JPH0212476B2 - - Google Patents

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JPH0212476B2
JPH0212476B2 JP23368382A JP23368382A JPH0212476B2 JP H0212476 B2 JPH0212476 B2 JP H0212476B2 JP 23368382 A JP23368382 A JP 23368382A JP 23368382 A JP23368382 A JP 23368382A JP H0212476 B2 JPH0212476 B2 JP H0212476B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
methyl
reaction
sulfuric acid
Prior art date
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Expired
Application number
JP23368382A
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English (en)
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JPS59122493A (ja
Inventor
Toshihiro Fujiwara
Hideaki Tsurumi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Daiichi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP23368382A priority Critical patent/JPS59122493A/ja
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はピリドベンズオキサジン誘導体の製法
に関する。更に詳しくは、本発明は式 〔式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、
X1及びX2は同じ又は異なるハロゲン原子を意味
し、R2は式
【式】又は
【式】 (式中、R3は低級アルキル基を、R4及びR5
同じ又は異なる低級アルキル基を意味する。)で
表わされる基を意味する。〕で表わされる化合物
を酸無水物及び硫酸と反応させて式 (式中、R1,X1及びX2は前記に同じであり、
R6は水素原子又は低級アルキル基を意味する。)
で表わされる化合物を製する方法に関する。 化合物()は、医療上有用なピリドベンズオ
キサジン誘導体(特開昭57−46986号公報参照)
の中間体として重要な化合物である。 化合物()から化合物()への製法につい
ては、ポリリン酸エステルを用いる方法が公知で
ある(前記公報参照)。しかし、この方法は150℃
という高温を必要とすること、廃棄物として大量
のリン系化合物が生成すること、及び収率が低い
ことなど、工業的製法として必ずしも満足できる
ものではない。 本発明者らは、化合物()の工業的に有利な
製法について鋭意研究を重ねた結果、本発明を完
成するに至つた。 即ち、本発明は化合物()を酸無水物及び硫
酸と反応させることからなる化合物()の製法
である。 原料化合物()は公知の方法(特開昭57−
46986号公報)または参考例に示した方法により
製造され、結晶として単離後または反応液のまま
で本発明方法の原料として用いることができる。 本発明の反応を行なうには、化合物()及び
酸無水物(例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、
無水酪酸)の混合物に硫酸を添加すればよい。添
加方法は特に限定されず、室温下0.5〜60分間で
加えるのが好ましいが、加温下に添加してもよ
い。この反応は硫酸の添加終了時点でほとんど終
了しているが、さらに室温〜150℃の温度範囲に
5〜120分間保ち、反応の完結を図つてもよい。 添加される硫酸は、収率の面から濃度が70%
(重量)以下のものは好ましくなく、80%(重量)
以上のものが使用されるが、特に90%(重量)以
上のものが好ましい。 硫酸の使用量は化合物()1部に対し0.1〜
5部の範囲(重量比)が好適であり、又酸無水物
の使用量は化合物()1部に対し0.5〜10倍の
範囲(重量比)が好適である。 反応終了後、生成した化合物()は、反応液
を冷却するか、もしくは冷却後離溶性の溶媒を添
加して析出させ、これを濾取することにより容易
にかつ高収率で得ることができる。 生成した化合物()は単離することなく、反
応混合物のまま次の反応に供給することも可能で
あり、その場合、次の反応の目的化合物をより一
層好収率で収得し得ることもある。 本発明の方法は、緩和な条件下で単純な操作に
より、目的化合物を高収率かつ高純度で得ること
ができ、工業的にきわめて有用な製造法である。 次に実施例および参考例を記載する。 実施例 1 ジエチル(7,8―ジフルオロ―3―メチル―
2,3―ジヒドロ―4H―1,4―ベンズオキサ
ジン―4―イル)メチレンマロネート10.00g及
び無水酢酸25mlの混液に室温下97%硫酸10mlを加
え、さらに同温で30分間反応させる。反応液に氷
水を加え、析出する結晶を濾取し、水洗し、9,
10―ジフルオロ―3―メチル―7―オキソ―2,
3―ジヒドロ―7H―ピリド〔1,2,3―de〕
〔1,4〕ベンズオキサジン―6―カルボン酸エ
チルエステル8.38g(収率96.3%)をえた。融点
261℃。 元素分析値 C15H13NO4F2として 計算値 C 58.25,H 4.24,N 4.53 実測値 C 58.21,H 4.25,N 4.59 実施例 2 イソプロピリデン(7,8―ジフルオロ―3―
メチル―2,3―ジヒドロ―4H―1,4―ベン
ズオキサジン―4―イル)メチレンマロネート
4.33g及び無水酢酸22mlの混液に室温下97%硫酸
9mlを加え、同温で5分間反応させる。反応液に
氷水を加え、析出する結晶を濾取し、水洗し9,
10―ジフルオロ―3―メチル―7―オキソ―2,
3―ジヒドロ―7H―ピリド〔1,2,3―de〕
〔1,4〕ベンズオキサジン―6―カルボン酸
3.35g(収率93.1%)をえた。融点300℃以上。 元素分析値 C13H9NO4F2として 計算値 C 55.52,H 3.23,N 4.98 実測値 C 55.48,H 3.15,N 4.99 実施例 3 7,8―ジフルオロ―2,3―ジヒドロ―3―
メチル―4H―1,4―ベンズオキサジン8.00g
及びジエチル エトキシメチレンマロネート
10.27gの混合物を、140〜150℃で4時間加熱す
る。反応混合物に無水酢酸40mlを加え、次いで室
温下に97%硫酸16mlを3分間で加え、さらに室温
下15分間反応させる。反応液に氷水を加え、析出
する結晶を濾取し、水洗し、9,10―ジフルオロ
―3―メチル―7―オキソ―2,3―ジヒドロ―
7H―ピリド〔1,2,3―de〕〔1,4〕ベンズ
オキサジン―6―カルボン酸エチルエステル
12.28g(収率91.9%)をえた。融点260℃。 実施例 4 7,8―ジフルオロ―2,3―ジヒドロ―3―
メチル―4H―1,4―ベンズオキサジン2.00g、
オルトギ酸エチル1.76g、およびイソプロピリデ
ンマロネート1.71gの混液を110〜120℃で3分間
加熱する。固化した反応混合物に無水酢酸10mlを
加えて溶液とし、次いで室温下97%硫酸4mlを加
え、さらに同温に5分間保つ。反応液に氷水を加
え、析出する結晶を濾取し、水洗し、9,10―ジ
フルオロ―3―メチル―7―オキソ―2,3―ジ
ヒドロ―7H―ピリド〔1,2,3―de〕〔1,
4〕ベンズオキサジン―6―カルボン酸2.58g
(収率85.0%)をえた。融点300℃以上。 参考例 7,8―ジフルオロ―2,3―ジヒドロ―3―
メチル―4H―1,4―ベンズオキサジン1.00g、
オルトギ酸エチル0.88g、イソプロピリデンマロ
ネート0.86g及びトルエン10mlの混液を1.5時間
還流する。微量の粘性分解物を熱時濾去し、濾液
を減圧下濃縮する。残渣をクロロホルム―石油エ
ーテルより再結晶するとイソプロピリデン(7,
8―ジフルオロ―2,3―ジヒドロ―3―メチル
―4H―1,4―ベンズオキサジン―4―イル)
メチレンマロネート1.48gが得られた。融点186
〜187℃。 元素分析値 C16H15F2NO5として 計算値 C 56.64,H 4.46,N 4.13 実測値 C 56.30,H 4.23,N 4.16 1H―NMR(CDCl3,IS:TMS) δ(PPM) 1.54(3H,d,CH―CH3) 1.74(6H,s,
【式】) 4.28(2H,m,―O―CH2―) 4.90(1H,m,CH―CH3) 6.7〜6.9(2H,m,
【式】) 8.33(1H,s,N―CH=)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、
    X1及びX2は同じ又は異なるハロゲン原子を意味
    し、R2は式【式】又は 【式】 (式中、R3は低級アルキル基を、R4及びR5
    同じ又は異なる低級アルキル基を意味する。)で
    表わされる基を意味する。〕で表わされる化合物
    を酸無水物及び硫酸と反応させることを特徴とす
    る式 (式中、R1,X1及びX2は前記に同じであり、
    R6は水素原子又は低級アルキル基を意味する。)
    で表わされる化合物の製法。 2 特許請求の範囲第1項においてR1がメチル
    基、R6がエチル基、X1及びX2がフツ素原子であ
    る化合物の製法。 3 特許請求の範囲第1項においてR1がメチル
    基、R6が水素原子、X1及びX2がフツ素原子であ
    る化合物の製法。
JP23368382A 1982-12-27 1982-12-27 ピリドベンズオキサジン誘導体の製法 Granted JPS59122493A (ja)

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JP23368382A JPS59122493A (ja) 1982-12-27 1982-12-27 ピリドベンズオキサジン誘導体の製法

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JPS59122493A JPS59122493A (ja) 1984-07-14
JPH0212476B2 true JPH0212476B2 (ja) 1990-03-20

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