去し、残査を無水酢酸18mlに溶解
後100〜120℃で撹拌下に三フツ化ホウ素テトラヒ
ドロフラン錯体7.76ｇを滴下する。滴下後30分間
撹拌還流し、次いで102〜117℃で低沸点の物質を
留去しながら１時間撹拌する。冷後、エチレンジ
クロリド54mlで晶析させる。析出した結晶を濾取
しメタノール54mlで洗浄し、９，10−ジフルオロ
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7H−ピリド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズ
オキサジン−６−カルボン酸−BF2−キレートを
得る。収量13.72ｇ（収率82.8％） 実施例 ３ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン13.15ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート16.89
ｇの混合物を実施例１と同様に反応させて（７，
８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル
−4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）
メチレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査を無水酢酸24mlに溶
解し、100〜120℃で撹拌下に三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体10.93ｇを滴下する。滴下後
30分間撹拌還流し、ついで低沸点留分を留去しな
がら２時間撹拌する。冷後アセトン30mlで晶析さ
せる。析出した結晶を濾取し、メタノール50mlで
洗浄し、９，10−ジフルオロ−３−メチル−７−
オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリド〔１，
２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジン−６−
カルボン酸−BF2−キレートを得る。収量20.14
ｇ（収率86.2％） 実施例 ４ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン2.34ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート3.29ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査をジイソプロピルエ
ーテルで再結晶すると白色結晶の（７，８−ジフ
ルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−4H−
１，４−ベンズオキサジン−４−イル）メチレン
マロン酸ジエチルを得る。融点68℃。 NMR（CDCl3，δ，ppm） 6.67〜6.87（2H，ｍ，芳香族プロトン） 4.0〜4.47（7H，ｍ，−ＣＨ 2−CT3，
【式】
7.74（1H，ｓ，−ＣＨ＝Ｃ）
1.18〜1.47（9H，−CH2−ＣＨ 3，CH−ＣＨ
３） 得られた結晶３ｇに三フツ化ホウ素テトラヒド
ロフラン錯体1.54ｇ及び無水酢酸３mlを加え、外
温150℃の低沸点の物質を留去しながら１時間撹
拌する。冷後析出した結晶を濾取し、冷メタノー
ル10mlで洗浄し、９，10−ジフルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリ
ド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジ
ン−６−カルボン酸−BF2−キレートを得る。収
量2.31ｇ（収率83.1％） 実施例 ５ （７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３
−メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン−４
−イル）メチレンマロン酸ジエチル３ｇに三フツ
化ホウ素テトラヒドロフラン錯体1.54ｇ及び無水
酢酸３mlを加え、撹拌下１時間還流する。冷後析
出した結晶を濾取し、冷メタノール10mlで洗浄す
ると、９，10−ジフルオロ−３−メチル−７−オ
キソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリド〔１，２，
３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジン−６−カル
ボン酸−BF2−キレートが得られる。収量2.18ｇ
（収率78.5％） 実施例 ６ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン1.56ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート2.19ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて、（７，
８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル
−4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）
メチレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査を無水プロピオン酸
３ml及び三フツ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体
1.54ｇを加え１時間撹拌還流する。次いで、外温
150℃で低沸点の物質を留去しながら１時間撹拌
する。反応後氷冷しエチレンジクロリド10mlで晶
析させる。析出した結晶を濾取し冷メタノールで
洗浄し乾燥すると、９，10−ジフルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピ
リド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサ
ジン−６−カルボン酸−BF2−キレートを得る。
収量2.26ｇ（収率81.3％） 実施例 ７ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン1.56ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート2.19ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて、（７，
８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル
−4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）
メチレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査に三フツ化ホウ素テ
トラヒドロフラン錯体1.54ｇ及び無水酪酸３mlを
加え、１時間撹拌還流する。次いで、外温150℃
で低沸点の物質を留去しながら１時間撹拌する。
反応後氷冷し、エチレンジクロリド10mlで晶析さ
せる。析出した結晶を濾取し、冷メタノールで洗
浄し、乾燥すると９，10−ジフルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリ
ド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジ
ン−６−カルボン酸−BF2−キレートを得られ
る。収量2.21ｇ（収率79.5％） 実施例 ８ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン2.34ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート3.27ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて（７，８
−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−
4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）メ
チレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下に
エタノールを留去し、残査を三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体1.94ｇ及び無水安息香酸５ml
を加え、１時間撹拌還流する。次いで、外温150
℃で低沸点の物質を留去しながら１時間撹拌す
る。反応後氷冷し、エチレンジクロリド15mlで晶
析させる。析出した結晶を濾取し、メタノールで
洗浄し乾燥すると、９，10−ジフルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピ
リド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサ
ジン−６−カルボン酸−BF2−キレートが得られ
る。収量3.42ｇ（収率82.4％）
３） 得られた結晶３ｇに三フツ化ホウ素テトラヒド
ロフラン錯体1.54ｇ及び無水酢酸３mlを加え、外
温150℃の低沸点の物質を留去しながら１時間撹
拌する。冷後析出した結晶を濾取し、冷メタノー
ル10mlで洗浄し、９，10−ジフルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリ
ド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジ
ン−６−カルボン酸−BF2−キレートを得る。収
量2.31ｇ（収率83.1％） 実施例 ５ （７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３
−メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン−４
−イル）メチレンマロン酸ジエチル３ｇに三フツ
化ホウ素テトラヒドロフラン錯体1.54ｇ及び無水
酢酸３mlを加え、撹拌下１時間還流する。冷後析
出した結晶を濾取し、冷メタノール10mlで洗浄す
ると、９，10−ジフルオロ−３−メチル−７−オ
キソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリド〔１，２，
３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジン−６−カル
ボン酸−BF2−キレートが得られる。収量2.18ｇ
（収率78.5％） 実施例 ６ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン1.56ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート2.19ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて、（７，
８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル
−4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）
メチレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査を無水プロピオン酸
３ml及び三フツ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体
1.54ｇを加え１時間撹拌還流する。次いで、外温
150℃で低沸点の物質を留去しながら１時間撹拌
する。反応後氷冷しエチレンジクロリド10mlで晶
析させる。析出した結晶を濾取し冷メタノールで
洗浄し乾燥すると、９，10−ジフルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピ
リド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサ
ジン−６−カルボン酸−BF2−キレートを得る。
収量2.26ｇ（収率81.3％） 実施例 ７ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン1.56ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート2.19ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて、（７，
８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル
−4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）
メチレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下
にエタノールを留去し、残査に三フツ化ホウ素テ
トラヒドロフラン錯体1.54ｇ及び無水酪酸３mlを
加え、１時間撹拌還流する。次いで、外温150℃
で低沸点の物質を留去しながら１時間撹拌する。
反応後氷冷し、エチレンジクロリド10mlで晶析さ
せる。析出した結晶を濾取し、冷メタノールで洗
浄し、乾燥すると９，10−ジフルオロ−３−メチ
ル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピリ
ド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサジ
ン−６−カルボン酸−BF2−キレートを得られ
る。収量2.21ｇ（収率79.5％） 実施例 ８ ７，８−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−
メチル−4H−１，４−ベンズオキサジン2.34ｇ
及びジエチルエトキシメチレンマロネート3.27ｇ
の混合物を実施例１と同様に反応させて（７，８
−ジフルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−
4H−１，４−ベンズオキサジン−４−イル）メ
チレンマロン酸ジエチルを生成させる。減圧下に
エタノールを留去し、残査を三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体1.94ｇ及び無水安息香酸５ml
を加え、１時間撹拌還流する。次いで、外温150
℃で低沸点の物質を留去しながら１時間撹拌す
る。反応後氷冷し、エチレンジクロリド15mlで晶
析させる。析出した結晶を濾取し、メタノールで
洗浄し乾燥すると、９，10−ジフルオロ−３−メ
チル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−7H−ピ
リド〔１，２，３−de〕〔１，４〕ベンズオキサ
ジン−６−カルボン酸−BF2−キレートが得られ
る。収量3.42ｇ（収率82.4％）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 （式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、
R2及びR3は同じ又は異なる低級アルキル基を、
X1及びX2は同じ又は異なるハロゲン原子を表わ
す）で表わされる化合物と三フツ化ホウ素又は三
フツ化ホウ素錯体とを酸無水物中で反応させるこ
とを特徴とする式 （式中、R1，X1及びX2は前記に同じ）で表わ
される化合物の製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23483383A JPS60126290A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | ホウ素キレ−ト化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23483383A JPS60126290A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | ホウ素キレ−ト化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60126290A JPS60126290A (ja) | 1985-07-05 |
| JPH0372230B2 true JPH0372230B2 (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=16977088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23483383A Granted JPS60126290A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | ホウ素キレ−ト化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60126290A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| HU198709B (en) * | 1987-04-08 | 1989-11-28 | Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet | Process for producing quinoline-carboxylic acid derivatives |
-
1983
- 1983-12-13 JP JP23483383A patent/JPS60126290A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60126290A (ja) | 1985-07-05 |
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